臺灣新竹地方法院97年度重智字第3號民事判決

裁判字號：臺灣新竹地方法院97年重智字第3號民事判決

裁判日期：民國100年01月05日

裁判案由：損害賠償

臺灣新竹地方法院民事判決97年度重智字第3號原告HitachiPlantTechnologies,Ltd.
ukuJap法定代理人Toshiaki
ukuJap訴訟代理人 孫小萍 律師訴訟代理人 林哲誠 律師複代理人丁○○被告乙000000000(即アルバック株式會社)
gawa法定代理人Hidenori
gaw被告己○○科技股份有限公司法定代理人丙○○○上列二人共同訴訟代理人 鍾文岳 律師上列二人共同訴訟代理人 王孟如 律師上列二人共同複代理人戊○○上列當事人間損害賠償事件，本院於民國99年12月22日辯論終結，判決如下：
主文原告之訴及假執行之聲請均駁回。
訴訟費用由原告負擔。
事實及理由
一、程序部分：
㈠、管轄權及準據法：本件原告、被告乙000000000均為外國法人，具有涉外因素，原告其主張被告侵害其專利權應負擔損害賠償責任，應適用涉外民事法律適用法，定本件之管轄法院及準據法。按因侵權行為涉訟者，得由行為地之法院管轄，為民事訴訟法第15條第1項所明定。涉外民事法律適用法雖未就法院之管轄予以規定，惟依原告主張侵權行為在本院轄區，且被告己○○科技股份有限公司設於本院轄區，因此依國際民事訴訟管轄之以原就被原則或類推適用我國民事訴訟法第2條第1項、第15條第1項規定，我國法院對本侵權事件應有管轄權。本院就此涉外之專利侵權事件有管轄權。次按，關於由侵權行為而生之債，依侵權行為地法，但中華民國法律不認為侵權行為者，不適用之。侵權行為之損害賠償及其他處分之請求，以中華民國法律認許者為限，涉外民事法律適用法第9條定有明文，故關於涉外侵權行為之準據法，應適用「侵權行為地」及「法庭地法」，依上開規定，本件涉外事件之準據法，自應適用中華民國之法律，合先敘明。
㈡、按當事人喪失訴訟能力或法定代理人死亡或其代理權消滅者，訴訟程序在有法定代理人或取得訴訟能力之本人，承受其訴訟以前當然停止；又第168條至第172條及前條所定之承受訴訟人，於得為承受時，應即為承受之聲明，而聲明承受訴訟，應提出書狀於受訴法院，民事訴訟法第170條、第175條第1項、第176條分別定有明文。本件原告之法定代理人原為住 川雅晴 (甲000000000000000)，嗣於訴訟程序進行中變更法定代理人為 東原敏昭 (ToshiakiHigashihara)，有現在事項全部證明書中、日文影本在卷可稽，業據原告於民國99年10月11日提出書狀聲明承受訴訟在案，揆諸前揭規定，並無不合，應予准許，首先敘明。
二、原告之聲明及陳述：
㈠、聲明：⒈被告乙000000000不得為販賣要約、販賣或為上述目的而進
口型號V28KA2之真空基板貼合機或其他侵害原告所有經濟部智慧財產局核准公告為第526367號專利之產品之行為。
⒉被告己○○科技股份有限公司不得為販賣要約、販賣型號V2
8KA2之真空基板貼合機或其他侵害原告所有經濟部智慧財產局核准公告為第526367號專利之產品之行為。
⒊被告應連帶賠償原告新台幣(下同)7百萬元及自起訴狀繕本送達翌日起至清償日止按週年利率百分之5計算之利息。
⒋訴訟費用由被告連帶負擔。
⒌第3項聲明，原告願供擔保請准宣告假執行。
㈡、陳述：⒈被告乙000000000及被告己○○科技股份有限公司共同侵害
原告之專利⑴被告乙000000000及被告己○○科技股份有限公司共同販
售侵害原告系爭專利之產品①原告為液晶顯示器(LCD)製造設備之領導廠商，多年來投入
大量人力與時間，致力於提升液晶顯示器相關製造設備之研發工作，並於民國（下同）89年3月20日就所發明「基板之貼合裝置」向中華民國經濟部智慧財產局（下稱「智財局」）申請發明專利，並於92年4月1日經智財局核准公告取得第526367號發明專利（下稱「系爭專利」，詳原證1」）②被告日商乙000000000亦為生產液晶顯示器(LCD)製造設備
「真空基板貼合機」[按真空基板貼合機於業界有不同之名稱，或稱貼合機(Chamber，簡稱CHB）；或稱真空貼合系統
(VacuumAssemblySystem，簡稱VAS)；或稱液晶滴下裝置(OneDropFilling，簡稱ODF)]之日本廠商，被告己○○科技股份有限公司（下稱「己○○公司」）則係被告日商乙000000000設立於台灣之子公司。依據被告日商乙000000000之年報資料，可知其確將被告己○○公司列為其子公司
(原證6)，且不僅被告己○○公司之董事長係由被告日商乙000000000所指派，該公司9名董事中，並有5人係由被告日商乙000000000集團所指派，唯一之監察人，亦係由被告日商乙000000000所指定（原證7）；故依照公司法第
369條之2之規定，被告日商乙000000000既可控制被告己○○公司之人事、財務或業務經營，被告己○○公司應屬於被告日商乙000000000之從屬公司無疑。
③被告日商乙000000000及被告己○○公司明知由被告日商乙0
00000000所製造型號為V28AK2之「真空基板貼合機」（下稱「系爭機器」），乃侵害原告所有系爭專利之物品，被告日商乙000000000竟仍將系爭機器販售輸入我國，由被告己○○公司協助被告日商乙000000000向我國液晶顯示器製造廠商推銷系爭機器，並進而為販賣之要約，以及販賣系爭機器予我國境內之液晶顯示器製造廠商之行為，已侵害原告系爭專利。
④嗣原告派駐於客戶訴外人庚○光電股份有限公司（以下簡稱
「庚○光電公司」）之技術工程師訴外人 平井 明(AkiraHirai)於95年11月7日至訴外人庚○光電公司之工廠提供售後服務，發現訴外人庚○光電公司向被告日商乙000000000所購買、使用之系爭機器，其所有構件及技術特徵均與原告所有系爭專利之發明相同。經原告委請常在國際法律事務所根據訴外人 平井明 依其目睹情形，針對系爭機器之外觀、構造及動作方式等所出具之聲明書（原證8）進行專利侵害鑑定，鑑定結論認定系爭機器確實落入系爭專利之申請專利範圍（原證9），原告始知悉所有系爭專利遭到被告等之侵害。
⑵原告所呈聲明書及侵害鑑定報告已可初步證明被告有侵權之事實:
①專利法並未規定專利權人提起專利侵權訴訟時必須檢附專利
侵害鑑定報告，更未規定專利侵害鑑定報告應由何人製作。專利侵害鑑定報告內容是否可採，應由本院依鑑定報告之分析內容，本於論理法則及自由心證判斷其結論是否可採。系爭侵害鑑定報告係由原告訴訟代理人事務所專利工程師所製作，並不影響其證據能力。
②原告所出具之侵害鑑定報告雖非基於系爭機器實物所進行之
鑑定，然本於平井明先生之聲明書所述之詳細內容，已足供判斷系爭機器確實落入原告系爭專利範圍。未來透過智慧財產案件審理法所賦予原告之調查證據方法取得系爭機器之相關資料甚或現場勘驗系爭機器後，即可更一步確認系爭專利確實落入原告系爭專利範圍。
③被告主張真空機板安裝機之運轉動作極快，根本不可能以肉
眼即得以辨識各運轉步驟之順序，故原告所呈原證8聲明書之內容顯與事實不符云云。惟於庚○光電公司工廠現場觀察被告所販售之真空機板安裝機、並出具原證8聲明書之平井明先生，於原告公司研發真空機板安裝機已近十年，對於各種真空機板安裝機之原理及實際運用極為熟稔。且平井明先生於觀察庚○光電公司工廠之系爭機器時，系爭機器不斷重複運轉，對於真空機板安裝機具有專業知識之平井明先生而言，觀察該真空機板安裝機之技術特徵並不困難。平井明先生基於其專業知識及親眼見聞而製作原證8之聲明書，內容並無不實之處。更何況被告從未爭執平井明先生所出具原證
8聲明書所描述被告機器之技術特徵，顯見被告亦不否認平井明先生所出具原證8聲明書所描述被告機器之技術特徵與事實相符。
⑶被告己○○公司負責協助其母公司乙000000000於台灣販售
真空機板安裝機，故被告己○○公司當然亦銷售「V28KA2」之真空機板安裝機①被告己○○公司之母公司即被告乙000000000於2004年因發
行股份向關東財務局所提出之公開說明書第20頁明確指出被告己○○公司係負責其母公司乙000000000台灣地區真空裝置之販售及維修（原證19）；另於97年7月30日本院96年度智全字第4號對被告己○○公司保全證據程序中，被告己○○公司負責行銷真空機板安裝機之員工 莊于儀 小姐業已承認被告己○○公司確有販售型號V28K之真空機板安裝機，此陳述原亦記載於保全證據筆錄(原證20)一份可稽；同時，被告己○○公司亦設有「真空行銷處」（按：即負責行銷真空機板安裝機之部門）(原證21)。凡此皆可證明被告己○○公司確實負責乙000000000所有真空機板安裝機在台灣之銷售。
②被告己○○公司既負責其母公司乙000000000台灣地區所
有真空機板安裝機之販售及維修，而庚○光電公司之型號「V28KA2」真空機板安裝機又係由乙000000000所製造銷售，則該「V28KA2」真空機板安裝機當係透過被告己○○公司協助銷售予庚○公司。被告己○○公司辯稱其並未銷售「V28KA2」型號之真空機板安裝機，顯非事實而無可採。
⒉本院應准許原告閱覽及複印(1)被告所提出之系爭機器規格
書及操作手冊；(2)被告所提出系爭機器之商業發票及出口證明；及(3)基隆關稅局所函覆之關於被告進口相關型號機器之資料：
⑴依照被告98年8月14日民事陳報(二)狀所載，被告已依照
本院諭令提出(1)系爭機器規格書及操作手冊及(2)系爭產品商業發票及出口證明；及(3)基隆關稅局函覆鈞院被告進口相關型號機器之資料。惟經原告多次聲請閱覽上述資料，本院始終裁示限制原告閱覽複印。
⑵鑑於前述證據資料係被告是否侵害原告系爭專利之重要證據
，限制原告閱覽複印系爭證據資料將嚴重影響原告之訴訟權，原告謹聲請閱覽及複印系爭證據資料，並說明理由如下：①系爭證據資料應不具秘密性而無限制閱覽之必要被告雖援引民事訴訟法及智慧財產案件審理法之規定，主張
系爭證據資料涉及被告營業秘密，應限制原告閱覽複印云云。然被告並未說明被告就系爭證據資料擁有何等營業秘密，復未說明系爭證據資料所涉資訊是否符合營業秘密法第2條所規定營業秘密之3項要件，即：1)非一般涉及該類資訊之人所知者；2)因其秘密性而具有實際或潛在之經濟價值者；及3)所有人已採取合理之保密措施者。此外，被告復未說明因原告閱覽複印系爭證據資料被告將遭受何等重大損害，被告主張系爭證據資料涉及被告營業秘密，准許原告閱覽複印將使被告受有重大損害，顯然毫無憑據而不可採。
被告所提出之系爭機器商業發票及出口證明，被告既稱已就
其中之販售金額予以塗銷，則該等商業發票及出口證明已無祕密性可言，實無限制原告閱覽複印之理由。
原告業已提出技術工程師平井明依據其所觀察被告系爭機器
所製作之聲明書（原證8），該聲明書中已詳細描述系爭機器外觀、構造及動作方式，而被告至今從未否認原證8聲明書所描述系爭機器外觀、構造及動作方式等之真正。系爭機器之外觀、構造及動作方式既已為原告所知悉，則被告所提出之系爭機器規格書及操作手冊對原告而言當無秘密性可言，殊無限制原告閱覽複印之必要。
②系爭證據資料為被告侵害原告專利之重要證據，為發現真實
、保障原告之訴訟權，本院應准許原告閱覽及複印系爭證據資料縱令被告就系爭證據具有營業秘密，但限制原告閱覽仍須以不妨礙原告辯論權之行使為前提：
A.按民事訴訟法第195條第1項規定：「當事人就其提出之事實，應為真實及完全之陳述。」；同法第286條前段規定：
「當事人聲明之證據，法院應為調查。」；同法第221條第
1項規定：「判決，除別有規定外，應本於當事人之言詞辯論為之。」最高法院50年台上字第1269號判例進一步揭櫫：
「我國民事訴訟法係採言詞辯論主義，舉凡判決資料通常須經當事人以言詞為辯論，如當事人聲請法院調取之訴訟資料至言詞辯論終結後始到達法院者，既未予當事人以辯論之機會，即不得以為判決之基礎。」職是，任何可能成為判決基礎之證據，包含兩造聲請調查之證據，皆應給予兩造充分辯論之機會。
B.被告雖援引民事訴訟法第242條第3項規定，主張系爭證據資料涉及被告之營業秘密故有限制閱覽之必要。惟按民事訴訟法第242條第3項規定係於92年2月7日所增訂，其修正理由謂：「卷內之文書有涉及當事人或第三人之隱私或業務秘密者，如准許閱覽、抄錄或攝影，有足致其受重大損害之虞時，為保護當事人或第三人，法院得依其聲請或依職權裁定不予准許或限制本條第一、二項之行為，爰增訂本條第三項。惟此項裁定，應在不影響當事人行使辯論權之範圍內，始得為之。」(原證31)足見法院依民事訴訟法第242條第
3項規定限制閱覽，仍須以不妨礙「辯論權之行使」為前提，並非所有涉及營業秘密者均應一概限制閱覽。
C.被告既主張系爭證據資料涉及營業秘密，本院應命其先聲明該營業秘密之內容及可能對被告造成損害之理由。且縱令認定系爭證據資料如被告所主張為營業秘密，惟民事訴訟法第
242條第3項立法理由既明白揭示：限制當事人閱覽應在不影響當事人行使辯論權之範圍內，始得為之。故於本件情形，亦不應禁止原告閱覽及複印系爭證據資料。且退步言，縱令鈞院認定系爭證據資料為營業秘密，亦應由被告依照法令所賦予之其它方式尋求營業秘密之保護，而非逕行限制原告閱覽及複印系爭證據資料而影響原告合法辯論權之行使。
系爭機器之規格書及操作手冊為被告侵害原告專利之重要證
據，應准許原告閱覽複印系爭證據資料既係攸關被告是否構成侵害專利之重要證據，應准許原告閱覽複印以釐清被告之侵權責任。尤其本院限制原告閱覽複印被告所提出之系爭機器規格書及操作手冊，致使原告根本無從檢視被告所提出之規格書及操作手冊是否確實為「V28KA2」型號之規格書及操作手冊，以及被告是否已提出「完整」之規格書及操作手冊而未有隱匿。就被告倘提出系爭機器規格書及操作手冊時應如何確認其真正，於本院98年7月15日庭訊時，原告訴訟代理人即已明確表示：「希望被告提出操作手冊跟規格書，然後發函給庚○公司詢問，或者是直接到庚○公司直接勘驗」，然被告提出規格書及操作手冊後，本院亦未將該等規格書及操作手冊送請庚○公司確認是否為真正。對於被告所提出之規格書及操作手冊，本院既未先行確認被告所提出之規格書及操作手冊是否為真正，亦未先命兩造辯論該規格書及操作手冊之內容是否侵害系爭專利，即逕將該等規格書及操作手冊送交技術審查官進行侵權比對，不僅不符實務慣例，對原告亦屬不公。
基隆關稅局所函覆被告相關型號機器之進口資料，攸關判斷
「V28K」型號與「V28KA2」型號是否屬於相同之機器，應准許原告閱覽複印如原告歷次書狀所述，被告等既聲稱「V28000A」型號即為「V28KA2」，顯見被告乙000000000所製造之完全相同的真空機板安裝機，仍可能基於不同之目的賦予不同之型號。原告認為型號「V28KA2」之機器應僅係被告型號「V28K」之系列產品，亦即「V28K」型號與「V28KA2」型號事實上屬於相同之機器，故被告所製造銷售之「V28K」型號機器，亦侵害原告系爭專利。按「V28K」型號與「V28KA2」型號是否相同，攸關本案侵權產品之特定，自本件起訴以來兩造即已爭論不休，被告雖否認兩型號相同但迄未提出合理說明及證據，本院自應准許原告閱覽複印基隆關稅局所函覆關於被告「V28K」型號與「V28KA2」型號機器之進口資料，以判斷「V28K」型號與「V28KA2」型號是否相同，藉以特定本案之侵權產品。
限制原告閱覽複印系爭證據資料將嚴重妨礙原告之辯論權，剝奪原告之辯論權且違反武器平等原則。
A.我國民事訴訟之審理，在辯論主義制度下，為求發現真實及促進程序之目的，原則上事證之蒐集及提出係屬當事人之責任，故法院應依照當事人聲明之證據而進行調查(民事訴訟法第286條前段)，而當事人就其提出之事實，應為真實及完全之陳述(民事訴訟法第195條第1項)。本件原告業已聲明以系爭證據資料作為被告侵權之證據之一，倘原告不獲准閱覽及複印系爭證據資料，就系爭證據資料所涉被告之侵權事實，實無法期待原告可為真實及完全之陳述，如此不僅對原告不公允，亦不利於訴訟程序之進行。系爭證據資料攸關被告是否構成侵害專利之重要證據，應准許原告閱覽複印，俾原告能於檢視系爭證據資料後就被告侵權事實進一步提出攻擊防禦方法。限制原告閱覽系爭證據資料不僅違反民事訴訟法辯論主義之精神，同時亦剝奪原告之辯論權而違反武器平等原則。
B.況准許原告閱覽複印系爭證據資料，兩造當可就系爭機器技術特徵是否落入原告專利範圍先行辯論，而法院亦可於聽取兩造之辯論後就本案事證獲致大概之心證，並據以定奪本案後續證據調查程序，包含如何進行專利侵害鑑定；兩造亦可適時提出各自之攻擊防禦方法。被告倘若自認系爭機器未侵害原告專利，被告亦可以系爭證據資料為基礎相對提出其不侵權之論據以釐清其責任。被告要求限制原告閱覽複印系爭證據資料無非係為延滯訴訟及規避其侵權責任。而本院一方面限制原告閱覽複印被告提出之系爭機器規格書及操作手冊，另一方面則將該等規格書及操作手冊送交技術審查官進行侵權比對，顯然違反民事訴訟當事人進行主義之精神。
⒊被告所製造銷售之「V28K」型號機器與「V28KA2」型號機器
屬於相同之機器，本院應同時就「V28K」型號機器進行侵權調查，並准許原告閱覽複印被告所提出之相關資料如原告歷次書狀所述，被告所製造之完全相同的真空機板安裝機，可能基於不同之目的賦予不同之型號。原告認為型號「V28KA2」之機器應僅係被告型號「V28K」之系列產品，亦即「V28K」型號與「V28KA2」型號事實上屬於相同之機器，故被告所製造銷售之「V28K」型號機器，亦侵害原告系爭專利。「V28K」型號機器與「V28KA2」型號機器是否相同，攸關本案侵權產品之特定，自本件起訴以來兩造即已爭論不休，被告雖否認兩型號相同但迄未提出合理說明及證據。因此，本院就被告「V28000A」型號及「V28KA2」型號機器進行侵權調查時，應一併就「V28K」型號之機器進行侵權調查，並准許原告閱覽複印基隆關稅局所函覆關於被告「V28K」型號與「V28KA2」型號機器之進口資料，以判斷「V28K」型號與「V28KA2」型號是否相同，藉以特定本案之侵權產品。⒋系爭專利於申請前並未公開使用，應具有新穎性⑴本院於99年12月6日庭訊時即明確指示兩造不得提出新證
據，且本院將不審酌任何新提出之證據。因此被告於99年12月10日「民事答辯(11)狀」所呈被證40固定資產明細表，及99年12月16日「民事陳報狀」所呈被證41、42之證明書，鈞院均應不予審酌。
⑵退步言之，被告就其所呈被證40固定資產明細表並未附任何
中譯文，且亦未有任何辛○○株式會社之印文，不足以證明其為真正，依民事訴訟法第357規定，該文書無證據能力。
況，被告並未舉證被證40固定資產明細表中所謂「液晶滴下機器」與LP-500機器之同一性，復未說明其與系爭專利之技術特徵於申請前是否業已「公開使用」有何關聯。被告先前提出被證24主張相關機器裝置搬入米子辛○○株式會社之日期為1999年2月13日，被告現又提出被證40主張該機器於1999年1月即載入辛○○株式會社之固定資產明細，其主張顯然前後不一致。惟，無論被證40固定資產明細表是否屬實，皆不影響系爭專利之技術特徵於申請前並未公開使用之事實。
⑶被告主張系爭專利之技術內容已因揭露系爭專利技術內容之
機器搬入株式會社米子辛○○株式會社工廠內，而該機器已成為不特定人得為交易標的之階段，故系爭專利之技術特徵於申請前已公開使用故應不具新穎性云云。惟本件被告係主張系爭專利構成專利法第20條第1項第1款之「公開使用」，因此系爭專利是否具有新穎性之重點在於系爭專利之技術特徵是否已因LP-500機器之展示機搬入米子辛○○株式會社而可被認定為「公開販售」而成為「不特定人」得以公開使用之狀態。至於LP-500機器展示機搬入米子辛○○株式會社後是否置於米子辛○○公司「管領」之下，與系爭專利之技術是否「公開」無涉。我國法院亦從未以是否在他人「管領」之下來判斷技術是否能成為公開使用或為公眾得知。被告迄今並未證明於系爭專利申請日前LP-500機器有「公開販售」、「公開展示」或不特定人得以知悉該機器之技術特徵，系爭專利之技術內容於系爭專利申請日前並未成為「公開使用」之狀態，至屬灼然。
⑷專利審查基準就「已見於刊物」之認定即規定「在一般情況
，對於已經編輯付梓並刊印有出版日期之期刊雜誌，若有證據顯示該書刊尚未處於能為公眾得知之狀態，由於接觸原稿及書刊之人均屬特定人，不得認定其已公開發行。此外，印有『內部刊物』等類似文字之刊物，除非有明確證據顯示其已對外公開散布，不得認定為公開發行之刊物。」(專利審查基準第2-3-8頁)。因此，即令專利技術已付諸文字且在他人管理之下，但只要尚未經公開，即不可謂已為公眾所知悉。同理，縱令本件LP-500機器展示機搬入米子辛○○株式會社後係由米子辛○○株式會社管領，但絕不能因此即率爾謂系爭專利之技術內容於系爭專利申請日前已成為「公開使用」之狀態。
⑸關於公開使用之定義，智慧財產法院98年行專訴字第80號判
決亦闡釋：「一般公司於產品仍在研發而尚未上市之際，因產品尚未上市，仍具有保密性，即使有協力廠商選拔、衛星工廠之比價、工廠代工時提供之設計圖等事實，一般公司仍會選擇其信任並有合作基礎之公司代工，斷不會甘冒設計圖洩漏之風險，而貿然將該設計圖交予一未曾合作過之廠商，故此等參與比價之衛星公司，當為原告所信任之特定公司，既為特定公司，其設計圖當屬尚未公開，而不特定第三人亦無法知悉。故原告所提之設計圖當屬內部文書，非屬『公開刊物』，亦不符合新式樣的『已公開使用』的定義。」(原證39)。依照前開判決意旨，縱令將設計圖交給特定之公司，其設計圖仍屬尚未公開，而不特定第三人亦無法知悉，故該設計圖當屬內部文書，非屬公開刊物，亦不符合已公開使用之定義。同理，本件縱令LP-500機器展示機搬入米子辛○○公司而由米子辛○○株式會社管領，系爭專利之技術特徵絕不因此即當然成為不特定第三人得知悉之狀態。
⑹關於專利申請前之「公開使用」，台北高等行政法院95年訴
字第1292號判決闡釋：「若其使用非為不特定人得知其使用之狀態者，則不能謂為公開使用。例如僅存在於委託製造契約關係人所可得知，但未經由公開展示或銷售之技術內容即非可認為已屬公開使用。」、「壬○○鑄造公司之人員、協力廠商以及以後可能有業務往來的工廠，有可能來參觀時會看到，但其工廠既非開放不特定之第3人得以參觀，則其所稱參觀仍屬承作鑄造業務往來特定關係始有可能得知以RX-4剎車盤模具所製造RX-4剎車盤之鑄件之技術內容，此與RX-4剎車盤之鑄件已經由對外銷售，或公開展示使不特定之第3人均可得共見共聞之使用公開情形有所不同。尚不能以此即認RX-4剎車盤模具所製造RX-4剎車盤之鑄件技術內容業已公開使用。」(見原證30)由上述台北高等行政法院見解可知，單僅委託製造機器搬入受託製造公司工廠之事實並不符合專利法第20條第1項第1款公開使用之要件。
⑺關於專利法第20條第1項第1款「公開使用」之涵義，系爭
專利審定時之專利審查基準雖規定「審查所謂『公開』時，得參考下列條件：以販賣為目的，而其物已成為不特定人得為交易標的之階段(程度)時，即屬公開，並不以事實上已有交易行為為必要，因此公開標價應視同公開。」惟前開審查基準之規定，應係指已「對外公開銷售之情況」，故將「公開標價」例示為視同公開。於本件原告前身癸○TechnoEngineering株式會社係基於其與辛○○株式會社與子○產業株式會社間之研發合作契約，故於研發完成後將研發機器販售予米子辛○○株式會社並搬入米子辛○○株式會社之工廠。原告於系爭專利申請前就研發機器並未「對外公開銷售」或有「公開標價」之情形，且被告亦未證明米子辛○○株式會社事實上有在原告申請專利前有公開販售該研發機器，故該研發機器之技術根本並未揭露予不特定之第三人，亦未使不特定之第三人處於得知悉之狀態，不符合「公開使用」之定義。
⑻被告係主張系爭專利構成專利法第20條第1項第1款之「公
開使用」，因此重點在於系爭專利之技術特徵是否已因「公開販售」或「公開文獻」等原因而成為不特定人得以公開使用之狀態。至於「子○產業株式會社」及「癸○TechnoEngineering株式會社」於系爭專利申請前是否得公開宣傳或製造實施LP-500機器之展示機，與系爭專利之技術內容是否構成「公開使用」無涉。
⑼關於專利是否因販售而成為公開使用，前揭台北高等行政法
院95年訴字第1292號判決亦闡釋：「參照丑○汽車材料有限公司89年7月31日開立予寅○汽車精品服飾店品名內容包括模具費RX-4等情，顯然卯○有限公司就RX-4剎車盤模具之製造與原告、丑○汽車材料有限公司間曾有模具製造之特定契約關係存在，參加人所提89年12月12日送貨單顯示卯○有限公司交付與丑○公司之RX-4產品仍非屬對不特定之第3人所為之公開銷售行為。因此，尚不能以89年12月12日卯○有限公司之送貨單有RX-4之規格註記即認系爭案之技術內容已公開使用。」(見原證30)亦即，僅對不特定第三人所為之公開銷售行為始構成「公開使用」。原告前身癸○TechnoEngineering株式會社係基於其與辛○○株式會社與子○產業株式會社間之研發合作契約，於研發完成後將研發機器販售予米子辛○○株式會社，並非對不特定第三人所為之公開銷售行為，應不構成專利法第20條第1項第1款公開使用之要件。
⑽依照被告所提出之被證4辛○○株式會社(甲方)、子○產
業株式會社(乙方)及癸○TechnoEngineering株式會社(丙方)三方於1998年12月10日就研發機器共同簽署之備忘錄，其中第2條(1)項規定「乙丙雙方在下列期限之前，不得將賣予甲方之本裝置相同目的之裝置賣給甲方以外之第三人」「規定期間：至1999年9月30日為止。」其目的在於避免因子○產業株式會社(乙方)及癸○TechnoEngineering株式會社(丙方)銷售系爭機器而洩漏該研發機器之機密技術，辛○○株式會社自己又豈可能任意販售予第三人而令第三人知悉該機密技術？因此，研發機器雖已販售予米子辛○○株式會社而搬入米子辛○○株式會社之工廠，惟辛○○株式會社既不可能將該研發機器任意販售予第三人，該研發機器並不因此而成為不特定人得為交易之標的。
⑾據原告所知米子辛○○株式會社與子○產業株式會社曾於19
95年9月21日簽署「物品交易基本契約書」(原證32)，其中第3條約定：「1.本契約之有效期間至1995年9月20日止。但於期滿前一個月，貴公司或本公司任一方無其他之意思表示時，本契約以同一條件自動延長一年，其後亦同。2.於本契約依前項規定失效前成立並生效之個別契約，於該個別契約之有效期間內仍使用本契約，不適用前項之規定。3.第
8章各條規定及第39條之規定於本契約終止後，仍繼續有效，不適用第1項之規定。」；此外，「物品交易基本契約書」第39條約定：「貴公司(按：即子○產業株式會社)及本公司(按：即米子辛○○株式會社)基於本契約及個別契約之相關業務所知悉之他方秘密，不得洩漏予第三人。」因此，米子辛○○株式會社亦對子○產業株式會社負有保密義務而不得將研發機器之技術內容洩露予第三人知悉。因此，研發機器雖已販售予辛○○株式會社而搬入米子辛○○株式會社之工廠，惟米子辛○○株式會社基於前述「物品交易基本契約書」既不能將該研發機器任意販售予第三人，該研發機器並不因此而成為不特定人得為交易之標的。
⑿被告於本件訴訟中主張系爭專利於申請日前已公開使用故欠
缺新穎性云云。但被告於智慧財產局對系爭專利所提出之舉發程序中並未主張系爭專利不具新穎性(僅主張系爭專利不具進步性)，顯見被告明知其所為系爭專利欠缺新穎性之主張不具說服力。
⒀謹就系爭專利之技術特徵於系爭專利申請前並未「公開使用」，說明如下：
①關於公開使用之定義，最高行政法院86年判字第2824號判決
闡釋：「惟查原告所舉產品製造圖、產品實物及產品照片等引證資料，均屬原告公司內部之文件及製品，雖其公司內部員工不無知悉之可能，惟尚難謂已處於不特定第三人得以見聞之狀態。核與『申請前已見於刊物或已公開使用』之要件不符」(原證40)。於本件，原告之所以會將機器般入米子辛○○工廠，係基於辛○○公司與子○產業株式會社之「研發契約」，而非基於販賣之目的。辛○○公司係與子○產業株式會社具有研發契約關係之特定人，而非不特定人。系爭專利並未因LP-500機器之測試機搬入米子辛○○工廠而可被認定成為「不特定人」第三人得以見聞之狀態，遑論該機器係搬入無塵室中並非一般人所能隨意進出，且系爭專利技術特徵中關於「靜電吸引」、「真空吸引」等技術特徵以及運作之順序，並非單純觀察該機器外觀即可得知。事實上，原告工程師平井先生雖係在庚○光電公司之無塵室觀察到被告系爭機器，然庚○公司對於所有進入其無塵室者皆有嚴格之管制措施，原告工程師平井先生係基於原告與庚○光電公司間之物品供應維修特定契約關係始能獲准進入庚○光電公司無塵室。
②LP-500機器測試機搬入特定人米子辛○○公司後是否置於特
定人米子辛○○公司「管領」之下，與系爭專利之技術是否「公開」無涉。除唯一一台LP-500機器之測試機搬入特定人米子辛○○工廠外，被告迄今並未證明於系爭專利申請日前LP-500機器有任何「公開販售」、「公開展示」或不特定人得以知悉該機器之技術特徵，系爭專利之技術內容於系爭專利申請日前並未成為「公開使用」之狀態。倘僅因為LP-500機器於系爭專利申請前係處於米子辛○○公司管領之下，即謂系爭專利之技術特徵於申請前已成為不特定人得為交易之標的，將不當擴大「公開使用」之範圍，有違我國專利法鼓勵研發之意旨。
③米子辛○○株式會社與子○產業株式會社曾於1995年9月21
日簽署「物品交易基本契約書」(原證32)，其中第3條約定：「1.本契約之有效期間至1995年9月20日止。但於期滿前一個月，貴公司或本公司任一方無其他之意思表示時，本契約以同一條件自動延長一年，其後亦同。2.於本契約依前項規定失效前成立並生效之個別契約，於該個別契約之有效期間內仍使用本契約，不適用前項之規定。3.第8章各條規定及第39條之規定於本契約終止後，仍繼續有效，不適用第
1項之規定。」；此外，「物品交易基本契約書」第39條約定：「貴公司(按：即子○產業株式會社)及本公司(按：
即米子辛○○株式會社)基於本契約及個別契約之相關業務所知悉之他方秘密，不得洩漏予第三人。」前述條款於系爭專利申請時仍屬有效，對此被告亦從未爭執。因此，米子辛○○株式會社亦對子○產業株式會社負有保密義務而不得將研發機器之技術內容洩露予第三人知悉。因此，研發機器雖已販售予辛○○株式會社而搬入米子辛○○株式會社之工廠，惟米子辛○○株式會社基於前述「物品交易基本契約書」不得將該研發機器所涉機密以出租、販售或任何其他方式揭露予任何第三人，故該研發機器並未成為不特定人得為交易之標的。
④事實上，於原告申請系爭專利前，辛○○株式會社即已表示
同意由原告申請系爭專利，辛○○株式會社既已同意由原告申請系爭專利，當然不應將系爭專利技術於原告申請系爭專利前予以公開，亦不應於原告申請系爭專利後質疑系爭專利具有無效之事由，否則即無任何誠信可言。被告既然於2005年4月收購辛○○株式會社液晶顯示器製造部門(參被證28)，理應繼受辛○○株式會社之全部權利義務。被告既明知辛○○株式會社事先已同意由原告申請系爭專利，卻又於本件訴訟中主張系爭專利技術於原告申請系爭專利前即已公開，藉此質疑系爭專利具有無效之事由，難認有商業誠信可言。
⒌系爭專利相較於被告提出之引證案具有進步性⑴被告對系爭專利申請專利範圍第1項技術特徵之解釋明顯
有違專利審查基準及專利侵害鑑定要點①依照智財局所頒佈之專利審查基準第2-3-20頁之規定：「進
步性之審查應以每一請求項中所載之發明的整體為對象，亦即將該發明所欲解決之問題、解決問題之技術手段及對照先前技術之功效作為一整體予以考量」。本件專利申請專利範圍第1項主要技術特徵於申請專利範圍界定:「一種基板之安裝裝置，針對用以保持貼合在位於真空室內之上方的加壓板之下面的一側之基板，且使貼合的另一側之基板保持在位於真空室內的下方之工作台上，利用設在任一基板的接著劑，使真空室減壓，並在所形成的真空中，將兩基板之間隔變窄，來貼合基板之基板之安裝裝置中，其特徵為：加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作，而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」。由前述申請專利範圍文字可判斷，本件專利請求項1的主要技術特徵在於「保持上基板之加壓板」、「支撐下基板之工作台」、「加壓板具有真空吸著手段及靜電吸著手段」、「加壓板係在真空吸著手段動作中使靜電吸著手段動作」以及「將上下基板之間隔變窄使基板彼此貼合」。
②被告主張本件專利請求項1之記載方式為吉普森式(即兩段
式)，而專利範圍文字敘述中「其特徵為」之前的敘述應屬本件專利自承之先前技術，而之後的敘述方應為本件專利之實際技術特徵，被告並援引先前技術之被證6、被證7、被證8、被證9、被證10、被證32、被證33及被證34，而質疑依上述先前技術間的組合將可輕易達成本件專利之技術云云，從而主張本件專利應不具備進步性。
③惟本件專利雖係以兩段式方式記載，但依專利侵害鑑定要點
對於專利範圍解釋之規定：「四、解釋申請專利範圍之原則…對於以二段式（指前言部分與特徵部分）撰寫之請求項，應結合特徵部分與前言部分所述之技術特徵，認定其專利權範圍」、「申請專利範圍所記載內容係一整體之技術手段，不論元件、成分或步驟如何拆解或組合，申請專利範圍所記載之技術特徵都不能省略。」，因此論究本件專利應以請求項1所記載所有文字為之，不應省略其中任一技術特徵。被告利用吉普森式請求項的記載方式將系爭專利請求項切割為先前技術，然後刻意不去比對其所謂系爭專利請求項1的自承先前技術。然而，無論系爭專利之自承先前技術或是技術特徵，於進行進步性比對時，系爭專利請求項中所記載的任何文字均應加以考量，而非如被告所比對之方式一一剔除。以被告的作法，無疑係欲將系爭專利之液晶貼合技術引導到下基板保持技術，再藉由下基板的保持技術，來一昧的否定上基板的保持技術。被告之比對方式顯然不符合專利審查基準之規定。
④被告主張系爭專利請求項1中未記載上下基板要如何貼合云
云。惟系爭專利請求項1已有明確記載上下基板的貼合方式為「加壓板設有:為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作，而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」。上述申請專利範圍文字係以前文敘述加壓板結構，而在敘述如何的使用該加壓板後，接著再敘述上下基板之貼合方法，故申請專利範圍全文業已敘述完整之技術特徵。被告主張系爭專利請求項1中未記載上下基板要如何貼合，不知所憑為何，被告顯係刻意忽略系爭專利請求項1整體之技術特徵，意圖將系爭專利請求項1技術特徵限縮為「而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」，殊無可採。
⑵專利說明書之實施例及附屬項之技術特徵不得用以限制申請
專利範圍第1項之解釋①系爭專利係在真空吸著動作下，於真空室的減壓過程中，在
保持上基板的真空吸著力消失前即已啟動靜電吸著，而非被告所言需待真空吸著力消失後始啟動靜電吸著被告不當曲解本件專利申請專利範圍，認為本件專利靜電吸著的啟動時間點在真空吸著已使用的情況下分為有三，即：
(a)大氣下已啟動真空吸著情況下，啟動靜電吸著、(b)減壓過程中已啟動真空吸著情況下，啟動靜電吸著、及(c)真空中已啟動真空吸著情況下，啟動靜電吸著。惟本件專利之目的便是要將上基板完整地平貼保持於加壓板，因此熟習本件專利技術之人士應可了解讓上基板落下將導致無法彌補之損害，因此上述(c)的情況將不會存在，此點由本件專利於92年6月30日經辰○工程股份有限公司向智慧財產局提起異議，智財局於96年4月26日為異議不成立之決定便可得知，且經濟部訴願審議委員會亦於97年6月3日為訴願駁回之決定
(原證33)，而於訴願決定書中提及：「亦即，該真空吸著動作中使該靜電吸著手段動作，本來就是指在真空吸引力動作中的狀態下使靜電吸著手段動作，而非在『真空吸引力喪失之時點，才使靜電吸著手段動作』，而熟習該項技術者『在吸引吸著動作中，已使用靜電吸著動作』之情況下，依其技術常識並不會使『真空吸引力成為零』，讓致命之『極些微之壓力差』產生，以致於使『真空吸引力喪失，基板落下』之情況發生」。
被告主張系爭專利技術的靜電吸著係在因真空室的環境下使
得保持上基板的真空吸著力消失後才開始啟動靜電吸著，因上基板會掉落故必須要有系爭專利附屬項所記載之阻擋手段云云。惟此被告之主張明顯曲解系爭專利申請專利範圍第1項之技術特徵。系爭專利為了無變形地保持大型化的上基板，在真空吸著動作下，於真空室的減壓過程中，在保持上基板的真空吸著力消失前即已啟動靜電吸著。而非被告所言需待真空吸著力消失後始啟動靜電吸著。系爭專利申請專利範圍第1項文字界定：「於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」，該申請專利範圍文字並未界定如被告所言「待真空吸著力消失後始啟動靜電吸著」之解釋。
②系爭專利申請專利範圍第1項並未界定有「阻擋手段」之技
術特徵，申請專利範圍所載文字明確，不應以說明書所載實施例或附屬項之技術特徵來限縮申請專利範圍被告於民事答辯(11)狀中聲稱，本件專利實施例說明書第10
頁、第14頁及圖4特定實施例的相關內容，本件專利的技術應包含有阻擋爪云云。惟關於申請專利範圍之解釋，專利侵害鑑定要點第三章第一節載明：「申請專利範圍之記載內容與發明(或新型)說明或圖式中之記載內容不一致時，應以申請專利範圍之記載內容認定專利權範圍」、「申請專利範圍中所載之技術特徵明確時，不得將發明(或新型)說明及圖示所揭露的內容引入申請專利範圍」。系爭專利申請專利範圍第1項並未界定有「阻擋手段」之技術特徵，申請專利範圍所載文字明確，根本無進一步參考說明書之實施例加以解釋之必要。被告將附屬項第2項及說明書實施例中之「阻擋手段」技術特徵引入系爭專利申請專利範圍第1項，明顯係企圖脫其侵害系爭專利之責任，惟其論點顯有違專利侵害鑑定要點而無可採。
由本件專利說明書完整的敘述及圖1、圖2可知，阻擋爪並
非必要元件，且原告歷次書狀業已充分說明阻擋爪乃係保險元件而非申請專利範圍第1項之技術特徵。實則實施例所說明者係在因真空吸著力完全消失而不慎讓上基板落下時，可藉由阻擋爪來避免上基板持續落下，並即時利用靜電吸著的啟動來讓上基板再度吸附保持於加壓板。由於上基板會因真空吸著力消失而落下，代表真空室內的真空度已達一定程度，因此即使啟動靜電吸著，縱使上基板與加壓板間存有空隙，也不會有放電問題發生。被告未解及此，一再主張申請專利範圍第1項須具有阻擋爪云云，明顯刻意曲解本件專利申請專利範圍。
本件專利請求項2之阻擋爪係用以防止上基板落下，而上基
板落下的原因可能為真空吸著或靜電吸著操作不確實，或機台故障，或操作人員操作錯誤等原因，導致上基板不慎落下。此情況有可能發生在大氣或減壓下於真空吸著動作下使用靜電吸著的情況，為了慎重起見，故設置本件專利請求項2的阻擋爪，由於真空時真空吸著力將會消失，故本件專利靜電吸著的啟動不會在真空吸著力消失後才開始啟動。因此，本件專利說明書實施例中提到真空吸著消失而使得上基板落下而應以阻擋爪支撐再啟動靜電吸著讓上基板再度吸附於加壓板即是模擬誤操作導致上基板落下之情況，而請求項2的阻擋爪係慎重起見設置來防止上基板因上述原因而不慎掉落的情況發生，並非要達成本件專利目的的必要技術手段，因此根本不需於請求項1中加以記載。
本件專利雖非不能在大氣環境下使用，惟若於大氣環境下啟
動靜電吸著時，倘用以保持上基板之真空吸著若有誤操作等便會使得加壓板與上基板之間產生有空隙，而極易產生放電現象，但若上基板能穩固平貼地貼附於加壓板(即加壓板與上基板之間無空隙)，則即使啟動靜電吸著亦不會有放電問題。為避免大氣環境下使用時，因上述情況產生放電，本件專利通常係在減壓環境下啟動靜電吸著，在減壓環境下，放電現象不若大氣環境般容易發生，因此只要在真空吸引力減弱至無法支撐上基板前起動靜電吸著，便可加強上基板之保持效果，並抵抗上基板自身重量以避免因自重落下及大型化而導致上基板撓曲變形的問題。
⑶系爭專利之目的及功效暨熟習該項技術人士組合之動機為進
步性判斷因素之一，被告對於我國專利法及專利審查基準關於「進步性」之判斷標準顯然認知錯誤①被告主張系爭專利審定時之專利審查基準並未要求先前技術
之「結構」、「作用」、「功能」、「手段」、「功效」、「目的」及「應用」與系爭專利請求項之「作用」、「功能」、「手段」、「功效」、「目的」及「應用」相同云云。②惟被告前述論點明顯錯誤。就進步性之判斷上，本應就「系
爭專利與先前技術兩者表現在發明之目的、功效、技術內容上的差異，是否為發明所屬技術領域中具有通常知識者，依先前技術所能輕易完成者」加以審究。例如關於進步性之判斷標準，智慧財產法院98年民專上易字第16號判決闡釋：「判斷進步性時，則應整體判斷申請案之發明解決課題之技術手段、目的及效果，並得將其與數引證資料內容的組合（包含將數引證資料之某部分，或同一引證資料的不同部分加以組合）進行比對判斷。」(原證35)③系爭專利審定時之專利審查基準在進步性「審查上應注意事
項」規定：「進步性之審查，不可逕用申請人引證的關聯性最深的先前技術據以核駁，應確實依據引證資料所載之技術或知識，針對發明之技術內容，綜合發明之目的、功效，研判其是否克服選擇或結合之困難度，而獲得突出的技術特徵或顯然的進步，加以判斷。」；系爭專利審定時之專利審查基準在進步性判斷方式中關於先前技術之組合部分應注意事項復規定：「以先前技術之片斷部分相互組合，而判斷發明是否能輕易完成時，應考慮發明是否具有『突出的技術特徵』或『顯然的進步』。『突出的技術特徵』，係指申請專利之發明對熟習該項技術者而言，若以先前技術為基礎，仍然不易由邏輯分析、推理或試驗而得者。『顯然的進步』係指申請專利之發明克服先前技術中存在的問題點或困難性而言，通常係表現於功效上。」。
④由上述實務見解及審查基準規定可知，判斷進步性時，本應
就系爭專利與先前技術所屬技術領域、所欲解決之課題、目的及功效進行考量，技術領域若有不同，則應用上就有一定的障礙存在；若所欲解決的課題、目的及功效不同，則要能輕易達成的障礙就更高。惟如前述，系爭專利之目的及功效於判斷系爭專利是否具有進步性時為必要之參考因素，被告主張所謂於判斷進步性時無須考量手段、目的及效果等，顯無可採。故被告顯然企圖刻意忽略系爭專利與引證案間之差異，而僅以後見之明刻意抹滅系爭專利之進步性。被告指摘原告之主張嚴重誤解系爭專利審定時進步性之判斷原則或故意忽略先前技術已明確教示的技術內容云云，然於引證文獻中，所提及之真空吸引或靜電吸引，本為自然界所存在之現象，惟應用在不同領域時應如何具體應用而呈現出不同之效果乃系爭專利與引證案是否相異之主要重點。被告所引用之先前技術，確無法達成系爭專利之效果，亦無法由先前技術輕易推得系爭專利之效果。
⒋被告所據以主張本件專利不具進步性之強制性的各種不同引證組合，均不足以證明本件專利請求項1欠缺進步性:
⑴本件專利說明書中的先前技術中提到本件專利所欲解決的課
題主要有3：即：(1)在真空中無法利用壓力差來進行真空吸著(本件專利說明書第4頁第4段)；(2)以機械保持的基板中央部會彎曲，隨著基板大型化及薄型化，彎曲現象會更嚴重(本件專利說明書第4頁第5段)；及(3)彎曲越大，則無法利用基板周緣的標記來定位。由此可知，在基板大型化時，基板本身重量即會增加而有難以保持而容易因自重落下的現象(本件專利說明書第4頁第6段)，而藉由本件專利請求項1的技術特徵將得解決上述課題。
⑵被告所據以主張本件專利不具進步性之各個引證組合，顯然
係在閱讀本件專利後，以後見之明，將先前技術中似是而非之元件拼湊組合，全然未考慮先前技術證據的技術背景、目的、手段、功效與本件專利並不相同或相關，以及強制組合後可能會產生之問題，被告據此得到之謬誤結論，實不足採。被告所據以主張本件專利不具進步性之各個引證組合，均不足以證明本件專利請求項1欠缺進步性，謹詳述如下:①本件專利申請專利範圍第1項之前言部分之先前技術與被證
6之結合不足以證明本件專利申請專利範圍第1項欠缺進步性：
被證6與本件專利之技術領域、目的及功效並不相同：
A.被證6係關於一種使平板狀之試料保持於可移動式試料台上的試料保持技術，尤其是有關曝光裝置之光罩之保持技術的改良（參被證6說明書段落[0001]）。實際上，被證6僅揭露關於將光罩（mask）之圖案轉移到晶圓（wafer）上之曝光裝置之技術領域，此與本件專利係關於一種在「真空室」內分別保持要被貼合的上基板及下基板，並在真空中將上基板與下基板間隔變窄而彼此準確地相對貼合之安裝裝置（參本件專利說明書第4頁第1至3行）之技術領域不同，亦不相關。
B.被證6之目的與功效係提供一種可使平板上的試料相對於試料台良好地保持之試料保持方法，及提供一種在使光罩良好地保持在可移動式光罩台上之同時，對於光罩的對準精度之提升有幫助的曝光裝置（參被證6說明書[0004]至[0005]），此與本件專利係提供一種即使基板尺寸大型化、薄板化，依然能在真空中高精度的貼合基板之基板的安裝裝置（參本件專利說明書第5頁第16至18行），兩者之目的與功效並不相同。
C.被證6之目的係為了避免單以真空吸著來保持在光罩台上的光罩會因為曝光時之快速移動所產生之慣性力而導致光罩位移，因此特別在真空吸著的使用時，同時利用靜電吸著來固定光罩在光罩台上，而此種固定方式僅是利用靜電吸著來輔助真空吸著以避免光罩在移動時產生位移，但並非利用靜電吸著全面地吸著光罩，且被證6的曝光裝置與本件專利的貼合裝置在使用的目的迥然不同，因此熟悉本件專利技術之人士亦無法輕易思及利用靜電吸著來全面地保持本件專利上基板的想法。再者，被證6係保持光罩邊緣，其形式如同本件專利技術領域中以機械保持小尺寸上基板邊緣之方式般，然當上基板(光罩)尺寸增大時，中央由於未設有任何保持機構而會有因自重而撓曲變形等問題發生，
D.被證6並未揭露本件專利申請專利範圍第1項之技術特徵：被證6並無揭露任何有關於本件專利「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」之技術內容。
(a)於被證6中，光罩雖然被載置於光罩台的下方，為使光線通過，光罩係僅以其週邊部被載置並保持於光罩台。
(b)相較於被證6，依照本件專利說明書所載，為解決由於上側基板（上基板）的四邊端部以機械方式保持時，所產生基板中央部彎曲變形之問題，因而本件專利進一步改良將上基板全面地密著貼合在靜電吸著板的下方，而非只有在端部保持。
(c)被告雖主張被證6之光罩台具有真空吸著手段及靜電吸著手段。然被證6仍係僅係保持上側基板（光罩）的四邊端部，根本無法解決本件專利中習知技術長期存在之問題，亦即「將位於上側基板（以下稱上基板）的端部，做機械保持時，基板中央部會彎曲，此彎曲並隨著最近基板大型化、薄板化傾向增強而變大。由於利用設在上下各基板周緣端部的定位記號，來執行定位，所以彎曲大時，兩基板彼此端部的間隔無法擴大定位。甚至，因彎曲變大時，上基板中央部會因上基板的彎曲，而比周緣部更先接觸到下側基板（以下稱下基板），由於基板間隔為一定，所以散布在基板間的隔片移動，會傷及到形成在基板上的定向膜等。」（參本件專利說明書第4頁第19行至第5頁第4行）。
(d）本件專利中，由於上基板係被全面地密著貼合保持在靜電吸著板(加壓板)的下方面，故能解決上述習知技術長期存在之問題。因此，被證6之光罩台不同於本件專利之靜電吸著板，且被證6之光罩3亦不同於本件專利之上基板，故被證
6顯然不具本件專利發明之技術特徵與效果。
(e）被證6「為使光線通過，光罩3必須僅以其週邊部被載置並保持於光罩台4」與本件專利「上基板1b係被全面地密著貼合保持在靜電吸著板28的下方面」兩者所揭露之必要技術特徵完全不同。
(f)被證6無揭露任何有關於本件專利「且於該真空吸著手段動
作中使該靜電吸著手段動作，而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」之技術內容，亦無揭露用以在真空中將基板彼此貼合之「真空室」。再者，依被證6說明書第[0015]段記載「藉由靜電吸著與真空吸著兩者將試料（3）保持於試料台（30、32），所以保持力增大」。惟欲使真空吸著作用，如被證6說明書第[0002]段所記載，必須「使遮罩與遮罩載台間之氣壓比外氣壓低」。換言之，如果外氣壓達充分真空(即在真空室中)時，真空吸著力將會減弱甚至消失。再者，被證6說明書中完全未提及於真空中進行試料保持的相關說明。因此，被證6之保持上基板手段顯然是在「非真空環境中」使靜電吸著與真空吸著同時作用。
(g)被告指稱系爭專利請求項1並未界定須全面地密著貼合上基
板。被告無視系爭專利整體的技術特徵，質疑系爭專利所謂「全面地吸著」係「100%」密著貼合上基板？抑或「99%」?「98%」?被告之論述無疑係刻意模糊焦點。按系爭專利所屬技術領域具有通常知識人士，在觀看系爭專利後，自然瞭解密著貼合上基板係要避免上基板與加壓板間不要有空氣而產生放電，只要能達成此效果者均可稱之為密著貼合，且系爭專利並非數值限定專利，何需要界定密著貼合之詳細百分比數值。被告刻意忽略光罩保持器(中間有鏤空)需要讓曝光光線通過，故根本不可能讓光罩完整貼附於光罩保持器上的差異，反而全然拘泥於字面上的涵義。此適足以證明被告亦了解被證6的光罩保持與系爭專利的上基板保持實際上係不相同。又申請專利範圍要界定的是達成專利目的、解決既有問題的必要技術手段，而不需要界定習用技術所遇到的問題，倘以被告的判斷方式，則專利申請只要有申請專利範圍即可，又何須準備說明書及圖式。被告刻意忽略系爭專利先前技術所遇到的問題，斷章取義來解釋系爭專利申請專利範圍，其論點自無可採。
由於被證6所屬之技術領域與本件專利所屬之技術領域明顯不同也不相關、目的迥然不同、解決問題之技術手段及功效亦全然不同，熟習本項技術者並無合理的動機組合本件專利申請專利範圍第1項之前言部分與被證6。
且縱由於本件專利申請專利範圍第1項之前言部分並無揭露「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作，而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」之技術?容；而被證6僅是有關「在光罩台處自始併用靜電吸著與真空吸著」之技術?容，且於被證
6中，並無任何有關「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」之記載，更無任何有關「且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作，而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」之技術內容之揭露，亦即被證6中所揭露者與本件專利之技術課題全然不同，對熟習此技術人士而言，即使強制組合本件專利申請專利範圍之前言部分與被證6亦無法導出本件專利申請專利範圍第1項所界定之「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著動作中使該靜電吸著手段動作，而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合。」之技術?容、特?及所能達成的效果。故本件專利申請專利範圍第1項之前言部分之先前技術與被證6之強制結合並不足以證明本件專利申請專利範圍第1項欠缺進步性。
②本件專利申請專利範圍第1項之前言部分之先前技術與被
證7之結合不足以證明本件專利申請專利範圍第1項欠缺進步性：
被證7與本件專利之技術領域及目的、功效並不相同：
A.被證7係關於用於薄板狀之晶圓上描繪LSI圖案等之電子束曝光裝置或於晶圓進行成膜和蝕刻等之晶圓處理的半導體製程裝置所搭載的晶圓裝填裝置（參被證7說明書第101頁左下欄倒數第3行起至右下欄第2行；被證7-1號說明書第1頁第14至17行），此與本件專利係關於一種在真空室內分別保持要被貼合的基板，並使之相對，在真空中將基板間間隔變窄而貼合的基板之安裝裝置，兩者之技術領域不相同，亦不相關。
B.被證7之目的與功效係提供一種可增大對於試料（晶圓）保持部之吸著力、且易於進行試料之脫離等之試料裝填裝置及其裝填方法（參被證7說明書第102頁左上欄第16至20行；被證7-1號說明書第2頁第12至14行），此與本件專利係提供一種即使基板尺寸大型化、薄板化，依然能在真空中高精密度地貼合基板之基板安裝裝置（參本件專利說明書第5頁第16至18行），兩者之目的與功效並不相同。
被證7並未揭露本件專利申請專利範圍第1項之技術特徵：
A.被證7並無揭露任何有關於本件專利「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」之技術內容。被證7之固定器108僅是具有供晶圓承載功用者，相對於此，本件專利加壓板具有對上基板施加壓力，使得上基板與下基板得以貼合之功用，兩者功用完全不同；換言之，本件專利申請專利範圍第1項所界定之技術特徵：「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」，相對於此，被證7並無任何揭露相關之結構。
B.又由於被證7所屬之技術領域與本件專利所屬之技術領域明顯不同也不相關、目的迥然不同、解決問題之技術手段及功效亦全然不同，熟習本項技術者並無合理的動機組合本件專利申請專利範圍第1項之前言部分與被證7。
C.且由於本件專利申請專利範圍第1項之前言部分並無揭露「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作，而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」之技術?容；而被證7僅是有關「將試料(晶圓)載置於基台上，並單純在大氣中以真空吸著來減少基板的變形而將其平坦化後，再施以靜電吸著來增加其平坦化的效果」之技術?容，且於被證7中，並無任何有關「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」之記載，更無任何有關「在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」之技術內容之揭露，亦即被證7中所揭露者與本件專利之技術課題係全然不同，對熟習此技術人士而言，即使強制組合本件專利申請專利範圍之前言部分與被證
7，充其量僅教示出本件專利用以保持下基板的工作台，並未能教示本件專利用以保持上基板之加壓板，亦無法導出本件專利申請專利範圍第1項所界定之「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著動作中使該靜電吸著手段動作，而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合。」之技術?容、特?及所能達成的效果。故本件專利申請專利範圍第
1項之前言部分之先前技術與被證7之結合並不足以證明本件專利申請專利範圍第1項欠缺進步性。
D.被證7僅揭露一「下基板」的保持，並未能直接應用在「上基板」，因為上基板的保持有基板本身自重需要克服的問題。被證7所揭露者，僅可判斷真空吸著與靜電吸著在使用前後上有差異，但是被證7均並未揭露系爭專利「為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作，而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」之技術特徵，亦即具有上基板保持來進行上下基板貼合。因此被證7均未揭露出系爭專利所欲解決之「上基板因尺寸變大導致中央部變形問題」、「上基板自身重量之問題」，故被證7不足以證明系爭專利不具進步性，被告之論點顯不可採。
E.單就將被證7所揭露的真空吸著與靜電吸著直接強制結合本件專利的先前技術，會產生：(1)上基板自重變形的問題；
(2)需克服上基板自重來將其保持的問題；及(3)上基板與加壓板間放電問題。此等問題以後見之明觀之，或許會有似乎可輕易完成的錯誤認知。但熟習該項技藝人士縱使將不同技術領域的半導體下部基板保持方式直接應用在液晶面板製程後製程的面板上基板保持，亦會遭遇至少上述3個問題，將該等問題忽略而率爾判斷本件專利可經由本件專利的先前技術與被證7結合即可輕易達成的論點，實際上存在明顯的瑕疵。
③本件專利申請專利範圍第1項之前言部分之先前技術與被證
8之結合不足以證明本件專利申請專利範圍第1項欠缺進步性。
被證8與本件專利之技術領域、目的及功效並不相同：
A.被證8係關於一種半導體晶圓之電子束退火裝置中，將半導體晶圓（試料）固定於試料固定器之裝置，以改善晶圓與固定器間接觸面不均勻之問題（參被證8說明書第1頁第14至15行、第3頁第10行；被證8-1號說明書第1頁第12至13行、第3頁第12行）。此與本件專利係關於一種在真空室內分別保持要被貼合的基板，並使之相對，在真空中將基板間間隔變窄而貼合的基板之安裝裝置，兩者之技術領域不相同，亦不相關。
B.被證8之目的與功效係提供一種真空吸著手段與靜電吸著手段，以真空吸著手段來矯正試料之翹曲，並以靜電吸著手段來確實地固定試料固定器，使試料在預備加熱時不會產生溫度斑之試料保持裝置（參被證8說明書第7頁第7至15行；被證8-1號說明書第4頁第7至10行）此與本件專利係提供一種即使基板尺寸大型化、薄板化，依然能在真空中高精度的貼合基板之基板安裝裝置，兩者之目的與功效並不相同。
被證8並未揭露本件專利申請專利範圍第1項之技術特徵：
被證8並無揭露任何有關於「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」之技術內容。此外，參照被證8之圖2，試料4係載置於絕緣物質2上，雖被告主張「於試料固定器1中備有真空吸著手段及靜電吸著手段」，惟試料充其量僅可對應於本件專利的下基板，而顯然無法對應至本件專利之上基板（位於真空室內之上方的加壓板之下面的一側之基板1b），除非試料4能變成載置於絕緣物質2之下方。但是被證8之說明書及圖式並無揭露任何有關試料4能載置於絕緣物質2之下方的技術內容。換言之，就本件專利申請專利範圍第1項所界定之技術特徵：「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」，被證8並無任何揭露。
由於被證8所屬之技術領域與本件專利所屬之技術領域明顯
不同也不相關、目的迥然不同、解決問題之技術手段及功效亦全然不同，熟習本項技術者並無合理的動機組合本件專利申請專利範圍第1項之前言部分與被證8。
由於本件專利申請專利範圍第1項之前言部分並無揭露「加
壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作，而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」之技術內容；而被證8僅是有關「以真空吸著來矯正基板的反翹後，利用靜電吸著來維持其平坦性」之技術內容，且於被證8中，並無任何有關「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」之記載，亦即被證8中所揭露者與本件專利之技術課題係全然不同，對熟習此技術人士而言，即使強制組合本件專利申請專利範圍之前言部分與被證8，充其量僅教示出本件專利用以保持下基板的工作台，並未能教示本件專利用以保持上基板之加壓板，亦無法導出本件專利申請專利範圍第1項所界定之「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著動作中使該靜電吸著手段動作，而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合。」之技術內容、特徵及所能達成的效果。故本件專利申請專利範圍第1項之前言部分之先前技術與被證8之結合並不足以證明本件專利申請專利範圍第1項欠缺進步性。
被證8僅揭露一「下基板」的保持，並未能直接應用在「上
基板」，因為上基板的保持有基板本身自重需要克服的問題。被證8所揭露者，僅可判斷真空吸著與靜電吸著在使用前後上有差異，但是被證8均並未揭露系爭專利「為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作，而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」之技術特徵，亦即具有上基板保持來進行上下基板貼合。因此被證8均未揭露出系爭專利所欲解決之「上基板因尺寸變大導致中央部變形問題」、「上基板自身重量之問題」，故被證8不足以證明系爭專利不具進步性，被告之論點顯不可採。
④本件專利申請專利範圍第1項之前言部分之先前技術與被證
32之結合不足以證明本件專利申請專利範圍第1項欠缺進步性。
被證32為半導體的搬送裝置，與本件專利之液晶製造裝置係屬不同之技術領域，故與本件專利所欲解決之問題及採用的技術手段完全不同，更無在真空環境下將兩基板加以貼合的相關敘述。縱使被證32中提到真空吸著及靜電吸著，然被證32是否揭示本件專利之技術仍應以被證32所欲解決之課題及所達成之功效來加以判斷。然被證32所揭露者如同被證7、被證8，被告所欲強調僅在於先前技術中已有使用真空吸著及靜電吸著之技術，然同上述被證7、被證8，強制結合本件專利之先前技術與被證32，充其量僅教示出本件專利用以保持下基板的工作台，並未能教示本件專利用以保持上基板之加壓板，然要將相關概念使用在上基板，便會至少產生3點前述強制結合時的問題，故本件專利申請專利範圍第1項之前言部分之先前技術與被證32之結合並不足以證明本件專利申請專利範圍第1項欠缺進步性。
⑤本件專利申請專利範圍第1項之前言部分之先前技術與被
證33之結合不足以證明本件專利申請專利範圍第1項欠缺進步性。
被證33說明書第3頁右下欄倒數第6行記載有晶圓的保持動作為「1.真空容器內在大氣的狀態下…排氣，將晶圓1吸著於載體2表面；2.將晶圓吸著經過一定時間後覆蓋接點，將開口部、真空夾具用真空配管內成為較容易引起輝光放電之真空度更真空的高真空；3.之後，將施加於靜電夾具之電壓提升至既定值；4.真空容器內開始抽真空」。由是可知，被證33為大氣壓下進行真空吸著，之後再進行靜電吸著，然後在真空吸著與靜電吸著併用的狀態下將處理室抽真空(與被證7、8號相同)。但是，被證33同樣是將基板載置於重力方向的方式來加以支撐，不同於本件專利要對抗重力來保持上基板，因此被證33根本不會存在本件專利中上基板會落下的問題，亦即被證33中即使沒有了真空吸著，晶圓也不會自載體落下，但本件專利一旦失去真空吸著力而未以靜電吸著加以保持上基板，則上基板便會因為重力而落下，因此兩者所欲解決的問題完全不同。然同上述被證7、被證8，強制結合本件專利之先前技術與被證33，充其量僅教示出本件專利用以保持下基板的工作台，並未能教示本件專利用以保持上基板之加壓板，然要將相關概念使用在上基板，便會至少產生3點前述強制結合時的問題，故本件專利申請專利範圍第1項之前言部分之先前技術與被證33之結合並不足以證明本件專利申請專利範圍第1項欠缺進步性。且被證33號與本件專利同屬不同之技術領域，從而被證33號根本無從論究本件專利的進步性。
⑥本件專利申請專利範圍第1項之前言部分之先前技術與被證
34之結合不足以證明本件專利申請專利範圍第1項欠缺進步性。
被證34為半導體製造裝置而與本件專利液晶製造裝置的技術領域不同。被證34係為了防止污染物附著於晶圓上，而將晶圓固定於處理室上部的方法，由其說明書第2頁上段倒數第
9行之實施例記載可知，被證34之晶圓係藉由靜電吸著而固定於介電膜，其孔部不是要用來真空吸引，而是為了要使得晶圓由介電膜加以剝離之用，與本件專利所欲達成之目的完全相反，又以靜電吸著將晶圓固定於介電膜時，其中的孔洞雖有進行真空排氣，但這真空排氣並不是要來達成真空吸著，而是為了避免輝光放電的產生。由是可知，被證34裡所提到之真空排氣非等同於本件專利的真空吸著，且其係為了避免污染物附著於晶圓上，與本件專利係用以將兩基板貼合者在所欲達成之效果上完全不同。然同上述被證7、被證8，強制結合本件專利之先前技術與被證34，充其量僅教示出本件專利用以保持下基板的工作台，並未能教示本件專利用以保持上基板之加壓板，然要將相關概念使用在上基板，便會至少產生3點前述強制結合時的問題，故本件專利申請專利範圍第1項之前言部分之先前技術與被證34之結合並不足以證明本件專利申請專利範圍第1項欠缺進步性。且被證33與本件專利同屬不同之技術領域，因此被證34根本無從論究本件專利的進步性。
⑦被證9或被證10與被證6、被證7、被證8、被證32、被證33或被證34其中之一之結合不足以證明第1項欠缺進步性：
被證6、被證7、被證8、被證32、被證33或被證34與本件專利之技術領域、目的及功效並不相同，而被證9與被證10雖與本件專利屬相同技術領域，但其所揭示之內容亦與本件專利無關：
被證9係關於在液晶顯示裝置之玻璃基板的微細空隙（8~10
）間充填液晶之液晶充填方法及充填裝置（參被證9號說明書第171頁右下欄第10至14行；被證9-1號說明書第1頁第25至27行）；本件專利係關於一種在真空室內分別保持要被貼合的基板，並使之相對，在真空中將基板間間隔變窄而貼合的基板之安裝裝置（參本件專利說明書第4頁第1至3行）。因此，被證9號與本件專利之技術領域不相同，亦不相關。
被證9僅記載將藉由汽缸對兩基板施壓以進行接著貼合，並
未揭露系爭專利藉由真空及靜電吸著的使用時間點差異來保持上基板，以達到和下基板能平行地貼合之技術特徵。被證
9的目的在於獲得較高速的液晶充填，然而，由其第1圖所示的方法來看，其係利用由下而上支撐上基板邊緣的方式來保持上基板，故上基板將會產生撓曲，當基板尺寸變大，則隨著該撓曲的量變大便會使得上下基板無法精確的貼合；又，上下基板在進行定位時，該撓曲亦無法讓上下基板的間隔變窄，來使得對位標記進行高精度的對位。而第2圖所示的方法中，係以手動來將基板貼合，而標記的對位係以目視來進行，因此並無法得到良好的對位效果。
被證9雖與系爭專利同屬上下貼合式之液晶貼合裝置，但由
其第一圖便可清楚知悉其上基板的保持係利用「機械臂保持」，甚至根本未述及以「真空吸著」來保持上基板。
被證10係關於一種液晶顯示器之製造裝置中之位置檢測用感
測器、位置校正機構、及供給特定量液晶之分配機構等之配置。其中並未提及任何有關保持上下基板的手段方式，而被證10內容之特徵與本件專利係併用真空吸力吸著及靜電吸著以保持玻璃基板之技術，兩者之技術領域並不相同，亦不相關。
被證10係關於上下基板的定位，雖其提及以真空室來進行上
、下基板貼合，但亦未記載系爭專利利用真空及靜電吸著的使用時間點差異來保持上基板，並使上、下基板貼合之技術特徵。被證10雖記載有「用以支撐上基板24a的上機台26」，但並未有任何在真空中以上機台支撐下基板之記載。再者，被證10是在真空中將基板傳遞至貼合裝置之上下基台的結構，明顯可知在此種結構上使用真空吸著是沒有意義的，因此在根本不可能使用真空吸著的情況下，殊無可能將被證10與有使用真空吸著的其他證據(如被證7、被證8)加以結合來輕易達成系爭專利之技術特徵。因此熟習該項技藝人士參看被證9僅會獲得關於液晶充填技術之教示、而參看被證10僅會獲得關於基板定位技術之教示，故充其量被證9及被證10之結合僅揭露液晶面板貼合可利用上下貼合方式進行，而未揭露系爭專利以「靜電吸著」來保持上基板之技術手段。縱使將被證7、被證8用以保持晶圓的技術應用在被證9、被證10或本案先前技術，亦僅能適用在下基板保持，應用在上基板上絕對會產生無法簡單轉用的問題。
被告舉出被證9及被證10，無疑係為強調液晶面板有上、下
基板需要進貼合的情況。惟就一般液晶面板製造業者而言，以何種手段來進行貼合以及以何種手段來克服基板尺寸變大後所產生的問題，才是所欲克服的問題難點。若以被告論點，要做出一個300吋的液晶面板也非難事，因為只要讓上下基板貼合即可。但實際上，正因液晶面板存在有尺寸變大所產生之問題，故即令現今的技術都無法達成例如300吋的液晶面板。因此，系爭專利技術不是只存在有將上下基板貼合，更應注意到其請求項1所記載的全部技術特徵，才是系爭專利達成發明所欲達成功效的技術手段。
被告雖引用被證32至被證34主張關於真空吸著與靜電吸著的
使用在其他領域中已有所記載云云。然原告從未指稱真空吸著與靜電吸著係原告所發明者，實其乃利用自然法則的技術運用，被證32仍係一半導體的基板搬送裝置；被證33則相關於防止放電而內藏接點之真空接頭；被證34仍然為半導體處理裝置，無論被證32、被證33或被證34皆完全未揭露將真空吸著與靜電吸著使用於用以保持上基板之液晶面板貼合裝置。此即證明於液晶面板貼合領域中，系爭專利係屬全新的技術，而被告所引證據不論內容所載為何，其所欲強調之重點僅在於其他領域的先前技術中已有使用真空吸著與靜電吸著的相關技術，但卻無法證明真空吸著與靜電吸著在當時早已存在於各領域的情況下，為何無法發現任何一件能將該等技術應用於液晶面板貼合裝置的上基板保持的先前技術。
由於被證6、被證7、被證8、被證32、被證33及被證34所
屬之技術領域與被證9及被證10所屬之技術領域明顯不同也不相關，目的迥然不同、解決問題之技術手段及功效亦全然不同，熟習本項技術者並無合理的動機組合被證9或被證10與被證6、被證7、被證32、被證33及被證34其中之一。
被告引用被證6、被證7、被證8、被證32、被證33或被證
34主要的目的在於說明先前技術中已有使用真空吸著與靜電吸著技術，然被證6係保持光罩周邊之技術，與本件專利需全面保持上基板以避免其因大型化而撓曲變形，並與下基板進行貼合之技術迥然不同；被證7、被證8、被證32、被證33及被證34則均為半導體基板的保持技術，並未具有教示上基板保持的相關內容，即使強制將被證9或被證10與被證7、被證8、被證32、被證33及被證34結合，如欲強制地應用在保持上基板之加壓板，則便會有熟習本件專利技術領域之技術人士所能理解之(1)上基板自重變形的問題；(2)需克服上基板自重來將其保持的問題以及(3)上基板與加壓板間放電問題，因此該等強制結合並無法輕易達成，自當無法加以結合來解決本件專利所欲解決之問題。
⑸強制組合被告之引證文獻會產生(1)上基板重力落下、(2)
基板撓曲變形及(3)放電等系爭專利技藝人士者可預期必然發生之問題，故無法輕易完成系爭專利之發明原告已說明被告所引證據間的組合會產生至少3點問題，即(1)因上基板尺寸變大，會有因重力落下而無法輕易保持之問題；(2)因上基板尺寸變大會有基板撓曲變形問題；(3)大氣下啟動靜電吸著會有靜電吸著器與基板間的放電問題。故倘強制組合被告之引證文獻會產生上基板重力落下、基板撓曲變形及放電等系爭專利技藝人士者可預期必然發生之問題，即屬於無法輕易完成系爭專利之發明。被告則質疑上述問題並未在說明書中加以記載，因此不足採信云云。惟專利說明書之記載僅須系爭專利技術領域之通常知識人士者所可理解之程度即可，不需要連枝微末節均加以記載在說明書中。況系爭專利說明書在先前技術中已明白指出，系爭專利所欲解決的課題主要有3：即：(1)在真空中無法利用壓力差來進行真空吸著(系爭專利說明書第4頁第4段)；(2)以機械保持的基板中央部會彎曲，隨著基板大型化及薄型化，彎曲現象會更嚴重(系爭專利說明書第4頁第5段)；即(3)彎曲越大，則無法利用基板周緣的標記來定位。由此可知，在基板大型化時，基板本身重量即會增加而有難以保持而容易因自重落下的現象(系爭專利說明書第4頁第6段)。物體尺寸變大，其重量自然相對變大，因此由上而下保持物體時就有自重落下的現象，此種眾所皆知之一般物理定律，毋須記載於說明書中；再者，由於基板大型化、薄型化的關係，基板可能產生撓曲現象亦屬系爭專利所屬技藝人士可清楚明瞭的事項，毋須於說明書中記載。又再者，在大氣下使用真空吸著，若基板於保持器之間的貼合效果不佳，則使用靜電吸著便會有放電問題產生，此亦為熟習該項技藝人士所知悉的問題。⑹被告所引先前技術係使用於「半導體」技術領域而與本件專
利係使用於「液晶」技術領域不同，本件專利所屬技藝人士無法依據先前技術而輕易完成本件專利之發明；況不同領域的裝置，縱使使用相同或類似的技術，但確實能替該領域解決長久以來無法獲得解決之課題，則應視為具有進步性①被告指稱：「根據系爭專利審定時之『專利審查基準』(系
爭專利審定時之專利審查基準有關『進步性判斷原則』部分…)，判斷進步性的先前技術並不以與該發明專利屬相同國際專利分類號碼之文獻資料為限，如先前技術之技術內容與該發明專利屬於類似、接近、或有關的技術領域，則其組合即可輕易完成，足以證明該發明專利欠缺進步性」惟上述文字，完全未見於系爭專利審定時之「專利審查基準」，係被告刻意自行杜撰而欲混淆視聽。
②系爭專利審定時之「專利審查基準」第二章專利要件第四節
進步性之「二、判斷進步性之基本原則」中，並未提及關於專利分類號碼問題。反之，於該段3.中尚指出「判斷發明有無進步性時，應確實依據發明所屬技術領域，以及申請當時之技術水準…如其選擇與結合具有困難度，並非為熟習該項技術者所能輕易完成者及具有進步性…」。又在「三、判斷方式」中其中2.提到「文獻之技術內容屬於非類似、非接近或無關的技術領域者，則其組合，通常是為非能輕易完成」。專利審查基準完全沒有被告所指稱「如先前技術之技術內容與該發明專利屬於類似、接近、或有關的技術領域，則其組合即可輕易完成，足以證明該發明專利欠缺進步性」之文字敘述，明顯被告刻意自行杜撰而欲混淆視聽。
③被告於民事答辯(六)狀暨陳報狀中，主張「半導體製程的
晶圓保持手段與液晶顯示器製程中的玻璃基板保持手段係屬相同技術領域，所以半導體製程與液晶顯示器製程中所使用之基板保持手段為相同的」云云。然僅以附件10或13中記載「關於半導體或液晶之製程」云云，即驟然論定半導體製程與液晶製程之製造技術屬相同技術領域，其理由實難令人信服。首先，依智財局之國際專利分類(IPC)檢索系統(第7版)，系爭專利之國際專利分類(IPC)屬於G02F或G09F，而被證6至8號及被證32至34號之國際專利分類(IPC)則是屬於H01L，兩者顯然分屬不同技術領域。
④液晶與半導體在製程上，於前製程雖有些許類似，如成膜、
蝕刻、顯影等，因此涉及到前製程的相關液晶或半導體的專利多會被歸類為相同或類似，但液晶與半導體在後製程上卻迥然不同(參看原證36)。液晶的後製程為基板的貼合，半導體的後製程為基板的封裝，而系爭專利係相關於液晶的後製程，故被告強將兩者說成類似，顯然不符產業狀況。半導體和液晶顯示器雖均係由在基板上成膜的製程與將成膜後的基板加以組裝的製程所組成，但基板上成膜的製程於基板的大小尺寸上有極大的差異，雖成膜主要的製程有些許類似，而基板支撐的方式也略有相同，但是在基板的組裝製程上卻完全不同，故半導體製程與液晶顯示器製程中所使用之基板保持手段並不相同。原告謹說明如下：
被告主張液晶顯示器製程中，包括真空排氣裝置、真空裝置
以及基板搬送裝置均係由半導體製程轉用而來。惟系爭專利與半導體製造果若如被告所指屬於相同之技術領域，則其彼此間之相關技術應當僅有是否可直接應用之問題，又何來被告所稱之「轉用」？被告之主張顯然自相矛盾而無可採。以真空吸著、靜電吸著等技術而言，早在半導體問世前即廣泛應用於各不同技術領域，根本並非如被告所稱係由半導體製程轉用而來。
半導體的組裝製程係將以成膜製程使其具有半導體功能之基
板裁切成各部元件後，於其外部組裝介面用端子再予以封裝。相對於此，液晶顯示器係將兩片基板加以貼合以夾置液晶，此製程在半導體中完全沒有，雖成膜之前製程上有些許類似，但將液晶顯示器製程中的組裝製程與半導體製程的組裝製程加以比較，則至少在組裝製程上兩者並非相同技術領域。此由被告所引證的半導體相關引證案中均為單片基板的結構即可得知。因此，單以半導體製程與液晶製造製程中部份相似的製程即推論半導體與液晶為相同之技術領域，顯然誤謬。
再者，以基板的尺寸觀之，半導體晶圓為12吋(約300mm)，
而液晶顯示器的玻璃基板在系爭專利申請時最大為720mm×920mm，現在最大則為2880mm×3130mm，在尺寸的差異上完全不同。因此，即使是類似製程的成膜製程，液晶顯示器與尺寸較小的半導體晶圓所需注意的問題實際上完全不同，故半導體與液晶顯示器根本係屬完全不同的技術領域。
被告雖援引日本專利特開平00-000000號(舉發證據12)及
日本專利特開平0-000000號(舉發證據11)之部份內容主張所謂半導體與液晶製造屬相同技術領域。惟此種差異就如同跑車(半導體)與飛機(液晶面板之上基板)，在陸地上行走的情況兩者類似，但跑車在行走的後段卻是要利用空氣阻力來將車身儘量貼合地面，而飛機在行走的後段卻是要對抗自身重量而離開地面，此兩者有明顯差異。被告主張半導體製程與液晶製造技術屬相同技術領域云云，實屬錯誤。
被告使用「基板之保持」來統稱液晶與半導體製程中基板之
保持。惟液晶基板的保持包含有上、下基板，其中又以上基板之保持因須處理地心引力作用，而具有操作上的困難性，但半導體的基板保持僅有下基板，並無液晶基板的保持所須面對之技術難題，原告亦於民事準備(11)狀中纂述甚詳，故被告指摘原告忽視液晶後製程中的基板保持云云，顯有誤會。相對於此，被告僅僅以下基板保持便將所有基板保持方式的達成視作理所當然或認為可輕易達成，實無可憑採。
原告先前即已明白指出，被告所引日本專利特開平00-00000
0號之段落0001中指稱「半導體製造裝置與液晶製造裝置之半導體晶圓與液晶用玻璃面板等的被固定物」，此處的液晶用玻璃面板，並未明白指出係由上向下吸附的保持。照一般常識，基板物體的運送或保持，均係利用由下支撐或由下向上吸附的方式進行，即被告所援引的半導體相關技術。但若是將其吸附、保持方式上下顛倒，則便會產生達成上的困難。被告所引用的半導體相關基板保持之前案，充其量不過係屬於系爭專利下基板部分的保持，完全不會有系爭專利上基板保持時所會遇到的困難性。被告所謂基板保持技術可以共通云云僅係針對下基板保持的角度來看，卻完全忽視其並未能被援用來處理保持上基板的問題。被告無法提出為何上基板的保持可以忽略重力所帶來的影響以及保持上基板相關之達成困難性，率爾主張系爭專利不具進步性，實無可採。
被證6至被證8以及被證32至被證34中提及的真空吸引及靜
電吸著，均為利用自然法則的既有技術，姑且不論此技術在本件專利申請當時(1999年)是否存在，然本件專利使用該等技術於上基板之保持且改變該等技術之作用順序而產生一未見於任何先前技術中之新穎技術，即對上基板實施在「該真空吸著動作中使該靜電吸著手段動作」之技術手段，確實解決了當時貼合裝置長久以來上基板會產生變形的問題，反觀被證9號及被證10號，因為僅提到有本件專利案件的貼合技術，卻無本件專利的技術特徵，因此將存在本件專利所提到的上基板變形之問題，若以被告所指，則利用自然法則的技術均應不予獲准專利，而將有礙產業的發展，故本件專利確實解決10年前，貼合裝置所長久存在的問題，藉由加壓板所具有的真空吸著手段與靜電吸著板，利用該真空吸著動作中使該靜電吸著手段動作，來達成本件專利所欲達成的目的及功效，因此本件專利案確具進步性無疑。
⑤被告指稱液晶面板與半導體技術在同一雜誌(被證39)中介
紹，故液晶面板與半導體技術應可輕易組合云云。惟例如：一醫學雜誌刊載外科手術方法與內科診療方法之論文，難道即可謂外科手術與內科診療屬同一或類似技術？被證39液晶面板技術為傳統縱式保持面板並以毛細吸附液晶之技術；半導體技術則為焊錫凸塊相關，兩者明顯無關，倘以被告論點，應可依被證39所刊載液晶面板製造技術與半導體技術加以輕易結合，但實際上可發現，被證39中的液晶面板製造技術與半導體技術所揭示技術內容為完全無關的兩種技術，兩者技術根本不可能輕易組合。因此，被告所謂液晶面板與半導體技術應可輕易組合之論點，明顯謬誤。液晶面板與半導體技術同屬高科技產業，在同一雜誌中介紹不足為奇，因此以被證39根本無法證明被證7、被證8之半導體技術領域與被證9、被證10及本案先前技術可以輕易組合。
⑥液晶面板與半導體在形成線路圖形所使用的蝕刻、曝光顯影
等光微影技術乃屬於兩領域的前製程技術，此前製程技術雖可應用於此兩技術領域中，但本件專利所揭露之貼合技術乃屬「後製程技術」，而半導體後製程技術乃在封裝而非貼合，兩者明顯有所差異，又豈可能輕易組合。此種差異就如同跑車(半導體)與飛機(液晶面板之上基板)，在陸地上行走的情況兩者類似，但跑車在行走的後段卻是要利用空氣阻力來將車身儘量貼合地面，而飛機在行走的後段卻是要對抗自身重量而離開地面，此兩者有明顯差異。難道在跑車上增設一對機翼，跑車就會起飛如同飛機？被告未詳細區別液晶面板技術與半導體技術在實際運用上之細微差異，即稱液晶面板技術與半導體技術應可輕易組合云云，顯無可採。
⑦被告在2005年6月於「SemiconductorFPDWorld」期刊第
106~107頁(參見原證37)中，明白地表示以平面顯示器
(FPD)製造前工程為主的被告為擴展其市場佔有率，因此須合併精於液晶製造後製程的辛○○VLSI，亦提到ODF裝置(液晶滴下裝置)的普及係因為TV用面板大型化使得習知的液晶注入裝置已無法對應使用，而液晶滴下/真空貼合裝置包括有液晶滴下→真空貼合(加壓)→UV硬化與搬送裝置。目前最大基板尺寸為1500×1800mm2。1870×2200mm2，2160×2400mm2的對應裝置還在開發中。尤其最大特徵在於真空貼合(加壓)裝置。由此可知，若系爭專利的技術特徵真如被告所指稱藉由其所援引的被證6~被證10即可輕易完成者，則精於液晶製造前製程的被告根本無需接受來自辛○○VLSI的事業讓渡之必要。且被告自承基板尺寸大型化所導致的問題亦確實存在於液晶製造業的領域，基於前述的各項事實，縱使原告、被告、辛○○此等熟習液晶製造的專門業者，觀看被告所援引的被證6至被證10後，在系爭專利先前技術的指引下，假使將其中任2者加以結合，也會至少遇到(1)上基板自重變形的問題、(2)需克服上基板自重來將其保持的問題以及(3)上基板與加壓板間放電問題。此絕非被告所援引不同技術領域(半導體)的被證7、8、6與被證9、10之結合所可以輕易達成；且在思維上亦需考量即使原告與被告所接受事業讓渡之「辛○○VLSI株式會社」此等熟習該項技藝人士，亦需要經由多年研發才能創造出系爭專利，故不應以後見之明的角度來審視系爭專利，或將系爭專利的重點技術忽略，再以曲解系爭專利實際技術後的內容來否定系爭專利的價值。
⑺被告亦自承本件專利乃全世界第一台使用靜電吸著手段的液
晶面板貼合裝置，足證本件專利具有突出的功效而存有顯然的進步①關於進步性之判斷標準，專利審查基準規定：如選擇與結合
具有困難度，並非為熟習該項技術者所能輕易完成者，即具有進步性。又，以先前技術之片斷部份相互組合，而判斷發明是否能輕易完成時，應考慮發明是否具有「突出的技術特徵」或「顯然的進步」。而「顯然的進步」係指申請專利之發明克服先前技術中存在的問題點或困難性而言，通常係表現於功效上。專利審查基準關於轉用發明部份亦記載有某一技術領域之既有技術、知識被轉用至其他技術領域。如此之轉用，對熟習該項技術者而言，可產生突出的技術特徵或顯然的進步，或可克服其他技術領域之技術問題者，此種轉用視為非能輕易完成。惟如此之轉用，如係於類似或近似之技術領域中進行，而未能產生突出的技術特徵或顯然的進步，則此種轉用視為熟習該項技術者所能輕易完成。
②縱使被證6、被證7、被證8、被證32、被證33或被證34中
提到真空吸著及靜電吸著，然由被告所舉為數眾多的半導體相關申請案中，均有提及真空吸著與靜電吸著的使用，但卻無任何一件係關於液晶面板製造領域(尤其是後製程的貼合組裝製程)的相關使用，此更可證明本件專利在申請當時實為一嶄新的技術創新，故被證6、被證7、被證8、被證32、被證33或被證34根本無從論究本件專利的進步性。
③原告本件專利首創者係將真空吸著與靜電吸著使用於液晶面
板製造的上基板保持以克服基板尺寸變大所帶來的問題，並獲致商業上之成功，在原告此項發明問市之前，並無任何廠商能夠克服此一技術難題。被告無法提出液晶面板製造領域中，於本件專利申請前已使用真空吸著與靜電吸著的文獻，因此刻意支解系爭專利請求項1的技術特徵，刪除液晶面板製造領域中的技術特徵，僅留下真空吸著與靜電吸著部份，刻意誤導技術審查官僅著眼於「真空吸著」與「靜電吸著」，並刻意忽略不論由下保持物體與由上保持物體時，由上保持物體會有物體自重需克服的問題。倘若允許任何侵權者將專利權的申請專利範圍的技術特徵加以分割、刪除，再藉由無關、或不同但近似領域等的技術或文獻來否定所剩下相同或類似的技術特徵，如此將沒有任何專利可以獲准，更失去專利法立法促進產業發展的精神。
④被告於99年12月6日庭訊時亦自承本件專利相關機台LP500
乃當時全世界第一台使用靜電吸著手段的液晶面板貼合裝置，由此更可證明為何本件專利相關基台可以獲得日本新機械振興賞的頭獎經濟產業大臣賞(原證38)，更加證明本件專利因具有突出的功效而存有顯然的進步，因此符合進步性的專利要件無疑。倘若以被告所言，強制組合被證7至被證10、被證32至被證34或本件專利先前技術係可輕易達成，則早在LP500問世前，被告或與原告一同進行基台研發的辛○○公司早可以輕易完成本件專利相關的機台，由此更可證明本件專利即使熟習該項技術領域的被告及辛○○公司均無法輕易的完成，而被告剽竊原告之心血，而以後見之明否定本件專利的功效，實無可採。
⑻綜上所述，系爭專利並未違反專利法之規定，被告所提理由
及證據均無法證明系爭專利有違專利要件之進步性，被告僅以與本件專利不同領域之半導體等有揭露真空吸著與靜電吸著技術之相關先前技術(被證6至被證8、被證32至被證34)，配合僅教示有液晶面板的上下貼合之被證9及被證10之強制組合即欲質疑本件專利申請專利範圍第1項之進步性，忽略強制結合時將產生至少3個因上基板大型化時所會遇到的問題，明顯有違專利實務、專利審查基準以及專利侵害鑑定要點之規定，委無可採。
⒍原告有權請求排除被告等侵害系爭專利之行為，並連帶負擔
損害賠償責任⑴按專利法第56條第1項規定：「物品專利權人，除本法另有
規定者外，專有排除他人未經其同意而製造、為販賣之要約、販賣、使用或為上述目的而進口該物品之權。」；同法第84條第1項並規定：「發明專利權受侵害時，專利權人得請求賠償損害，並得請求排除其侵害，有侵害之虞者，得請求防止之。」。
⑵被告日商乙000000000所販售之系爭機器既為落入系爭專利
申請專利範圍之物品，依據上開規定，被告日商乙000000000輸入、為販賣要約及販賣系爭機器之行為，自屬侵害原告所有系爭專利之侵權行為；被告己○○公司與被告日商乙000000000共同為販賣要約及販賣系爭機器，亦侵害原告之系爭專利，而應依民法第185條之規定，對於原告負擔連帶損害賠償責任。為此原告爰依據專利法第84條第1項及民法第185條之規定，請求判決排除被告等對於系爭專利之侵害如訴之聲明第1項、第2項所示，並連帶賠償原告因渠等侵權行為所受之損害如訴之聲明第3項所示。
⒎損害賠償之計算⑴原告謹依專利法第85條第1項第2款規定，請求損害賠償。
依該款規定，原告請求損害賠償時，得依侵害人因侵害行為所得之利益請求，於侵害人不能就其成本或必要費用舉證時，以銷售該項物品全部收入為所得利益。
⑵被告迄今銷售予台灣市場之系爭機器共有44台，以每台預估
之銷售金額為135,000,000元日幣到248,000,000元日幣之間計算，其全部收入為9,157,000,000元日幣，倘以系爭機器於業界每台百分之五之利潤計算被告因侵害原告系爭專利所得之利益，被告所獲之利益超過新台幣一億元。茲因被告販賣系爭機器之實際數量、金額仍有待進一步釐清確認，原告爰依據民事訴訟法第244條第4項之規定，先於訴之聲明第三項表明請求之最低金額7,000,000元，並保留日後追加之權利。
⒏綜上所述，系爭專利並未違反專利法之規定，被告所提理由
及證據均無法證明系爭專利有違專利要件之新穎性、進步性，其理由均不足採，請求判決如聲請所述。
三、被告之聲明及陳述：
㈠、聲明：⒈原告之訴及假執行之聲請均駁回。
⒉訴訟費用由原告負擔。
⒊如受不利判決，被告願供擔保請求宣告免為假執行。
㈡、陳述：⒈原告系爭專利有應撤銷之原因，被告等主張有效性抗辯：
⑴按「當事人主張或抗辯智慧財產權有應撤銷、廢止之原因者
，法院應就其主張或抗辯有無理由自為判斷」、「前項情形，法院認有撤銷、廢止之原因時，智慧財產權人於該民事訴訟中不得對於他造主張權利」，智慧財產案件審理法第16條第1項及第2項分別定有明文。本件系爭專利有應撤銷之原因，被告等特此主張有效性之抗辯，請本院直接審酌其無效事由，逕行駁回原告之訴。
⑵原告系爭專利於申請前已公開使用，不應取得發明專利：
①按系爭專利之申請日為89年3月20日，主張優先權日為1999
年（即民國88年）3月30日，智財局於92年4月1日准予審定公告（請參見原證1號），故其是否違反專利法規定，應以核准審定時所適用之90年10月24日修正公布之專利法（下稱「審定時專利法」）為斷，先予說明。
②次按「申請前已公開使用者」，不應取得發明專利，審定時
專利法第20條第1項第1款定有明文，此即獲得專利所應具備之新穎性要件。至於所謂「申請前已公開使用」，依審定時專利審查基準（請參見被告前呈附件5），所謂「申請前」係指「申請當日之前」，在有優先權時，「該申請當日係指優先權日」，又所謂「公開使用」係指「由於公開使用致發明之技術內容成為公知狀態，或處於不特定人得以使用該發明狀態者而言」，亦即「如已置於不特定人得知之狀態而為使用，即不問事實上是否已知其使用之狀態，即屬公開使用」。此外「審查所謂『公開』時，得參考下列條件：以販賣為目的，而其物已成為不特定人得為交易標的之階段（程度）時，即屬公開，並不以事實上已有交易行為為必要」，亦即「使用與販賣間之公開有些不同。因販賣而公開，僅須其物已成為不特定人得為交易標的之階段（程度），即為公開，並不需要將該物解體而得知其構造後，才被認為公開」，是以，不論標的物是否屬由其外觀無從得知其技術內容者，僅須該標的物已到達不特定人得為交易標的之階段，即構成公開，並不以事實上已有交易行為為必要。
⒉原告實施系爭專利之產品（即「LP-500機器」）非但早於系
爭專利申請日前即已販售予訴外人「辛○○株式會社」，甚且「辛○○株式會社」於系爭專利申請日前即已授權「子○產業株式會社」與「癸○TechnoEngineering株式會社」得以公開宣傳並製造LP-500機器之展示機，凡此均足以構成「申請前已公開使用」之事由，自不應取得發明專利：
⑴系爭專利請求項第1項技術內容早於申請日前已即被LP-500機器所揭露：
查訴外人「辛○○株式會社」於1996年間（即民國85年）經「子○產業株式會社」之介紹而委由「癸○TechnoEngineering株式會社」（即原告前身）製造「滴下注入裝置」（即「LP-500機器」），因買方「辛○○株式會社」變更原先指定之搬入場所，故原本預定於1998年12月底前完成之LP-500機器搬入計畫因而延期，是以在「癸○TechnoEngineering株式會社」要求下，買方「辛○○株式會社」乃在搬入前先於「癸○TechnoEngineering株式會社」廠房進行LP-500機器之驗收，並旋即給付價金，從而LP-500機器於1999年1月即成為「辛○○株式會社」之固定資產（請參見被證40號至被證42號；另按被證40號至被證42號乃依鈞院99年12月6日庭訊所詢「LP-500機器於交易完成後在何人管領之下」所提出之資料，自無逾期提出之問題，原告就此容有誤會。）訴外人「辛○○株式會社」於支付系爭LP-500機器之價金後，於同年2月13日將LP-500機器搬入「株式會社米子辛○○」內，此有當時任職於「辛○○株式會社」負責LP-500機器購入及後續驗收事宜之 村田聰 先生所出具之經公認證之聲明書，證明LP-500機器確實係於1999年2月13日搬入「株式會社米子辛○○」內（請參見被證24號所附1999年
2月13日至15日會議記錄、被證25號所附1999年2月18日會議記錄）。換言之，從LP-500機器搬入之時點觀之，於搬入之際訴外人「辛○○株式會社」業已支付全額之價金，LP-500機器因而已成為「辛○○株式會社」之固定資產，由此足以證明LP-500機器已完全在「辛○○株式會社」之管理之下。又關於LP-500機器之運轉技術，由村田聰先生所出具之經公認證之聲明書（請參見被證26號）足知LP-500機器之運轉動作即如同被證26號所附「LP-500機器滴入注入裝置之流程表」所載，復將被證26號流程表所示LP-500機器技術內容與系爭專利請求項第1項技術內容相比較（請參下圖），即足以證明系爭專利請求項第1項技術內容早已被LP-500機器所揭露，是以LP-500機器之運轉技術確實與系爭專利請求項第1項相同。
┌───────────┬────────────┐│系爭專利請求項第1項│LP500滴下注入裝置│├───────────┼────────────┤│一種基板之安裝裝置│滴下注入裝置│├───────────┼────────────┤│針對用以保持貼合在位於│上平板下降，真空吸附CF││真空室內之上方的加壓之│││下面的一側基板││├───────────┼────────────┤│且使貼合的一側之基板保│將TFT基板置於下平板││持在位於真空室內的下方│││之工作台上││├───────────┼────────────┤│，利用設在任一基板的接│真空排氣，在5乘以10的負││著劑，使真空室減壓，並│3次方之時點開始貼黏貼(││在所形成的真空中，將兩│移動到開始黏貼之位置止││基板之間隔變窄，來貼合│之後每次都以加壓前數百至││基板之基板之安裝裝置中│數十μ、加壓後數μm之方│││式下降，做黏貼動作)│├───────────┼────────────┤│加壓板設有：為了保持一│上平板下降，真空吸附CF、││側的基板，而以真空吸引│真空排氣、達10的負3次方││力使吸著力作用的真空吸│torr時打開靜電吸著板││著手段、及利用靜電吸著│(electrostaticchuck)││力來保持的靜電吸著板，│││且於該真空吸著手段動作│││中使該靜電吸著手段動作│││，而來保持一側之基板││├───────────┼────────────┤│並在真空中將兩基板之間│在5乘以10的負3次方之時││隔變窄使基板彼此貼合│點開始貼黏貼(移動到開始│││黏貼之位置止之後每次都以│││加壓前數百至數十μ、加壓│││後數μm之方式下降，做到│││黏貼動作)│└───────────┴────────────┘⑵本件訴外人「辛○○株式會社」非僅係單純委託他人製造
LP-500機器，尚且因取得該機器之所有權而得隨時轉賣該機器予不特定第三人，甚且「辛○○株式會社」於系爭專利申請日前業已授權「子○產業株式會社」及「癸○TechnoEngineering株式會社」得以公開宣傳並製造實施LP-500機器技術內容之展示機，凡此均足以構成「申請前公開使用」：
①系爭LP-500機器之購入者為「辛○○株式會社」，其於系爭
專利申請日前即取得任意轉售該機器予不特定第三人之權利，甚且業已授權「子○產業株式會社」、「癸○TechnoEngineering株式會社」得以公開宣傳並製造LP-500機器之展示機：
查訴外人「辛○○株式會社」非僅係單純委託「子○產業株
式會社」、「癸○TechnoEngineering株式會社」製造LP-
500機器，甚且因購入而取得處分該機器之完整所有權，得以隨時將該機器轉售予「子○產業株式會社」、「癸○TechnoEngineering株式會社」以外之不特定第三人（詳如下述），此與原告所援引之台北高等行政法院95年訴字第1292號判決（請參見原證30號）受委託製造模具之「卯○有限公司」僅係將該模具出貨予委託製造關係中居間仲介之「丑○汽車材料有限公司」（相當於本件「子○產業株式會社」地位）、智慧財產法院98年行專訴字第80號判決（請參見原證39號）僅係將設計圖交付予特定代工公司，從而仍屬特定契約關係中特定人間交易之情形明顯不同，上開二則判決自無適用於本件之餘地，先予說明。
訴外人「辛○○株式會社」擁有LP-500機器完整所有權，其
處分、轉賣、公開使用LP-500機器之權利未受任何限制，甚且早於系爭專利申請日前其即已授權「子○產業株式會社」、「癸○TechnoEngineering株式會社」得公開宣傳、製造實施LP-500機器技術內容之展示機：
A.原告雖一再辯稱基於「辛○○株式會社」與原告前身「癸○TechnoEngineering株式會社」以及「子○產業株式會社」間所簽署之「研發合作契約」，購買LP-500機器並取得所有權者為「株式會社米子辛○○」，且「株式會社米子辛○○」基於與「子○產業株式會社」1995年9月21日所簽署之「物品交易基本契約書」（請參見原證32號）不得將LP-500機器技術內容洩漏予第三人知悉云云。實則，縱不論原告從未提出任何證據證明取得LP-500機器所有權者為「株式會社米子辛○○」，被證2號「秘密保持契約書」以及被證4號「備忘錄」均業已明載簽署契約購買LP-500機器之主體乃「辛○○株式會社」，從而轉賣、處分或公開使用LP-500機器之權利是否受有限制自應以LP-500機器所有權人「辛○○株式會社」依約是否受有限制為斷，此乃當然之理。又「辛○○株式會社」既為LP-500機器之所有權人，則「株式會社米子辛○○」與「子○產業株式會社」前開於1995年9月21日所簽署之「物品交易基本契約書」自無拘束「辛○○株式會社」之效力，更遑論「辛○○株式會社」與「子○產業株式會社」、「癸○TechnoEngineering株式會社」特別針對LP-500機器之製造、販售條件所簽署之被證2號「秘密保持契約」、被證4號「備忘錄」乃分別於1997年12月9日以及1998年12月10日締結，就LP-500機器之交易自應優先適用該等契約之約定，自屬當然。
B.經查，訴外人「辛○○株式會社」於1999年2月間購入LP-500機器之際，被證2號「秘密保持契約」業已屆期失效，而依當時適用於三方關於LP-500機器交易之被證4號「備忘錄」，其非但未限制「辛○○株式會社」轉賣之權利，甚且約定於符合一定之條件下，「子○產業株式會社」、「癸○TechnoEngineering株式會社」得以為販售之目的，公開宣傳、製造LP-500機器之展示機：
(A)關於訴外人「辛○○株式會社」於1997年12月9日與「子○產業株式會社」、「癸○TechnoEngineering株式會社」所簽署之被證2號「秘密保持契約書」，乃約定於1996年11月19日起二年內，三方就「辛○○株式會社」委託製造並購買LP-500機器乙事以及LP-500機器之技術內容應負保密義務。嗣後於1998年11月18日被證2號「秘密保持契約書」屆期失效時，三方乃另於1998年12月10日簽署被證4號「備忘錄」，以規範三方間就LP-500機器及其技術內容相關之權利義務。是以，訴外人「辛○○株式會社」於1999年2月間購入LP-500機器之際，其對於LP-500機器所享有之權限自應以被證4號「備忘錄」約定之內容為斷，先予說明。
(B)查被證4號「備忘錄」並無隻字片語限制訴外人「辛○○株式會社」販售或處分LP-500機器之權利，原告雖援引被證4號「備忘錄」第2條第（1）項規定，陳稱該項規定既限制「子○產業株式會社」及「癸○TechnoEngineering株式會社」銷售實施LP-500機器技術之裝置予第三人，「辛○○株式會社」又豈可能任意販售LP-500機器而令第三人知悉該機器之機密技術云云，然原告僅片段擷取被證4號「備忘錄」第2條第（1）項規定，其上開所言均屬惡意曲解之不實陳述，毫無足採。實則，被證4號「備忘錄」第2條第（1）項全文為：「當乙丙雙方為了將本裝置賣給甲方以外之第三人，而從事宣傳及展示機製造時，符合下列條件者，甲方不得提出異議：（1）乙丙雙方在下述期限之前，不得將與賣予甲方之本裝置相同目的之裝置賣給甲方以外之第三人。規定期間：至1999年9月30日止」，亦即該項規定僅限制「子○產業株式會社」（即「乙方」）及「癸○TechnoEngineering株式會社」（即「丙方」）銷售實施LP-500機器技術之裝置，非但未限制「辛○○株式會社」（即「甲方」）」販售LP-500機器之權利，甚且授權「子○產業株式會社」及「癸○TechnoEngineering株式會社」只要符合1999年9月30日前不將實施LP-500機器技術內容之裝置販售予第三人之約定，即得為將來販售之準備，公開宣傳、製造實施LP-500機器技術內容之展示機，「辛○○株式會社」就此不得有任何異議。是以，依據三方所簽署之被證4號「備忘錄」約定，「辛○○株式會社」自1999年2月間購入LP-500機器之際，即得自由轉讓該機器予任意第三人，亦即該機器自1999年2月間已成為不特定人得為交易之標的，甚且「子○產業株式會社」、「癸○TechnoEngineering株式會社」亦得為將來販售之準備，公開宣傳、製造實施LP-500機器技術之展示機，而得對不特定人隨時公開LP-500機器之技術內容。
②綜據上述，於系爭專利申請日（即優先權日）1999年3月30
日前，系爭專利之技術內容早已因LP-500機器已成為得販售予不特定第三人之交易標的、以及因該技術內容得以被公開宣傳並據以製造展示機等等事由，而處於不特定人得以使用該發明之狀態，從而不問不特定人「事實上是否已知其使用之狀態」，亦足以構成「公開使用」，依審定時專利法第20條第1項第1款規定，自不應取得發明專利，要屬無疑。原告就此雖又質疑被告並未於智財局舉發程序中主張系爭專利不具新穎性云云，然實則被告業已於「舉發補充理由書（二）」提出新穎性之答辯，原告就此顯有誤會。
⑶依審定時專利審查基準規定，所謂「因販賣而公開」僅需該
標的物已成為不特定人得為交易標的之階段即構成「申請前已公開使用」事由：
①查原告於99年12月20日期日自承被告系爭型號V28KA2真空基
板貼合機，僅以肉眼觀察其外觀並無法知悉該機器之技術內容及運轉順序，進而謂既然僅從外觀無法得知機器之運轉技術，則實施系爭專利技術之LP-500機器自不因搬入「株式會社米子辛○○」內即構成所謂「申請前已公開」，並舉例陳稱如同圖書館所收藏之書籍並不因單純收藏即構成「公開」，從而被告仍應提出「辛○○株式會社」事實上已實際出售LP-500機器予第3人之證據，始足以證明系爭專利業已因該機器之公開使用而欠缺新穎性等語。
②然而，原告上開主張顯然與審定時專利審查基準規定完全不符：
依審定時專利審查基準，所謂「公開使用」係指「公開使用
致發明之技術內容成為公知狀態，或處於不特定人得以使用該發明狀態者而言。」亦即「如已置於不特定人得知之狀態而為使用，即不問事實上是否已知其使用之狀態，即屬公開使用」。從而「審查所謂『公開』時，得參考下列條件：以販賣為目的，而其物已成為不特定人得為交易標的之階段(程度)時，即屬公開，並不以事實上已有交易行為為必要。
」亦即「使用與販賣間之公開有些不同，因販賣而公開，僅須其物已成為不特定人得為交易標的之階段(程度)，即為公開，並不需要將該物解體而得知其構造後，才被認為公開。」是以，不論標的物是否屬於僅由其外觀本身並無得知其技術內容者，僅須該標的物已達到不特定人得為交易標的之階段，即構成公開，並不以事實上已有交易行為為必要。
由此可知，原告上開主張及舉例說明顯然有誤，非但與審定
時專利審查基準規定不符，且若依循原告之邏輯必須實際上已有交易行為之發生始構成所謂公開使用，則圖書館所收藏之書籍縱使業已上架供讀者得以瀏覽、閱讀，則實際上若該書籍乏人問津、完全無讀者借閱，則該書籍縱使上架處於一般人可得隨時借閱、瀏覽之狀態仍不會構成所謂公開，顯與原告之見解確實有誤。
據，實施系爭專利技術之LP-500機器僅由其外觀無法知悉其
運轉技術內容，然因該機器於1999年2月13日搬入「株式會社米子辛○○」之際，該公司已取得隨時將該機器轉賣、處分予第3人之權利，甚且「辛○○株式會社」更業已授權「子○產業株式會社」、「癸○TechnoEngineering株式會社」得以公開宣、製造實施LP-500機器技術之展示機，是以「辛○○枺式會社」於系爭專利申請日前即因取得LP-500機器之完整所有權而得隨時、任意轉賣、處分LP-500機器，則依審定時專利審查基準規定，系爭LP-500機器於系爭專利申前早已達到不特定人得為交易標的之程度，故不論「辛○○株式會社」是否事實上有將LP-500機器出售或處分予第3人、不論LP-500機口僅由其外觀是否得以知悉其技術內容，系爭專利均因LP-500機器已成為不特定人得為交易標的之事實，依審定時專利法第20條第1項第1款之規定，不應取得發明專利。
②查，原告又謂LP-500機器乃放置於「株式會社米子辛○○」
工廠之無塵室內，非一般業者可得隨時進入，自不構成「公開使用」事由；然而，縱不論原告並未證明LP-500機器確實係放置於「株式會社米子辛○○」工廠之無塵室內，且縱該機器係放置於無塵室內，亦非如原告所稱一般業者均無法進入觀察，否則原告員工又如何進入庚○光電公司之無塵室觀察被告公系爭產品？尤其，如同原告所主張，不同廠商業者為維修其所販賣之機器，均可進入無塵室內觀察其他廠商業者所販賣之機台，更足徵無塵室並非完全不對第3人公開之空間，反而是屬於同領域之業者可能進入之場所。再者力如同前開說明，訴外人「辛○○株式會社」轉售、處分LP-500機器之限，並未受任何限制，系爭LP-500機器於系爭專利申請前已處於不特定人隨時得為交易之狀態，是以縱如原告所系爭LP-500機器係放置於無塵室，亦不足以推翻系爭LP-500機器業已構成系爭專利「申請前已公開使用」之事實。
⒊原告系爭專利請求項第1項因欠缺進步性而為無效，自不得對被告等主張權利：
⑴原告明顯誤解發明專利「進步性」之判斷原則，實則先前技
術之技術內容只要為熟悉該項技術者得以輕易組合並用以解決該發明所欲解決之問題者，即足以構成該發明欠缺進步性之事由：
①按原告迄今主張被告所提出之先前技術不足以證明系爭專利
欠缺進步性之理由，無非為系爭專利之「技術領域」、「目的」及「功效」與先前技術不相同，或謂所組合之先前技術間其各自之「技術領域」、「目的」及「功效」不相同云云。惟查，原告上開主張，或嚴重誤解系爭專利審定時進步性之判斷原則，或根本未依系爭專利審定時「專利審查基準」之規定比對先前技術與系爭專利請求項第1項構成要件，或故意忽略先前技術已明確教示的技術內容。
②進步性之比對本即不以「技術內容同一」為判斷要件，原告
援引不相關之「國際專利分類（IPC）」資料、甚至刻意片段擷取「專利法逐條釋義」（請參見原證34號，第48頁）及台北高等行政法院判決（請參見原證34號，第52頁）內容，自無可採。
原告以系爭專利之國際專利分類（IPC）屬於G02F或G09F，
而被證6至8號及被證32至34號之國際專利分類（IPC）則是屬於H01L為由，主張二者既屬不相同之技術領域，被證6至8號及被證32至34號等先前技術自不足以證明系爭專利欠缺進步性云云。惟查，根據系爭專利審定時之「專利審查基準」（系爭專利審定時之專利審查基準有關「進步性判斷原則」部分，請參見被告前呈附件20），判斷進步性的先前技術並不以與該發明專利屬相同國際專利分類號碼之文獻資料為限，如先前技術之技術內容與該發明專利屬於類似、接近、或有關的技術領域，則其組合即屬可輕易完成，足以證明該發明專利欠卻進步性，請參後述說明。是以，原告單純以被證6至8號及被證32至34號等先前技術之國際專利分類號碼與系爭專利之國際專利分類號碼不同為由，完全未細究上開先前技術與系爭專利實屬極為類似、接近甚且相關連之技術，甚且忽視原告所業已自承半導體與液晶顯示器製程有諸多類似處之主張，即斷然宣稱上開先前技術不足以證明系爭專利欠缺進步性云云，實無足採。
原告刻意片斷擷取「專利法逐條釋義」及行政法院判決內容
，實則還原其全文均係在探究「新穎性」之判斷要件，與「進步性」之判斷要件完全無涉：
A.查原告片段擷取經濟部智慧財產局所出版「專利法逐條釋義」（請參見原證34號，第48頁倒數第7行）「要判斷有無進步性之前，需要先判斷該發明與先前技術間之技術內容是否相同」乙節段落，並刻意節錄臺北高等行政法院90年度訴字第520號判決有關「技術內容同一」之部分內容（請參見原證34號，第52頁第7行），並據此主張進步性之判斷必須以先前技術與該發明專利屬「同一技術內容」為前提云云，否則該先前技術即不足以作為該發明專利欠缺進步性之證據。
B.惟查，詳究原告所援引之上開「專利法逐條釋義」乙節段落，其全文實為「要判斷有無進步性之前，需要先判斷該發明與先前技術間之技術內容是否相同，此時所判斷者為新穎性之判斷」，亦即該規定實乃在規範於進行「新穎性比對」時，必須判斷該發明專利與先前技術間之技術內容是否同一，完全與「進步性」之判斷要件無關。被告刻意省略「此時所判斷者為新穎性之判斷」此等關鍵文字，稱進步性之比對必須以先前技術與該發明專利屬「技術內容同一」為前提要件，絕無足採。
C.尤有甚者，原告復片段節錄台北高等行政法院90年度訴字第
520號判決有關「技術內容同一」之部分內容（「所謂技術內容同一，又可分為：1.創作目的同一（即欲解決之課題同一）。2.構造（包括採行之技術手段與作用）同一。3.功能（即創造或增進之效果內容）同一」）；實則，還原上開段落全文，判決內容實為「b.在比較申請案與引證案，以判斷申請案有無新穎性時，有二大要項：I.二者之『技術內容』是否同一，所謂技術內容同一，又可分為：1.創作目的同一（即欲解決之課題同一）。2.構造（包括採行之技術手段與作用）同一。3.功能（即創造或增進之效果內容）同一」，是以原告所引上開判決係為判斷專利「新穎性」所設立之標準，完全未涉及「進步性」之判斷要件，此與被告等主張系爭專利因先前技術之組合而欠缺「進步性」毫無關連。原告刻意省略判決內容中所明載該標準乃用「以判斷申請案有無新穎性時」所需考量之要件，企圖誤導鈞院以為「技術內容同一」屬「進步性比對」之判斷標準，此種刻意誤導之訴訟手法顯有違誠信。
綜據上述，原告所援引之上開「專利法逐條釋義」內容與台
北高等行政法院判決均屬關於判斷新穎性之標準，原告一再省略上開釋義及判決內容中之關鍵文字，企圖將「該發明與先前技術之技術內容是否同一」此一新穎性之判斷要件「誤導」為進步性之判斷標準，其據此為由主張先前技術（被證
6至8號及被證32至34號）與系爭專利之技術內容不同，不足以證明系爭專利欠缺進步性云云，自不足以成立，實無足採。
③原告復又以與進步性原則判斷毫無關連之公司間合併或公司
間共同研發甚至引證文件獲准專利與否等事由，主張系爭專利非被告所援引之先前技術所能輕易完成云云，實毫無參考價值可言：
原告陳稱以「前製程」為主要業務之被告須合併精於液晶製
造「後製程」的辛○○VLSI，由此事實足證液晶製造在「前製程」與「後製程」上有明顯差異（請參見原告「民事準備
（十一）狀」，第9頁、三），復陳稱原告與辛○○株式會社共同簽約研究開發可證明系爭專利非參酌先前技術所能輕易達成（請參見原告「民事準備（十一）狀」，第10頁、四）云云。
惟查，公司間之合併係有眾多因素之考量，例如設備、員工
、顧客以及市占率等等，此乃商業上的考量，與系爭專利是否欠缺進步性毫無關連。再者，公司間之共同研發之技術內容與所申請之專利技術內容一般來說並非完全相同，況且縱使完全相同，系爭專利是否具有可專利性仍應以系爭專利之申請專利範圍為斷，原告上開主張與進步性之判斷要件完全無涉，實不具任何參考價值。
原告復陳稱由被證7(未提實體審查而於1997年5月27日遭撤
銷)及被證8(原告表示已獲准專利，實則於1988年2月9日已遭核駁審定)可知，將真空吸引與靜電吸引如何應用來解決問題，只要具有功效之增進，亦可獲准專利，並據此認為系爭專利將真空吸引與靜電吸引應用在保持液晶面板使之貼合之領域，非被告所援引之先前技術所能輕易完成云云（請參見原告「民事準備（十一）狀」第11頁（三）以下）。惟查，首需說明者，被告係以於系爭專利申請日前即已公開
之文獻資料（即被證7號及被證8號）主張系爭專利欠缺進步性，此與被證7號及被證8號是否事後有獲准專利毫無關連。再者，專利申請案是否獲准完全係取決於其申請專利範圍是否符合專利要件，然而被證8號之申請專利範圍內容與真空吸著及靜電吸著毫無相關，原告卻自行解讀被證8號之申請專利範圍為應用真空吸引與靜電吸引來解決問題並因此獲准專利，從而認定應用真空吸引與靜電吸引來解決問題非能輕易完成，並據此推論系爭專利將真空吸引與靜電吸引應用在保持液晶面板使之貼合之領域亦非能輕易完成而應具有可專利性云云，實不可採。尤其，被證8號實已於1988年2月9日遭到核駁審定，並非如原告所述被證8號於1991年7月30獲准專利，原告之主張顯有錯誤，自無任何參考價值。
綜據上述，原告一再地故意忽略先前技術所已明確教示的技
術內容，竟以公司間之合併及共同研發甚至引證文件獲准專利與否之論述來認定系爭專利非先前技術所能輕易達成，顯不可採。
④原告嚴重誤解系爭專利審定時「專利審查基準」有關進步性
之判斷原則，實則先前技術所揭露之技術內容只要為熟悉該項技術者得以輕易組合並用以解決該發明所欲解決之問題者，即構成該發明欠缺進步性之事由，並不以先前技術之目的、手段、功效等等必須與系爭專利相同為判斷要件：
按系爭專利審定時「專利審查基準」規定，關於進步性之判
斷，於判斷該發明「是否能輕易完成」時，就「文獻（即先前技術）之組合」應注意下列事項（請參見被告前呈附件20，第37頁）：
A.應假設熟習該項技術者，如遭遇申請專利發明所欲解決的問題時，是否能輕易組合所引證之文獻之技術內容，以解決該問題。
B.文獻之技術內容屬於非類似、非接近或無關的技術領域者，則其組合，通常視為非能輕易完成。
C.組合所需之文獻為不同的文獻者，其數量愈多，通常視為非能輕易完成。
由上述判斷標準可知：
A.如熟習該項技術者，遭遇申請專利發明所欲解決的問題時，能輕易組合所引證之文獻之技術內容以解決該問題，即欠缺進步性。
B.如文獻之技術內容屬於類似、接近、或有關的技術領域，則其組合即可能屬能輕易完成者。
C.組合所需之文獻為不同的文獻者，其數量愈少，愈能視為能輕易完成。
原告以「先前技術」之目的、手段、功效等等與系爭專利不同，為其主張系爭專利具有進步性之理由，顯有重大違誤：
A.由上述判斷標準可知，系爭專利審定時之「專利審查基準」，並未要求先前技術「技術內容」必須與系爭專利請求項相同，並未要求先前技術「目的」必須與系爭專利請求項相同，並未要求先前技術的「手段」必須與系爭專利請求項相同，並未要求先前技術的「功效」必須與系爭專利請求項相同，並未要求先前技術的「結構」與系爭專利請求項相同，並未要求先前技術的「欲解決之課題」與系爭專利請求項相同。
B.反之，系爭專利審定時「專利審查基準」所明揭之「進步性」判斷原則，是以熟習該項技術者之角度判斷，是否於遭遇申請專利發明所欲解決的問題時，能輕易組合先前技術之技術內容，以解決該問題（請參見被告前呈附件20，第37頁）。易言之，進步性的判斷，依系爭專利審定時之「專利審查基準」規定，並非用系爭專利請求項比對先前技術之整體目的、或其整體之技術手段，毋寧是只要先前技術所揭露之技術內容有可以被熟悉該項技術者用以來解決系爭專利所欲解決之問題者，且該等技術內容對熟悉該項技術者而言是能輕易組合的，系爭專利請求項即當然欠缺進步性而不應取得發明專利。
⑤綜上所述，原告故意援引不相關之「國際專利分類」資料、
甚且刻意省略「專利法逐條釋義」以及台北高等行政法院判決內容中之關鍵文字，企圖製造「技術內容同一」屬進步性判斷要件之錯誤認知，實無足採。實則，進步性之比對係以熟習該項技術者之角度判斷，於遭遇申請專利發明所欲解決的問題時，是否能輕易組合先前技術之技術內容，以解決該問題為斷，至於先前技術是否與該發明專利技術內容、目的、手段、功效等等同一並非判斷「進步性」之標準，此有系爭專利審定時「專利審查基準」所明揭判斷原則足徵。
⑵系爭專利與被告所援引之先前技術所實施之技術內容顯屬極
為類似、相近之技術領域，二者之技術內容甚且可共通使用，熟悉此技術者自得輕易思及組合該等先前技術以解決系爭專利所欲解決的問題：
①原告一再以系爭專利之國際專利分類（IPC）屬於G02F或
G09F，而被證6至8號及被證32至34號之國際專利分類（
IPC）屬於H01L為由，主張被告等不得援引被證6至8號及被證32至34號等先前技術主張系爭專利欠缺進步性，此業經被告等舉證反駁如上，並援引系爭專利審定時「專利審查基準」之規定，說明先前技術之技術內容只要與該發明專利屬於類似、接近、或有關的技術領域，即足以用以證明該發明專利欠卻進步性。實則，縱不論原告上開似是而非之主張，上開國際專利分類號碼反而正足以證明系爭專利與被證6至
8號及被證32至34號等先前技術屬於極為類似、接近、甚且相關之技術領域。經查，於日本專利公報中，同一發明專利同時記載為屬於G02F1/13（液晶類）以及H01L21/68（半導體類-定位等）二種分類者，於1990年1月1日至1999年3月30間即有158件（請參見被證35號），其中約有半數皆與基板保持、搬送有關。由此足徵，使用於液晶領域與半導體領域之基板保持技術是共通的，得以互相交流使用，要屬無疑。
②尤其，原告復業已自承半導體和液晶顯示器製程有諸多類似
之處，二者「均係由在基板上成膜的製程與將成膜後的基板加以組裝的製程所組成」、「成膜主要的製程有些許相似」、「基板支撐的方式也略有相同」（請參見原告「民事準備九狀」第2頁、壹、一、（二））；此外，不僅限於此，利用半導體製造技術而使用於製造液晶之技術，常見之代表尚且包括成膜、蝕刻、清洗、曝光、顯像、對位、擴散、退火、非晶矽薄膜場效電晶體等各方面，是以二者確實屬於極為類似、甚且可以相互通用之技術領域。
③再者，參考系爭專利申請日前之日本專利特開平00-000000
號（請參見被告前呈附件10）第[0001]段，其已明確記載發明手段可同時使用於「半導體製造裝置與液晶製造裝置之半導體晶圓與液晶用玻璃面板等的被固定物上」，即可得知於系爭專利申請日前熟悉該項技術者即已明白瞭解用於半導體製程與用於液晶顯示器製程之試料保持手段乃屬相同；此外，系爭專利申請日前之日本專利特開平0-000000號（請參見被告前呈附件13）[先前技術]部分亦清楚記載「關於半導體或液晶之製程…因此在真空條件下進行之製造亦逐漸增加。又，伴隨做為基板之矽晶圓或玻璃等之大口徑化…；基於此，該真空吸盤在最近之半導體、液晶之製程中不適用。為了改善此項缺點，利用靜電力搬送基板」，亦即於大氣中抽真空時，因於真空條件下僅使用真空吸盤不足以保持基板，從而除使用真空吸著外並同時使用靜電吸著，乃「半導體製程」及「液晶顯示器製程」中常見之基板保持手段，由此亦可清楚得知半導體製程與液晶顯示器製程中之基板試料保持手段顯屬相同，二者自屬可共通使用之技術領域。
④此外，半導體技術領域與液晶技術領域二者屬於非常類似之
技術範疇，復有日本專門針對半導體裝置及液晶顯示器之「日經MicroDevice雜誌」報導（請參見被證38號）可茲參考，其內有多篇文章乃關於液晶顯示器前製程和後製程之報導、以及半導體裝置後製程之報導，足以證明閱讀此雜誌之技術者，同時可獲取液晶顯示器及半導體裝置之前製程及後製程之資訊，二者自屬可共通使用之技術領域；就此請特別參考1996年12月號「第4期TFT液晶ラインに向け，1メ─トル角級基板の具体像をNECが提案」、「フリップチップ工程を簡素化する半田バンプのブリャ─金屬を開發」二篇文章之中譯文（請參見被證39號）。
⑤綜據上述，利用半導體製程而使用於製造液晶者，不僅限於
與基板保持、搬送相關之技術，尚且包括成膜、蝕刻、清洗、曝光、顯像、對位、擴散、退火、非晶矽薄膜場效電晶體等半導體技術，此外由先前技術之記載以及業界熟悉該項技術領域者所熟悉之報導記載亦可明確得知半導體製程與液晶製程確實屬於可共通使用之技術領域，由此足徵系爭專利與被證6至8號及被證32至34號等先前技術確實屬於極為類似、可共通使用之技術領域，熟悉此技術者自得輕易思及組合被證6至8號及被證32至34號等先前技術解決系爭專利所欲解決的問題。
⑶原告業已自承係藉由「併用真空吸著手段及靜電手段」解決
系爭專利所欲解決之問題，並承認「併用真空吸著手段及靜電手段」早已廣泛應用於各不同技術領域，被告所提先前技術確實為熟習此技術者可輕易組合以解決系爭專利所欲解決之問題：
①系爭專利申請專利範圍第1項之部分技術特徵已為其前言部分所自承之先前技術所揭露：
系爭專利申請專利範圍第1項之全部技術特徵：
「一種基板之安裝裝置，針對用以保持貼合在位於真空室內之上方的加壓板之下面的一側之基板，且使貼合的另一側之基板保持在位於真空室內的下方之工作台上，利用設在任一基板的接著劑，使真空室減壓，並在所形成的真空中，將兩基板之間隔變窄，來貼合基板之基板之安裝裝置中，其特徵為：加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作，而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」。
查系爭專利申請專利範圍第1項係以二段式（two-part
form）或稱吉普森式（JepsonType）之形式撰寫，即於「申請權利範圍之『前序部分』，描述一已知之裝置、製程之所有要件或部分要件，之後皆以『其改良部分在於』或『其特徵在於』之轉折連結詞，而於申請專利範圍之技術主題中才特別指出其改良之技術所在」（請參見被告前呈附件11）。因此，系爭專利申請專利範圍第1項前言部分所提及包括「加壓板」及「在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」等技術內容即屬專利權人所自承之先前技術。
再者，系爭專利申請專利範圍第1項主體所載「而來保持一
側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」，與前言所載「使真空室減壓，並在所形成的真空中，將兩基板之間隔變窄，來貼合基板」技術特徵完全相同，從而該部分亦屬先前技術。
綜上所述，系爭專利請求項第1項除了「加壓板設有：為了
保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」此技術特徵外，其餘關於「基板貼合手段」之技術特徵均已為系爭專利請求項第1項所自承之先前技術所揭露。是以，系爭專利最重要的技術特徵乃「基板之保持方法及手段」，實為明確。
②原告雖指摘被告所引先前技術間之組合會產生因上基板尺寸
變大而會有因重力落下而無法輕易保持之問題、以及因上基板尺寸變大會有基板彎曲變形之問題云云（請參見原告民國99年12月6日庭呈資料）；然而，原告於「民事準備（八）狀」中業已自承「系爭專利說明書第4頁19至21行之記載『將位於上側基板（以下稱上基板）的端部，做機械保持時，基板中央部會彎曲，此彎曲並隨著最近基板大型化、薄型化傾向增強而變大』可知…應無法達成系爭專利藉由併用真空吸著手段及靜電吸著手段而提供之『即使基板尺寸大型化、薄板化，依然能在真空中彼此高精度的貼合同程度的基板』的功效」（請參見「民事準備（八）狀」，第18頁，第2點開始之第8行至第15行），以及原告於「民事準備（九）狀」中陳稱「系爭專利一旦失去真空吸著力而未以靜電吸著加以保持上基板，則上基板便會因為重力而落下」（請參見「民事準備（九）狀」，第8頁，倒數2行），此足徵原告業已自承系爭專利解決「上基板因自重而落下」及「基板尺寸大型化、薄板化所造成基板中央部彎曲」之方法，乃皆係藉由併用真空吸著手段及靜電吸著手段而達成。
③就此，被告所提出之被證6至8號及被證32至34號等先前技
術業已揭示併用真空吸著及靜電吸著作為增強基板保持力之手段，且該等先前技術為熟悉此技術者得以輕易用以解決系爭專利所自承「上基板因自重而落下」及「基板尺寸大型化、薄板化所造成基板中央部彎曲」的問題：
按系爭審定時「專利審查基準」第二章第四節中載明「某一
技術領域之既有技術、知識被轉用至其他技術領域，如此之轉用，對熟習該項技術者而言，可產生突出的技術特徵或顯然的進步，或可克服其他技術領域中之技術問題者，此種轉用視為非能輕易完成。惟如此之轉用，如係於類似或相近之技術領域中進行，而未產生突出的技術特徵或顯然的進步，則此種轉用視為熟習該項技術者所能輕易完成。」（請參見被告前呈附件20，第39頁，第2點）。
查被證6至8號及被證32至34號等先前技術與系爭專利屬於
極為類似、技術可互相共通使用之技術領域，業已如上所述。又該等先前技術業已揭示併用「真空吸著」及「靜電吸著」手段以作為增強基板保持力之方法，系爭專利請求項第1項實係將屬相同、類似技術領域之先前技術（被證6至8號及被證32至34號）所業已揭示之既有技術、知識（基板之保持方法及手段）轉用於系爭專利技術，如此之轉用，對於熟習此技術者而言並非難以思及，自未產生任何突出的技術特徵或顯然的進步，顯為熟習此技術領域者所能輕易完成。甚且，原告於「民事準備（九）狀」復業已自承「以真空吸
著、靜電吸著等技術而言，早在半導體問世前即廣泛應用於各不同技術領域」，是以真空吸著與靜電吸著手段既早已廣泛應用於各個技術領域，則對於熟悉此技術者而言，將早已長年、廣泛使用於各個技術領域之真空吸著及靜電吸著併用手段「轉用」於液晶製程領域，並無任何困難，此更足以證明此種轉用方式自未能產生任何突出的技術特徵或顯然的進步，顯為熟悉此技術領域者所能輕易完成，自屬當然。
⑷原告對於被告所主張之引證組合中，關於先前技術所揭露系爭專利請求項第1項之技術特徵顯然有嚴重誤解：
①查被告乃主張系爭專利所自承之先前技術、被證9號、被證
10號業已揭露「基板貼合手段」，被證6號、被證7號、被證8號、被證32號、被證33號以及被證34號，則均已揭露或教示「基板之保持方法及手段」，熟悉此技術領域者實可任擇二件組合輕易完成系爭專利請求項第1項所載特徵，然原告對於被告上開引證組合中先前技術所揭露之系爭專利請求項第1項之技術特徵顯然有嚴重誤解，謹說明如下。
②系爭專利請求項第1項所自承之先前技術不僅包括系爭專利
請求項第1項前言部分，尚且包括主體部分所載「而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」此技術內容：
查系爭專利請求項第1項係以二段式（two-partform）或
稱吉普森式（JepsonType）之形式撰寫，即於「申請權利範圍之『前序部分』，描述一已知之裝置、製程之所有要件或部分要件，之後皆以『其改良部分在於』或『其特徵在於』之轉折連結詞，而於請求項之技術主題中才特別指出其改良之技術所在」（請參見被告前呈附件11）。因此，系爭專利請求項第1項前言部分所提及「一種基板之安裝裝置，針對用以保持貼合在位於真空室內之上方的加壓板之下面的一側之基板，且使貼合的另一側之基板保持在位於真空室內的下方之工作台上，利用設在任一基板的接著劑，使真空室減壓，並在所形成的真空中，將兩基板之間隔變窄，來貼合基板」之「基板貼合手段」技術內容，即屬專利權人所自承之先前技術。此外，系爭專利請求項第1項主體部分復記載「而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」，此與前言部分所載「使真空室減壓，並在所形成的真空中，將兩基板之間隔變窄，來貼合基板」技術內容完全相同，從而系爭專利請求向第1項主體部分之上開記載亦屬先前技術之範圍。
綜上所述，系爭專利請求項第1項除了「加壓板設有：為了
保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」技術特徵外，其餘技術內容均已為系爭專利請求項第1項所自承之先前技術所揭露。易言之，系爭專利請求項第1項實乃包含「基板貼合手段」與「基板保持手段」二種技術內容，其中關於「基板貼合手段」之技術內容屬系爭專利請求項第1項所自承之先前技術，而關於「基板保持手段」之技術內容則為系爭專利之改良技術特徵，如下表：
┌─────────────────────────┐│請求項第一項│├────────┬────────────────┤│請求項第1項所自│一種基板之安裝裝置，卓對用以保持││承之先前技術(基│貼合在位於真空室內之上方的加壓板││板貼合手段)│之下面的一側之基板，且使貼合的另│││一側之基板保持在位於真空室內的下│││方之工作台上，利用設在任一基板的│││接著劑，使真空室減壓，並在所形成│││的真空中，將兩基板之間隔變窄，來│││貼合基板之基板之安裝裝置，其特徵│││為：│├────────┼────────────────┤│請求項第1項改良│加壓板設有：為了保持一側的基板，││之技術(基板保持│而以真空吸引力來使吸著力作用的真││手段)│空吸著手段，及利用靜電吸著力來保│││持的堋電吸著板，且於該真空吸著手│││段動作中使該靜電吸著手段動作，│├────────┼────────────────┤│請求項第1項所自│而來保持一側之基板，並真空中將兩││承之先前技術(基│基板之間隔變窄使基板彼此貼合││板貼合手段)││└────────┴────────────────┘③原告嚴重誤解被告所主張之引證組合中有關先前技術所揭露系爭專利請求項第1項之技術特徵：
查原告至今之抗辯無非皆「先是」指稱被證6號、被證7號
、被證8號等先前技術並未揭露系爭專利請求項第1項「而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」（即「基板貼合手段」）此一技術特徵，「復又」指摘系爭專利請求項第1項所自承之先前技術、被證9號、被證10號等先前技術並未揭露系爭專利請求項第1項「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作，而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」（即「基板保持手段」）此一技術特徵，並進而聲稱系爭專利請求項第1項具有進步性云云。
惟查，系爭專利請求項第1項「而來保持一側之基板，並在
真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」（即「基板貼合手段」）此一技術特徵，乃揭露於系爭專利請求項第1項所自承之先前技術以及被證9號、被證10號；系爭專利請求項第1項「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」（即「基板保持手段」）此一技術特徵乃揭露於被證6號、被證7號、被證8號，而被告等乃主張將請求項第1項所自承之先前技術、被證9號、被證10號與被證6號、被證7號、被證8號擇一之組合結果，即足以證明系爭專利請求項第1項欠卻進步性。
核原告所為，無非乃單獨取關於「基板貼合手段」之先前技
術（即請求項第1項所自承之先前技術以及被證9號、被證
10號）主張其不具有系爭專利請求項第1項「基板保持手段」之技術特徵，又單獨取關於「基板保持手段」之先前技術（即被證6號、被證7號、被證8號）主張其不具有系爭專利請求項第1項「基板貼合手段」之技術特徵，與進步性之比對原則完全悖離，毫無足採。
被告所主張之引證組合中所揭露關於系爭專利請求項第1項之全部技術特徵，可參見下表之說明：
┌───────┬─────────────────┐│先前技術│系爭專利請求項第1項│├───────┼──────┬──────────┤│系爭專利請求項│請求項第1項│一種基板之安裝裝置，││第1項所自承之│所自承之先前│針對用以保持貼合在位││先前技術、被證│技術(基板貼│於真空室內之上方的加││9號、被證10號│合手段)│壓板之下面的一側之基││││板，且使貼合的另一側││││之基板保持在位於真空││││室內的下方之工作台上││││，利用設在任一基板的││││接著劑，使真空室減壓││││，並在所形成的真空中││││，將兩基板之間隔變窄││││，來貼合基板之基板安││││裝裝置，其特徵為：│├───────┼──────┼──────────┤│被證6號、被證│系爭專利請求│加壓板設有：為保持一││7號、被證8號│項第1項改良│側基板，而以真空吸引││、被證32號、被│之技術(基板│力來使吸著力作用的真││證33號、被證34│保持手段)│空吸著手段，及利用靜││號││電吸著力來保持的靜電││││吸著板，且於該真空吸││││著手段動作中使該靜電││││吸著手段動作，│├───────┼──────┼──────────┤│系爭利請求項第│系爭專利請求│而來保持一側之基板，││1項所自承之先│第1項所自承│並在真空中將兩基板之││前技術、被證9│之先前技術(│間隔變窄使基板彼此貼││號、被證10號│基板貼合手段│合│││)││└───────┴──────┴──────────┘⑸系爭專利請求項第1項所自承之先前技術與被證6號之組合，足以證明系爭專利請求項第1項欠缺進步性：
①如上所述，系爭專利請求項第1項除了「加壓板設有：為了
保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」技術特徵外，其餘技術內容均為系爭專利請求項第1項所自承之先前技術。
②查被證6號說明書第[0036]段記載「於上述構成之第1實施
例中，若將光罩3載置於光罩固定器30、32上，光罩台控制系統4a將藉由控制壓力控制部58及電壓控制部60，同時以真空吸著及靜電吸著使光罩3吸著至光罩固定器30、32。亦即，藉由壓力控制部58內之壓縮機，經由配管54a、54b而從光罩固定器30、32之吸著孔52a、52b吸引存在於光罩3與光罩固定器30、32間之空氣。此外，從電壓控制器60在鉻層
42、44、46、48及電介質層34、36、38、40中施加指定之電壓，而在鉻層42、44、46、48及電介質層34、36、38、40之間發生靜電，而將光罩3靜電吸著於光罩固定器30、32。如此，於本實施例中，除了習知之真空吸著外，係藉由靜電吸著進行光罩3之保持，因此可增大其吸著至光罩固定器30、32之保持力，可確實保持光罩3。此外，靜電吸著保持力之使用可抑制真空吸著之壓力，亦可抑制因真空吸著導致之光罩3偏移」，其中，「真空吸著」即為系爭專利請求項第1項「以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段」，「靜電吸著」即為系爭專利請求項第1項「利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」，「同時以真空吸著及靜電吸著」即為系爭專利請求項第1項「於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」。從而，對熟習該項技術者根據被證6號之教示，顯可輕易完成系爭專利請求項第1項之「加壓板設有：
為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」技術特徵。又被證6號與系爭專利申請請求項第1項所自承之先前技術之「組合」已揭露系爭專利請求項第1項之全部技術特徵，且為熟習該項技術者所能輕易完成，足證系爭專利請求項第
1項欠缺進步性，不應取得發明專利。③就此，原告雖主張被證6號並未揭露系爭專利請求項第1項
「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」之技術特徵，然其主張均不足採：
查原告陳稱被證6號並未揭露「加壓板設有：為了保持一側
的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」之技術特徵（請參見「民事準備（八）狀，第6頁，第（4）點以下」），其理由無非為被證6號係以機械方式保持上側基板的四邊端部，此無法解決習知技術長期存在之問題（即基板中央部彎曲會隨著基板大型化、薄板化傾向增強而變大之問題），然而系爭專利上基板係全面地密著貼合於靜電吸著板下方，故能解決習知技術長期存在之問題云云。
縱不論原告所稱被證6號係以機械方式保持上基板四邊端部
之主張完全謬誤（被證6號並非以機械方式保持上基板而是以真空吸著及靜電吸著保持上基板），依循原告之上開主張，可知原告自己對系爭專利請求項第1項「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」之解釋，乃認為系爭專利之靜電吸著板必須「全面地密著貼合」上基板。
然而，遍查系爭專利請求項第1項，其完全未提及、亦未要
求靜電吸著板必須全面地密著貼合上基板。原告上開對於「靜電吸著板」之解釋，既為系爭專利請求項第1項所無之內容，顯屬原告為維護其專利有效性所為「無中生有」之主張，毫無根據。更有甚者，系爭專利說明書與圖示亦未揭露或教示靜電吸著板必須全面地密著貼合上基板，原告雖宣稱系爭專利圖2有作此教示，惟查系爭專利圖2僅為系爭專利安裝裝置之側面圖，其僅能顯示系爭專利安裝裝置之一側，根本不足以顯示系爭專利之靜電吸著板係全面地密著貼合上基板。
原告所謂「全面地」密著貼合，是代表靜電吸著板需「100%
」密著貼合上基板？還是「99%」？「98%」？又或是其他數字？系爭專利說明書就此均無任何記載。又系爭專利請求項第1項亦完全未提及基板尺寸需大型化、薄板化，原告對「基板」之解釋，亦屬系爭專利請求項第1項所無之內容。
凡此均足徵，原告上開靜電吸著板需全面地密著貼合上基板之主張毫無依據，僅係臨訟為維護其專利有效性所編撰之詞，自無可採。
⑹系爭專利請求項第1項所自承之先前技術與被證7號之組合，足以證明系爭專利請求項第1項欠缺進步性：
①如上所述，系爭專利請求項第1項除了「加壓板設有：為了
保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」技術特徵外，其餘技術特徵均已為系爭專利請求項第1項所自承之先前技術所揭露。
②查被證7號說明書第103頁右上欄第15行起記載「前述固定
器工作台111內之晶圓吸著用通氣孔302及前述固定器108內之通氣流路303經排氣成為負壓狀態，晶圓107係藉由負壓吸著力保持於固定器108上」，被證7號說明書第104頁第19行起並記載「於負壓吸著力進行保持後可使靜電吸著力於試料及保持部間作用」。對於熟習該項技術者可直接毫無歧異知悉上述「藉由負壓吸著力保持」即為系爭專利請求項第1項「以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段」，上述「靜電吸著力」即為系爭專利請求項第1項「利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」，上述「負壓吸著力進行保持後可使靜電吸著力於試料及保持部間作用」即為系爭專利請求項第1項「於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」。從而，對熟習該項技術者根據被證7號之教示，顯可輕易完成系爭專利請求項第1項之「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」技術特徵。又被證7號與系爭專利請求項第1項所自承之先前技術之「組合」已揭露系爭專利請求項第1項之全部技術特徵，且為熟習該項技術者所能輕易完成，足證系爭專利請求項第1項欠缺進步性，不應取得發明專利。
③原告雖主張被證7號並未揭露系爭專利請求項第1項「加壓
板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」之技術特徵，然其所述均不足採：
查原告陳稱被證7號並未揭露「加壓板設有：為了保持一側
的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」之技術特徵，其理由無非認為被證7號係揭露保持下基板之手段與系爭專利揭露保持上基板之手段不同（請參見「民事準備（八）狀」，第12頁，2以下）。
然而，保持上基板與保持下基板皆屬提供保持基板保持力之
手段，二者並無任何實質上之技術差異，即保持上基板之手段雖須克服因自重而落下的問題，然僅在於其所提供之保持力是否大於上基板的重量，與保持下基板之手段仍屬相同，此可由被證6號之圖11與圖14可清楚得知(被告言詞辯論意旨狀第38頁圖示)：
被證6號之圖11為光罩3保持於光罩台4上方的形態，如同系爭專利之「保持下基板之手段」，而被證6號之圖14則為光罩3保持於光罩台4下方的形態，如同系爭專利之「保持上基板之手段」，顯見保持上基板與保持下基板此二種手段實為熟悉該項技藝者所可輕易置換，二者間並無實質上之技術差異。復參考被證6號說明書第[0015]段記載「本發明之試料保持方法的第一種形態中，因為藉由靜電吸著與真空吸著兩者將試料(3)保持於試料台(30、32)，所以保持力增大」，足證被證6號已經清楚揭示保持上基板之手段，僅需藉由增大保持力即可克服上基板因自重而落下的問題，是以由被證6號之圖11與圖14、以及被證6號說明書之教示，即可得知保持上基板之手段與保持下基板之手段並無顯著差異，得以為熟悉該項技藝者所輕易置換。
另原告於「民事準備（九）狀」復以自承「系爭專利一旦失
去真空吸引力而未以靜電吸著加以保持上基板，則上基板便會因為重力而落下」，顯見系爭專利克服上基板因自重而落下的問題，係僅藉由靜電吸著而達成，是以藉由增大保持力即可克服上基板因自重而落下的問題，此乃當然之道理。由此足徵，被證7號所揭露之試料保持手段對於熟習該項技術者顯然能輕易將其應用於保持上基板，原告前揭主張，自無可採。
⑺系爭專利請求項第1項所自承之先前技術與被證8號之組合，足以證明系爭專利請求項第1項欠缺進步性：
①如上所述，系爭專利請求項第1項除了「加壓板設有：為了
保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」技術特徵外，其餘技術特徵均已為系爭專利請求項第1項所自承之先前技術所揭露。
②查被證8號說明書第5頁第18行至第7頁第2行記載「首先
，在真空室10處於導入大氣之狀態…驅動排氣幫浦14啟動吸氣溝G之排氣。…因如此進行之真空吸著之吸著力強大，使試料4與絕緣物質2強力密著，可藉此矯正試料4上約20μ
m之翹曲。於此狀態下，藉由電極3與試料4間之電源5施加高電壓，可藉由電極3與試料4間作動之庫倫力使其靜電吸著。此吸著相較於真空吸著，可使試料4與絕緣物質2更強力密著，相較於僅使用靜電吸著之情況，吸著狀態將大幅改善。」對於熟習該項技術者可直接毫無歧異知悉上述「真空吸著」即為系爭專利請求項第1項「以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段」，上述「靜電吸著」即為系爭專利請求項第1項「利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」，上述「於此狀態下…使其靜電吸著」即為系爭專利請求項第
1項「於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」。從而，對熟習該項技術者根據被證8號之教示，顯可輕易完成系爭專利請求項第1項之「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」技術特徵。又被證8號與系爭專利請求項第1項所自承之先前技術之「組合」已揭露系爭專利請求項第1項之全部技術特徵，且為熟習該項技術者所能輕易完成，足證系爭專利請求項第1項欠缺進步性，不應取得發明專利。
③原告雖主張被證8號並未揭露系爭專利請求項第1項「加壓
板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」之技術特徵，惟其所述亦不足採：
原告陳稱被證8號並未揭露「加壓板設有：為了保持一側的
基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板」之技術特徵，其理由無非認為被證8號係揭露保持下基板之手段與系爭專利揭露保持上基板之手段不同（請參見「民事準備（八）狀」，第15頁，2以下）。
實則，保持上基板與保持下基板皆屬提供保持基板保持力之
手段而已，二者並無任何實質上之技術差異，已如上所述，是以被證8號所揭露之試料保持手段對於熟習該項技術者自能輕易地將其應用於保持上基板，要屬當然，原告此部分主張，自不足採。
⑻被證9號與被證6號、被證7號或被證8號其中之一之組合，足以證明系爭專利請求項第1項欠缺進步性：
①查系爭專利請求項第1項除了「加壓板設有：為了保持一側
的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」之技術特徵外，其餘技術內容均已為被證9號所揭露，詳如下述：
被證9號圖1為一種基板之安裝裝置，包含真空室1、保持
上基板（玻璃板3b）之加壓板（無元件符號）、及加壓手段（上下移動用汽缸6）、具備保持下基板（玻璃板3a）之保持工作台（無元件符號）。又被證9號說明書第2頁右上欄第5行起記載「於真空狀態之處理室內，設有將上面附著有接著材之一側之玻璃板定位於固定位置之手段、及將定量裝置送出之液晶滴下至該玻璃板位置上部之液晶滴下手段，並於前述處理室中設置配合前述玻璃板之圖樣使其與另一側之玻璃板接著之上下移動機構，使液晶得以填充玻璃板之液晶填充裝置」。對於熟習該項技術者，可以直接毫無歧異知悉被證9號所揭示「定位於固定位置之手段」即為系爭專利申請專利範圍第1項前言部分所揭露之「用以保持貼合」，被證9號所揭示「使其與另一側之玻璃板接著之上下移動機構」即為系爭專利申請專利範圍第1項前言部分所揭露之「位於真空室內之上方的加壓板之下面的一側之基板」，被證9號所揭示「上面附著有接著材之一側之玻璃板」即為系爭專利申請專利範圍第1項前言部分所揭露之「使貼合的另一側之基板保持在位於真空室內的下方之工作台上，利用設在任一基板的接著劑」，被證9號所揭示「於真空狀態之處理室」即為系爭專利申請專利範圍第1項前言部分所揭露之「使真空室減壓，並在所形成的真空中」。是以，系爭專利申請專利範圍第1項前言部分所自承之先前技術實已為被證9號所揭露。
此外，被證9號說明書第2頁右下欄第14行起記載「使保持
附著有間隙子之玻璃板3b之上下移動用汽缸6下降，該汽缸
6係施予2片玻璃板3a及3b重量使其接著」，並已揭露係爭專利申請專利範圍第1項主體中「而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」。
綜據上述，系爭專利申請專利範圍第1項所載除了「加壓板
設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」之技術特徵外，其餘技術特徵皆已為被證9號所揭露。
②此外，系爭專利請求項第1項「加壓板設有：為了保持一側
的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」技術特徵並為被證6號、被證7號、被證8號所揭露，復已如上所述。
③故被證9號與被證6號、被證7號或被證8號其中之一之「
組合」已揭露系爭專利請求項第1項之全部技術特徵，且為熟習該項技術者所能輕易完成，足證系爭專利請求項第1項欠缺進步性。就此，原告雖又執詞爭執被證9號無法達成系爭專利功效，是以上開組合不足以證明系爭專利請求項第1項欠卻進步性云云，然其所言均不足採：
查原告陳稱被證9號之保持方式係習知技術之機械夾持手段
，機械夾持手段無法提供基板中央部之支撐，故無法達成系爭專利「即使基板尺寸大型化、薄板化，依然能在真空中彼此高精度的貼合同程度的基板」的功效（請參見「民事準備
（八）狀」，第18頁、2以下）云云。然而，遍查系爭專利請求項第1項，其完全未提及、亦未要
求基板必須為大型化或薄板化的尺寸。原告對於「基板尺寸」的解釋，既為系爭專利請求項第1項所無之內容，顯然係原告為維護其專利有效性所為「無中生有」之主張，完全欠缺任何根據，自無足採。尤其，系爭專利說明書唯一記載之實施例，乃於抽真空之後基板掉落之際，以阻擋爪加以阻擋，再進行基板之靜電吸著。換言之，該基板絕非大型化之基板，故縱以阻擋爪進行阻擋亦不會造成基板之撓曲，顯屬可以靜電吸著之小型基板。若如原告主張該基板為大型化基板的話，則以阻擋爪加以阻擋，勢必會造成基板撓曲而無法進行靜電吸著。從而，系爭專利於發明之際，絕非如原告所宣稱乃為解決大型化基板之問題，原告於提出系爭專利申請之際，亦絕對未意識到基板撓曲的問題。毋寧是於提出系爭專利申請後，業界為解決基板之種種問題，包括基板大型化所生問題，原告才以事後之明強辯系爭發明乃為達成大型化基板之目的而生，此種主張毫無足採。
再者，縱認系爭專利請求項第1項之「基板」為大型化或薄
板化之尺寸，因被告等係主張被證9號「組合」被證6號、被證7號或被證8號其中之一之結果足證系爭專利請求項第
1項欠缺進步性，而被證9號「與」揭露「併用靜電吸著手段與真空吸著手段」技術內容之被證6號、被證7號或被證
8號其一之組合結果，所實施之技術將不再是以「機械夾持手段」，而是以「併用靜電吸著手段與真空吸著手段」保持基板，此即可同樣達成原告所陳稱系爭專利「即使基板尺寸大型化、薄板化，依然能在真空中彼此高精度的貼合同程度的基板」之功效。是以，原告上開所言被證9號結合被證6號、被證7號或被證8號無法達成系爭專利之功效云云，顯不足採。
⑼被證10號與被證6號、被證7號或被證8號其中之一之組合，足以證明系爭專利請求項第1項欠缺進步性：
①查系爭專利請求項第1項除了「加壓板設有：為了保持一側
的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」技術特徵外，其餘技術特徵均已為被證10號所揭露，詳如下述：
被證10號圖1為一種基板之安裝裝置，根據被證10號圖1以
及被證10號說明書[構成]記載「本發明之特徵為具有：真空地保持之處理室20；基板之支持機構26、28，其係在該處理室20內，將2片基板24a、24b相對而分別個別地支持，並且使其移動至相互接近之位置」，此外，被證10號說明書第[0007]段並記載「在上基板或下基板之外周緣預先塗敷密封材料，壓合上基板與下基板」。對於熟習該項技術者可直接毫無歧異知悉被證10號所揭示「基板之支持機構26、28，其係在該處理室20內，將2片基板24a、24b相對而分別個別地支持」即為系爭專利申請專利範圍第1項前言部分所揭露之「用以保持貼合在位於真空室內之上方的加壓板之下面的一側之基板，且使貼合的另一側之基板保持在位於真空室內的下方之工作台上」，被證10號所揭示「在上基板或下基板之外周緣預先塗敷密封材料」即為系爭專利申請專利範圍第1項前言部分所揭露之「利用設在任一基板的接著劑」，被證10號所揭示「真空地保持之處理室20」即為系爭專利申請專利範圍第1項前言部分所揭露之「使真空室減壓，並在所形成的真空中」，被證10號所揭示「使其移動至相互接近之位置」即為系爭專利申請專利範圍第1項前言部分所揭露之「兩基板之間隔變窄」，被證10號所揭示「壓合上基板與下基板」即為系爭專利申請專利範圍第1項前言部分所揭露之「貼合基板之基板」。是以，系爭專利申請專利範圍第1項前言部分所自承之先前技術實已為被證10號所揭露。
此外，被證10號說明書第[0012]段記載「上基板24a及下基
板24b一開始雖分隔開，隨著支持台32之上升將緩緩接近，最後在下基板24b被上基板24a壓制之情況下接觸。…於此狀態下之上基板24a及下基板24b將被封合」並已揭露係爭專利申請專利範圍第1項主體中「而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合」。
綜據上述，系爭專利申請專利範圍第1項所載除了「加壓板
設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」之技術特徵外，其餘技術特徵皆已為被證10號所揭露。
②此外，系爭專利請求項第1項「加壓板設有：為了保持一側
的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」之技術特徵，並已為被證
6號、被證7號、被證8號所揭露，復已如上所述。是以，被證10號與被證6號、被證7號或被證8號其中之一之「組合」已揭露系爭專利請求項第1項之全部技術特徵，且為熟習該項技術者所能輕易完成，足證系爭專利請求項第1項欠缺進步性。
⒋系爭專利請求項第1項特徵部分所載「於該真空吸著手段動
作中使該靜電吸著手段動作」，其技術範圍應解釋為「同時使用真空吸著手段與靜電吸著手段」，且依靜電吸著手段開始動作之時點不同，其技術範圍之解釋含括三種態樣：
⑴系爭專利請求項第1項特徵部分所載「於該真空吸著手段動
作中使該靜電吸著手段動作」既係為解決上基板因自重而落下之問題，而必須於真空吸著手段中重疊使用靜電吸著手段，其技術範圍自應解釋為「同時使用真空吸著手段與靜電吸著手段」：
①查系爭專利請求項第1項所載「於該真空吸著手段動作中使
該靜電吸著手段動作」之技術特徵並未限定真空室開始減壓的時點、亦未限定靜電吸著開始動作的時點。由是可知，系爭專利只要是在大氣下以真空吸著手段保持基板後，於大氣狀態、減壓過程或充分真空的任何一時點使靜電吸著手段動作即可。
②再者，系爭專利揭露為解決在真空室中單純只使用真空吸著
手段無法保持上基板之問題，而必須「於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」，以增加上基板之保持力，藉以克服上基板因自重而落下。由此可知，系爭專利既為解決上基板因自重而落下之問題，而必須於真空吸著手段中重疊使用靜電吸著手段以增加上基板保持力，則「於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」之技術範圍自應解釋為「同時使用真空吸著手段與靜電吸著手段」，要屬當然。
⑵系爭專利請求項第1項所載「於該真空吸著手段動作中使該
靜電吸著手段動作」技術特徵採「同時使用真空吸著手段與靜電吸著手段」之解釋，則運用系爭專利所自承之先前技術或與該先前技術屬相同技術之被證9號或被證10號「與」被證6號、被證7號、被證8號、被證32號、被證33號或被證34號擇其一「組合」即可輕易完成系爭專利請求項第1項所載全部技術特徵，蓋系爭專利所欲解決之問題既為增強加壓板對於基板之保持力，而被證6號、被證7號、被證8號、被證32號、被證33號或被證34號均揭露了增強基板保持力之手段（即兼用真空吸著與靜電吸著的技術特徵），則熟習該項技術者實有動機將系爭專利所自承之先前技術或與該先前技術屬相同技術之被證9號或被證10號擇其一與被證6號、被證7號、被證8號、被證32號、被證33號或被證34號等先前技術擇其一組合，以解決系爭專利所欲解決的問題，是以系爭專利即因喪失進步性而應予撤銷。
⑶系爭專利請求項第1項特徵部分所載之「於該真空吸著手段
動作中使該靜電吸著手段動作」，若考量真空吸著手段與靜電吸著手段之動作時點，其技術範圍之解釋含括三種態樣，惟不論採取何者，皆或因欠缺進步性、或因無法據以實施、或因欠缺產業上利用性等理由而為無效：
①查原告陳稱「若系爭專利如被告所言係同時使用真空吸著手
段與靜電吸著手段」，即不會有「被告所主張靜電吸著手段使用時間點的差異點」，並據此宣稱被告之主張顯然前後矛盾云云（請參見「民事準備（九）狀」第5頁，第5-7行）。實則，被告所指「同時使用」並非指真空吸著手段與靜電吸著手段於「同一時點開始動作」，而係指為增加上基板保持力，真空吸著手段與靜電吸著手段有相互重疊作用之部分，舉例而言，若真空吸著手段於時點1開始動作後，靜電吸著手段於時點2開始動作，則時點2後的所有時間，真空吸著手段與靜電吸著手段即為「同時使用」，是以系爭專利「同時使用真空吸著手段與靜電吸著手段」，即會因真空吸著手段與靜電吸著手段啟動之時點不同，而含括三種態樣（詳如下述），被告上開主張並無任何矛盾之處。
②系爭專利請求項第1項特徵部分所載之「於該真空吸著手段
動作中使該靜電吸著手段動作」在考量真空吸著手段與靜電吸著手段之動作時點後，實施態樣有三種，如被告言詞辯論意旨狀第51頁圖示。
態樣一（tesc<t1,t0<t1）：
態樣一係指真空吸著手段及靜電吸著手段皆於開始減壓之前動作，包含了兩種情況，第一種情況(t0<tesc<t1)為真空室處於大氣中先使真空吸著手段動作，並且真空室仍處於大氣中再使靜電吸著手段動作；第二種情況(tesc<t0<t1)為真空室處於大氣中先使靜電吸著手段動作，並且真空室仍處於大氣中再使真空吸著手段動作。如被告言詞辯論意旨狀第52頁上圖所示者即為靜電吸著手段態樣一：
態樣二（t2<tesc）：
態樣二係指真空室處於大氣中先使真空吸著手段動作(保持上基板進入真空室)，經過進行減壓至真空，當真空室處於充份真空時使靜電吸著手段動作，如被告言詞辯論意旨狀第52頁下圖所示。
態樣三（t1<tesc<t2）：
態樣三係指真空室處於大氣中先使真空吸著手段動作（保持上基板進入真空室），經過進行減壓期間，在真空吸著力消失前，再使靜電吸著手段動作，如被告言詞辯論意旨狀第53頁圖所示。
③系爭專利請求項第1項採態樣一之解釋：
查本院審理結果若認為系爭專利請求項第1項所載「於該真
空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」技術特徵應採「真空吸著手段及靜電吸著手段於開始減壓之前動作」之解釋（即態樣一），則因實施態樣一無法解決系爭專利自承之空氣殘留導致上基板自靜電吸著板剝離之課題，態樣一應不屬系爭專利請求項請求項1所涵蓋之技術範圍。縱本院認態樣一為系爭專利申請專利範圍第1項「於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」之實施態樣，因被證7號、被證
8號或被證33號已教示態樣一「真空吸著手段及靜電吸著手段於開始減壓之前動作」此一技術特徵，熟悉此技術者運用系爭專利自承之先前技術或與該先前技術屬相同技術之被證9號或被證10號擇其一與被證7號、被證8號或被證33號擇其一組合，亦可輕易完成系爭專利申請專利範圍第1項所載技術特徵，是以系爭專利即因喪失進步性而應予撤銷。此外，針對被告上述實施態樣一無法解決系爭專利自承課題
之主張，原告雖又主張系爭專利自承習用所存在之課題並非系爭專利亦同樣會存在云云，然其所述均不可採：
A.查原告於「民事準備（九）狀」中陳稱倘若上基板能以真空吸引「良好地吸引」在吸著板處，則上基板與靜電吸著板便不至於存在有空隙，即不會因大氣導致上基板自靜電吸著板剝離之問題，是以習用所存在之課題並不代表系爭專利亦同樣會存在（請參見「民事準備（九）狀」，第6頁，（二））。
B.惟查，系爭專利請求項第1項並未揭示「良好地吸引」此一技術特徵，且遍查系爭專利說明書，並未有任何一處揭露「上基板能以真空吸引良好地吸引在靜電吸著板處」，更遑論何謂「良好地吸引」？其實質意義為何？未見原告提出任何說明。對於所屬技術領域之人士實無法自系爭專利之記載據以實施原告所陳稱之「良好地吸引」此一技術內容，原告上開所言顯不可採。
④系爭專利請求項第1項採態樣二之解釋：
查本院審理結果若認為系爭專利申請專利範圍第1項所載「
於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」技術特徵應採「於大氣中使真空吸著手段動作，經過進行減壓至充分真空，再使靜電吸著手段動作」之解釋（即上述態樣二)，因系爭專利申請專利範圍第1項乃揭示「真空吸著手段＋靜電吸著手段」之發明，而系爭專利說明書中卻係記載「真空吸著手段＋阻擋爪手段動作＋靜電吸著手段」之發明目的（請參見原證1號之「系爭專利說明書」第5頁第16行至第21行）、技術內容（請參見原證1號之「系爭專利說明書」第
5頁第22行至第6頁第7行）、特點（請參見原證1號之「系爭專利說明書」第14頁第19行至第23行）及功效（請參見原證1號之「系爭專利說明書」第15頁第2行至第11行），致使熟習該項技術者自系爭專利說明書中不能理解系爭專利申請專利範圍第1項所載僅包含「真空吸著手段＋靜電吸著手段」之發明目的、技術內容、特點及功效，導致無法據以實施請求項第1項所載發明，依據審定時專利法第22條第3項、第4項規定以及最高行政法院88年判字第3690號判決（請參見被告前呈附件15）、最高行政法院90年判字第1682號判決（請參見被告前呈附件16）、最高行政法院91年判字第
716號判決（請參見被告前呈附件17）、最高行政法院89年判字第116號判決（請參見被告前呈附件18）及最高行政法院89年判字第1號判決（請參見被告前呈附件19）對於審定時專利法第22條第3項、第4項產業上利用性具體實施規定之闡釋，系爭專利確實有未於申請專利範圍揭示必要技術內容，導致熟悉該項技術者無法據以實施系爭專利申請專利範圍第1項所載發明之情事，系爭專利因而不具有產業上利用性，應予撤銷。
就此，原告於「民事準（九）狀」中雖陳稱只要「在減壓開
始沒多久就啟動靜電吸著」，即可避免上基板因自重而落下，從而「阻擋爪」非實行系爭專利的必要技術手段云云。惟查，系爭專利請求項第1項並未揭露「開始沒多久」此一技術特徵，且遍查系爭專利說明書，並未有任何一處揭露原告所陳稱「在減壓開始沒多久就啟動靜電吸著」此一技術內容，更遑論何謂「開始沒多久」？其具體之時間長究竟為多久？未見原告提出任何說明。對於所屬技術領域之人士實無法自系爭專利之記載據以實施請求項第1項所載發明，系爭專利顯然不具有產業利用性。
⑤系爭專利請求項採態樣三之解釋：
最後，本院審理結果若認為系爭專利申請專利範圍第1項所載「於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作」技術特徵係採「於大氣中使真空吸著手段動作，經過進行減壓期間，在真空吸著力消失前，使靜電吸著手段動作」之解釋（即上述態樣三），因實施態樣三除無法解決系爭專利自承之空氣殘留導致上基板自靜電吸著板剝離之問題，而應不屬於系爭專利申請專利範圍第1項所涵蓋之技術範圍外；縱認態樣三屬於系爭專利申請專利範圍第1項所涵蓋之技術範圍，因實施態樣三必須解決上基板因自重而落下的問題，從而若不同時使用阻擋爪，即必須配合一偵測方式用以偵測上基板解壓期間內真空吸著力消失之時點，然而系爭專利說明書非但未揭露態樣三之實施例，更未揭露用以偵測真空吸著力消失時點之偵測方式，導致熟悉該項技術者自系爭專利說明書中，無法理解系爭專利申請專利範圍第1項之發明目的、技術內容、特點及功效，而無法據以實施系爭專利申請專利範圍第1項所載發明，依據審定時專利法第22條第3項、第4項規定以及上開實務見解，系爭專利亦不具備產業上利用性而應予撤銷。
⑷原告於本件專利舉發案中承認系爭專利請求項第1項含括態
樣一與態樣三，然宣稱並不含括態樣二，原告復主張態樣二係屬系爭專利請求項第2項所揭示之範圍，並據此聲稱阻擋爪並非實行系爭專利的必要技術手段，然其所言並不足採：①查於本件專利之舉發案中，原告於其「舉發補充答辯理由書
（一）」（被證36號）自承「按本案請求項第1項既然記載：『於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作』，即明白揭示係以真空吸著來保持基板後，在能以真空吸著保持基板的範圍使靜電吸著動作，故係包含：1.下【圖一】中之態樣A（相當於舉發人（即本件原告）在『系爭補充理由書（一）』第10頁所指之『態樣一』）…2.下【圖一】中之態樣
C（相當舉發人在『系爭補充理由書（一）』第10頁所指之『態樣三』）」（請參見被證36號，第15-16頁），至於就被告主張系爭專利請求項第1項所涵蓋之態樣二，原告乃陳稱「舉發人在『系爭補充理由書（一）』所指之『態樣二』，係屬本案申請專利範圍第2項所揭示之範圍，舉發人將『態樣二』曲解為本案申請專利範圍第1項所揭示之範圍，顯係錯誤」（請參見被證36號，第19頁）云云。
②惟查，系爭專利請求項第2項（附屬項）係依附於系爭專利
請求項第1項（獨立項），按附屬項依附於獨立項，則獨立項必定涵蓋附屬項之範圍，此有專利審查基準可稽，是以原告既已自承態樣二係屬系爭專利請求項第2項所揭示之範圍，則顯然態樣二亦為系爭專利請求項第1項所涵蓋，阻擋爪自係實施系爭專利所必要之技術手段，要屬當然，否則系爭專利將因無法據以實施而應予撤銷。
③再者，原告雖陳稱系爭專利請求項第1項僅含括態樣一與態
樣三，然而系爭專利說明書並未揭露任何有關態樣一與態樣三之實施例，所揭露者僅有關於態樣二之實施例，是以若系爭專利請求項第1項如原告所稱不含括態樣二，則系爭專利之說明書完全無法支持系爭專利之請求項，對於所屬技術之人士將無法據以實施，此將導致系爭專利歸於無效，由此更足徵態樣二必定為系爭專利請求項第1項所涵蓋。
④綜據上述，系爭專利請求項第1項所載「於該真空吸著手段
動作中使該靜電吸著手段動作」之技術特徵，必定包含態樣
一、態樣二、態樣三此三種可能之實施態樣，惟不論採取何種態樣，皆或因欠缺進步性、或因無法據以實施、或因欠缺產業上利用性等理由而為無效，如上述說明。
⒌末按，原告起訴所憑之鑑定報告，其中對於待鑑定物之解釋
及所進行之鑑定流程，形式上皆有重大瑕疵，要不足以證明侵權事實：
⑴原告起訴所憑之鑑定報告，其內明確記載本件鑑定依據乃依
「日商癸○創新工業科技股份有限公司主管技師長平井明針對其親自觀察Ulvac,Inc.型號V28KA2機器所出具之聲明書」（詳原證9號、三、鑑定依據、（二））、比對對象為「委託人之主管技師平井明所出具之聲明書內容及其附件」（詳原證9號、五、鑑定分析、（一）前言）、以及鑑定物的用途與構造乃參照「平井明所出具之聲明書（含附件）描述其對Ulvac,Inc.之型號V28KA2機器的觀察並輔以圖面說明」（詳原證9號、五、鑑定分析、（二）鑑定物的用途與構造），由此可知平井明僅以目測及聽覺予以推定系爭機器之構造及作用，且原告系爭鑑定報告完全僅憑平井明目測、聽覺所推定結果作為待鑑定對象。然而，對於真空基板貼合機之操作方式具有通常知識者均瞭解，僅以目測及聽覺判斷系爭機器之運轉動作實屬困難，例如對於系爭專利之申請專利範圍第1項「於該真空吸著手段動作中使該靜電吸著手段動作，而來保持一側之基板」，實難想像如何僅憑目測及聽覺即能判定靜電吸著手段係於真空吸著手段中動作，顯見平井明出具之聲明書乃為系爭訴訟所特意編造，原證9號之鑑定報告以此為鑑定對象，不足採信。
⑵其次，原告於原證9號之鑑定報告中表示，系爭鑑定報告乃
依據我國經濟部智慧財產局於93年10月4日所公告之「專利侵害鑑定要點草案」進行，惟系爭鑑定報告之鑑定流程明顯違反上開「專利侵害鑑定要點草案」，形式上毫無可採，自不足以證明侵權之事實：
①依據經濟部智慧財產局93年10月4日公告之專利侵害鑑定要
點草案，「專利侵害之鑑定流程分為兩階段：「（一）解釋申請專利範圍;及（二）比對解釋後之申請專利範圍與待鑑定對象（物或方法）」（詳被告前呈附件3，第27頁）。經查，原證9號鑑定報告中根本無任何有關前述(一)解釋申請專利範圍之描述，即逕行進行前述(二)申請專利範圍與待鑑定對象之比對，根本不符合上述專利侵害要點草案所載之鑑定流程。
②此外，原證9號鑑定報告亦未依上述專利侵害鑑定要點草案所載「文義讀取」之鑑定原則進行鑑定：
按「『文義讀取』係確認解釋後申請專利範圍中之技術特徵
完全對應表現在待鑑定對象中」、「至少一項提出告訴之請求項所有技術特徵完全對應表現在待鑑定對象中，始符合『文義讀取』」、以及「判斷『文義讀取』之注意事項1.比對申請專利範圍與待鑑定對象時，應以解析後之申請專利範圍之技術特徵與待鑑定對象之對應元件、成分、步驟或其結合關係逐一比對。待鑑定對象欠缺解析後申請專利範圍之任一技術特徵，即不符合『文義讀取』」，此有專利侵害鑑定要點草案（請參見被告前呈附件3，第38頁）可參。
次按，「經比對待鑑定對象不符合『文義讀取』，應再比對
待鑑定對象是否適用『均等論』」，智財局前開專利侵害鑑定要點草案（詳被告前呈附件3，第39頁）亦有明文。經查，原告以原證9號鑑定報告主張被告等系爭產品「文義
侵害」系爭專利之申請專利範圍第4項，惟原證9號鑑定報告就申請專利範圍第4項所示「針對利用合體形成的該真空室，使一側之真空室單元相對於另一側之真空室單元進行移動，並進行分別被保持該加壓板及該工作台的貼合基板彼此定位之定位手段」，表示被告等系爭產品「在進行兩片基板之定位時，雖然上真空室單元之箱型部位與下真空室單元之箱型部位結合為一體而移動定位，但是，下真空室單元必需相對於上真空室單元之其他構成組件（例如上側加壓板）進行移動」（詳原證9號第7頁，最後一欄），顯見原告亦自認被告等系爭產品未完全對應申請專利範圍第4項技術特徵「使一側之真空室單元相對於另一側之真空室單元進行移動」。亦即，鑑定對象欠缺解析後申請專利範圍中「針對利用合體形成的該真空室，使一側之真空室單元相對於另一側之真空室單元進行移動，並進行分別被保持該加壓板及該工作台的貼合基板彼此定位之定位手段」之技術特徵，顯不符合「文義讀取」。再者，既然被告等系爭產品與系爭專利申請專利範圍比對結果不符合「文義讀取」，原告應就系爭產品進一步進行「均等論」之比對分析，然而系爭鑑定報告非但未進行「均等論」之分析比對，反而強辯系爭產品符合文義讀取，主張其構成「文義侵害」，實不知所云。更遑論，縱使系爭鑑定報告有進行「均等論」之判斷，因系爭產品真空室單元係作為一體移動，與系爭專利申請專利範圍第4項技術特徵「使一側之真空室單元相對於另一側之真空室單元進行移動」為完全不同之概念，故兩者之要件無均等論原則之適用。
綜上所述，系爭鑑定報告不僅違背前述專利侵害要點草案所
載之鑑定流程，甚至謊編系爭產品構成文義侵害，藉以主張系爭產品落入申請專利範圍，系爭鑑定報告顯然具有重大明顯瑕疵，自不足以證明侵權之事實。
⒍綜據上述，原告之系爭專利欠缺新穎性及進步性，有應撤銷
之事由存在，尤其本件技術審查官經審酌被告提出之先前技術後，復已肯認「系爭專利申請專利範圍第1項前言部分所自承之先前技術、被證9號或被證10號擇一與被證7號或被證8號其中之一之組合，足以證明系爭專利申請專利範圍第
1項欠缺進步性」。此外，系爭專利請求項第1項除因欠缺新穎性、進步性而應屬無效外、亦有無法據以實施或欠缺產業上利用性等情事，原告於本案訴訟中自不得對被告等主張權利。再者，原告進行之鑑定程序，亦明顯違反經濟部智慧財產局所公布之專利侵害鑑定要點，顯見原告起訴所憑之鑑定報告具有重大明顯瑕疵，形式上毫無可採，自不足以證明侵權事實。為此，請求判決駁回原告之訴。
四、依兩造之陳述，兩造不爭執事項如下：
㈠、系爭專利之申請日為89年3月20日，主張優先權日為1999年（即民國88年）3月30日，智財局於92年4月1日准予審定公告。
㈡、系爭機器係被告所製造．販賣。復有專利證書在卷可資佐證。
五、兩造爭執事項：
㈠、系爭專利是否有被告所稱之不具新穎性、進步性之得撤銷事由？
㈡、被告所製造販賣系爭機器，是否落入系爭專利申請專利範圍？
㈢、如被告有侵害系爭專利權，應負侵害系爭專利之損害賠償責任時，原告得請求損害賠償之數額為何？
六、法院心證：
㈠、就被告主張系爭專利於申請專利前早已公開使用，不具新穎性，本院判斷如下：
⒈按「當事人主張或抗辯智慧財產權有應撤銷、廢止之原因者
，法院應就其主張或抗辯有無理由自為判斷」、「前項情形，法院認有撤銷、廢止之原因時，智慧財產權人於該民事訴訟中不得對於他造主張權利」，智慧財產案件審理法第16條第1項及第2項分別定有明文。本件系爭專利如有應撤銷之原因，原告即不得在民事訴訟對被告主張專利權，合先敘明。
⒉而系爭專利之申請日為89年3月20日，主張優先權日為1999
年（即民國88年）3月30日，智財局於92年4月1日准予審定公告，為兩造所不爭執，有系爭專利證書在卷可稽，故其是否違反具有被告所主張之申請前公開使用，應以核准審定時所適用之90年10月24日修正公布之專利法（下稱「審定時專利法」）及經智財局於審定時即83年10月公布施行之「專利審查基準」決之。
⒊次按「申請前已公開使用者」，不應取得發明專利，審定時
專利法第20條第1項第1款定有明文，至於所謂「申請前已公開使用」，依審定時專利審查基準之規定係指「1申請前此之所謂「申請前」，亦指「申請當日之前」而言。因此申請當日公開使用之技術，不可視為申請前之既有技術。（註：此之申請當日，在有優先權時，該申請當日係指優先權日。有關優先權日之判定，依第五章規定為之。）」「2使用謂『使用』者，指單純狹義的使用而言，其他有關製造、販賣、進口等行為，則視其與『使用』之關係，推論是否「使用。」「3已公開使用，謂『已公開使用』者，指由於公開使用致發明之技術內容成為公知狀態，或處於不特定人得以使用該發明之狀態者而言。」「審查所謂『公開』時，得參考下列條件：Ⅰ公眾經由參觀工廠或展示，致可察知物之性質狀態、構造、裝置或製程者，即屬公開。Ⅱ以販賣為目的，而其物已成為不特定人得為交易標的之階段（程度）時，即屬公開，並不以事實上已有交易行為為必要，因此公開標售應視同公開。」「公開使用應以不特定人得知其使用之狀態為必要，如已置於不特定人得知之狀態而為使用，即不問事實上是否已知其使用之狀態，即屬公開使用。但若其使用非為不特定人得知其使用之狀態者，則不能謂為公開使用。例如：內部藏有發明技術之新製品，縱使在不特定人面前運轉，如不特定人僅能觀察其外觀或僅有預約訂購，並無從得知其發明技術之詳情，則難謂為已公開使用。因此使用與販賣間之公開有些不同。因販賣而公開，僅須其物已成為不特定人得為交易標的之階段（程度），即為公開，並不需將該物解體而得知其結構後，才被認為公開。」「4公開使用之日，公開使用之日，即公開使用已達不特定人得以知悉其發明內容之日。公開使用之日與申請當日為同一者，則認定並非為申請前已公開使用。」有該審查基準在卷可稽，故前開專利法上所稱之「使用」，並不單指施於物或方法上而應用於其技術功能之使用行為，尚包括製造、為販賣之要約、販賣及進口等行為，而「公開使用」，係指透過前述使用行為而揭露技術內容，使該技術能為公眾得知之狀態，並不以公眾實際上已使用或已真正得知該先前技術之內容為必要，故原告主張被告應證明不特定人知悉LP-500機器技術者或有其他具體販賣行為，始為公開使用，顯與前開規定意旨不符，自無可採。
⒋系爭專利請求項第1項技術內容早於申請日前已即被前揭LP-500機器所揭露：
⑴訴外人「辛○○株式會社」於1996年間（即民國85年）經「
子○產業株式會社」之介紹而委由「癸○TechnoEngineering株式會社」（即原告前身）製造「滴下注入裝置」（即「LP-500機器」），於1998年11月15日開始裝置，並於1999年2月13日搬至米子辛○○工廠之事實，亦為兩造所不爭執。
⑵且比對系爭專利申請範圍第1項與被證23至被證26之會議紀
錄、LP-500機器結構照片，可知系爭專利申請範圍第1項之技術特徵已於1999年2月18日之會議紀錄所載之基板貼合作業，另用上基板之押壓板同時固定下壓板之方法，另依辛○○株式會社職員村田聰所出具之證明書及照片，亦可證明2003年6月2日提出之照片及流程與辛○○株式會社購入時相比，並無改變，其中照片編號IMGP0016、IMPG0058、IMPG0069、滴下注入動作流程等說明該機器已揭示系爭專利申請範圍第1項「一種基板之安裝裝置，用以保持貼合在位於真空室內之上方的加壓板之下面的一側之基板，且使貼合的另一側之基板保持在位於真空板之下方之工作台上，利用設在任一基板的接著劑，使真空室減壓，並在所形成的真空中，將兩基板之間隔變窄，來貼合基板之基板安裝裝置」之技術特徵。另系爭專利申請範圍第1項之「加壓板設有：為了保持一側的基板，而以真空吸引力來使吸著力作用的真空吸著手段，及利用靜電吸著力來保持的靜電吸著板，且於該真空吸著手段動作中使該靜電吸手段動作，而來保持一側之基板，並在真空中將兩基板之間隔變窄使基板彼此貼合。」亦可見於顯示上腔體內面之照片，有編號IMPG0044、IMPG0053照片在卷可參，即呈現真空吸附手段係以排氣管的配管分成4等分的靜電吸附的區域，週邊有許多真空吸附用的孔及滴下注入流程，利用真空吸附CF及真空排氣後，打開靜電吸著板，花5秒鐘等待靜電吸著板吸附力消失，上平板分離等技術特徵，是以系爭利申請範圍第1項之技術特徵已見於LP-500機器。
⑶就辛○○株式會社取得系爭機器之行為，應屬前揭專利法所稱之公開使用：
原告主張辛○○公司取得LP-500機器後，「辛○○株式會社」非僅單純委託他人製造該LP-500機器，且因取得該機器之所有權，而得隨時轉賣該機器予不特定第三人，且「辛○○株式會社」於系爭專利申請日前業已授權「子○產業株式會社」及「癸○TechnoEngineering株式會社」公開宣傳，並製造實施LP-500機器技術內容之展示機，該等情事均足以構成審定時專利法所規定之「申請前公開使用」；原告則主張士通公司雖取得該機器，但就該機器之技術簽有秘密保持約，有保密之義務，且該機器係置放於米子辛○○工廠內無塵室中，非一般人得以接觸，自不符合前開審定時專利法所稱之「申請前公開使用之要件」，被告並以台北高等行政法院95年度訴字第1292號判決為依據等語。
①按辛○○株式會社於1996年間，經由子○產業株式會社之介
紹而委託癸○TechnoEngineering株式會社(即原告前身)製造前揭LP-500機器，三方就此並訂有秘密保持契約，約定在1996年11月19日起兩年內(即1996年11月19日至1998年11月18日)，三方就辛○○株式會社委託製造並購買之LP-500機器之技術內容應負保密義務。有秘密保持契約書在卷可稽
(被證2)，在1998年11月18日之後，前開秘密保持契約屆期，不再發生效力，三方另於1998年12月20日簽署「備忘錄」，以規範LP-500機器及其技術相關之權利義務，有該備忘錄在卷可稽(被證4)。
②於前開秘密保持契約屆期失效後，前揭LP-500機器搬至株式
會社米子辛○○工廠，1999年3月30日原告前身之癸○TechnoEngineering株式會社提出日本專利第0000000號之申請，米子辛○○株式會社與子○產業株式會社，曾簽有「物品交易基本契約」，依該契約第3條、第39條之約定，子○產業株式會社與米子辛○○株式會社基於物品交易基本契約書及個別契約之相關業務知悉他方之秘密，不得洩漏予第
3人。該契約復約定第39條在終止後，仍繼續有效，故子○產業株式會社與米子辛○○株式會社在1998年11月18日至1999年3月30日之後仍有保密義務。
③惟依辛○○株式會社、子○產業株式會社及癸○Techno
Engineering株式會社三方在1998年11月18日所簽訂之秘密保持契約書，並於其後該契約期限屆滿後再簽署備忘錄，該備忘錄第2條約定當乙方(子○產業株式會社)、丙方(癸○TechnoEngineering株式會社)為了將該裝置(指LP-500機器)賣給甲方(指辛○○株式會社)以外之第3人，而從事宣傳及製造展示機時，在1999年9月30日前，符合下列條件者，甲方不得異議：⑴乙丙雙方在期限前，不得將賣予甲方本裝置相同目的之裝置賣給甲方以外之人。有該備忘錄在卷可稽，惟備忘錄僅係限制乙方(子○產業株式會社)、丙方(癸○TechnoEngineering株式會社)不得販賣，並未限制甲方即辛○○株式會社不得另為販賣、轉讓或使用該LP-500機器，而辛○○株式會社在秘密保持契約期限屆滿後，即為無守密義務之人，對於無守密之人，即為專利法上所稱之公眾，故該LP-500機器技術內容即屬於公眾有可能接觸並獲知該技術之實質內容之狀態。即辛○○株式會社在秘密保持契約期限屆滿後，對於LP-500機器具有完整所有權，可得自由處分，應屬形成公開使用之狀態。
④被告以台北高等行政法院95年度訴字第1292號判決，認屬於
置放於工廠內並非不特定第3人可共見共聞公開使用情形，故主張前開LP-500機器並不是公開使用等語，惟如前開說明前開專利法所稱之公開，並無明文限定公開態樣，就本件言，辛○○株式會社所購入LP-500機器，屬大型客製化機台，用途在於製造液晶設備，該等製程品之環境要求，使得該機器設計、製造、安裝之實際公開範圍有限，該機器之使用環境並非處於私人或秘密場所之使用，即屬有限公開之範圍，故在本案辛○○株式會社於無秘密保持義務情況下，即已屬專利法上的公眾，該等有限的公開情況仍屬公眾有機會接觸且可得而知之情形，應認即屬專利法上的公開使用。故本案LP-500機器與前開判決之機器有別，故本案情形並無該判決見解之適用，原告此部分之主張亦無可採。
⑷於系爭專利申請日（即優先權日）1999年3月30日前，系爭
專利之技術內容早已因揭露系爭專利申請範圍第1項之LP-500機器已成為得販售予不特定第三人之交易標的、以及因該技術內容之秘密保持契約期限屆滿，使得辛○○株式會社成為無保密義務人，而處於不特定人得以使用、知悉該發明之狀態，符合前開審定時專利法「公開使用」之要件，依審定時專利法第20條第1項第1款規定，應不得取得發明專利。
⑸至原告另主張辛○○株式會社既限制子○產業株式會社、癸
○TechnoEngineering株式會社洩密，自己自不會洩密及辛○○株式會社曾同意癸○TechnoEngineering株式會社申請以系爭專利技術專利權，自己自不會公開，認前開情形不符公開使用之要件，惟辛○○株式會社限制子○產業株式會社洩漏系爭技術之秘密，就該技術之秘密，不能認該公司本身即守密義務，原告認該公司自己不會洩密，應係臆測之詞，另就辛○○株式會社曾同意癸○TechnoEngineering株式會社申請專利一事，原告並未舉證加以證明，自難認原告此部分之主張為事實，故原告此部分之主張亦難採信。
⒌綜合前開說明，被告主張系爭專利於申請專利前早已公開使用，不具新穎性，應可採信。
㈡、按發明專利權違反專利法第22條規定者，為撤銷專利權之原因，專利法第67條第1項第1款定有明文，本件系爭專利既符合審定時專利法第22條第1項之規定，即有撤銷專利權之原因。復依前開智慧財產案件審理法第16條第2項之規定，專利權人之原告即不得於民事訴訟對他造行使權利。原告既就系爭專利不得被告在民事訴訟程序行使專利權，則原告在本件訴訟聲請檢閱被告相關營業之資料，自難准許。
㈢、本件既認因系爭專利權有撤銷原因，原告不得在民事訴訟向被告行使專利權，如前開說明，則就系爭機器是否侵害系爭專利、被告如侵害專利權應賠償之數額為何等事項，即無再論述之必要，附此敘明。
七、綜上所述，系爭專利權有得撤銷之原因，原告不得在民事訴訟向被告行使專利權，則原告主張被告製造販賣系爭機器侵害其專利權，請求⒈被告乙000000000不得為販賣要約、販賣或為上述目的而進口型號V28KA2之真空基板貼合機或其他侵害原告所有經濟部智慧財產局核准公告為第526367號專利之產品之行為；⒉被告己○○科技股份有限公司不得為販賣要約、販賣型號V28KA2之真空基板貼合機或其他侵害原告所有經濟部智慧財產局核准公告為第526367號專利之產品之行為；⒊被告應連帶賠償原告7百萬元及自起訴狀繕本送達翌日起至清償日止按週年利率百分之5計算之利息，即無理由，應予駁回，原告之訴既遭駁回，其假執行之聲請，亦失所附麗，應併駁回之。
八、據上論結，本件原告之訴為無理由，依民事訴訟法第78條，判決如主文。
中華民國100年1月5日
民事第一庭法官王銘勇以上正本係照原本作成。
如對本判決上訴，須於判決送達後20日內向本院提出上訴狀。
如委任律師提起上訴者，應一併繳納上訴審裁判費。
中華民國100年1月5日
書記官呂聖儀