裁判字號：智慧財產法院98年民專訴字第137號民事判決
裁判日期：民國99年12月14日
裁判案由：侵害專利權有關財產權爭議
智慧財產法院民事判決
98年度民專訴字第137號原告友緣實業有限公司法定代理人 陳秋紅 訴訟代理人 張哲倫 律師
陳佳菁 律師複代理人 黃紫旻 律師被告雷賽克實業有限公司兼上法定代理人 林啟中 上二人共同訴訟代理人 鄒永禎 律師
顧偉民 杜建成 上列當事人間侵害專利權有關財產權爭議事件，本院於中華民國99年11月23日言詞辯論終結，判決如下：
主文原告之訴及假執行之聲請均駁回。
訴訟費用由原告負擔。
事實及理由
甲、程序方面：按訴狀送達後，原告不得將原訴變更或追加他訴，但被告同意、擴張或減縮應受判決事項之聲明者，不在此限。被告於訴之變更或追加無異議，而為本案之言詞辯論者，視為同意變更或追加。民事訴訟法第255條第1項第1款、第3款、第2項分別定有明文。本件原告於民國98年10月27日起訴請求：被告等應連帶給付原告新台幣（下同）1,510,000元暨自本起訴狀繕本送達翌日起至清償日止，按年息百分之五計算之利息（見本院卷㈠第5頁），嗣原告於99年11月17日擴張聲明為：被告等應連帶給付原告80,000,000元暨自本起訴狀繕本送達翌日起至清償日止，按年息百分之5計算之利息（見本院卷㈡第202頁），核其所為係擴張應受判決事項之聲明，且被告對訴之變更無異議，而為本案之言詞辯論（見本院卷㈡第240-241頁），是原告所為訴之變更，核與首揭規定相符，應予准許，合先敘明。
乙、實體方面：
一、原告方面：㈠原告起訴主張：緣原告為發明專利「印刷電路板含銅廢液之
回收方法」（下稱系爭專利）專利權人，專利保護期間自87年10月11日至104年10月31日止，第三人昶昕實業股份有限公司（下稱「昶昕公司」）為系爭專利之被授權人，是昶昕公司所實際實施之製程，即為系爭專利之方法。被告雷賽克實業有限公司（下稱被告公司）向經濟部提出事業廢棄物個案再利用許可之申請（下稱再利用許可申請），即將昶昕公司所實施製程列為個案參考實績，另依被告公司於上開再利用許可申請所界定之製程（下稱製程A）與系爭專利申請專利範圍進行比對，被告公司之行為顯已侵害系爭專利權。另被告林啟中擔任被告公司之法定代理人，自應就其擔任被告公司法定代理人期間，被告公司之侵權行為對原告負連帶賠償責任。爰依專利法第84條第1項前段、第85條第3項，民法第184條第1項前段、第2項及同法第185條，公司法第8條、第23條等規定請求被告等負連帶損害賠償。並聲明：⒈被告等應連帶給付原告80,000,000元暨自本起訴狀繕本送達翌日起至清償日止，按年息百分之5計算之利息；⒉原告願以現金或同額之可轉讓定期存單供擔保，請准宣告假執行。
㈡被告雖辯稱其自始實施產製之「印刷電路板含銅廢液之回收
方法」即為98年12月24日經經濟部工業局核准再利用流程變更之製程（下稱製程E），惟由下述各項事證顯示，被告實際實施之製程係製程A，而非製程E：
⒈依據被告向經濟部提出之事業廢棄物個案再利用許可申請書
，被告公司每月所收受之廢棄物種類及數量分別為：廢鹼性蝕刻液（每月2263.3噸，含銅量為10%）、硫酸銅微蝕廢液（每月995噸，含銅量0.3%）及廢硫酸銅晶體，其中另需使用公告酸性蝕刻液（每月1236噸，含銅量10%），被告聲稱於製程E中，廢鹼性蝕刻液係直接加入液體樹脂萃取槽進行銅萃取，萃餘液泵送至產製鹼性蝕刻液生產線產製鹼性蝕刻液，並且於萃取時加入公告酸性蝕刻液作為萃取時pH調整液云云。然而，被告公司每月所收受之液態廢棄物數量龐大，每月需處理鹼性廢銅液及酸性廢銅液3499.3噸（即廢鹼性蝕刻液每月2263.3噸加上公告酸性蝕刻液每月1236噸），其中含銅量為349.93噸。倘若依照被告所主張之製程方法（即製程E），不先採行酸鹼中和步驟，直接將鹼性廢銅液及酸性廢銅液加入有機液體樹脂進行萃取，則所加入的廢銅液中含銅量（約100g/kg）約為系爭專利中將進行萃取反應之含少量銅之液體含銅量（3g/kg）的33倍（系爭專利係將含銅廢液經中和處理形成沈澱後，作分離以分成大量含銅之固體及含少量銅之液體），與理論計算及被告原計畫中量能差異達數十倍。此舉將使得萃取系統負荷過大，導致萃取過程無法有效進行。因此，就化工技術之角度而言，合理之處理方式應先將含銅廢液作中和處理形成沈澱後，作分離以分成大量含銅之固體及含少量銅之液體，再將該含少量銅之液體藉由萃取方式將該少量銅取出（即製程A），而非如被告所宣稱直接進行萃取而不進行中和之製程E，如此方能有效率地處理大量含銅廢液，並且使萃取有效進行，且合乎成本。
⒉被告未於所提出之擬變更文件「經濟部事業廢棄物再利用許
可申請書（個案第1次修正版（核定本））第3-27至3-31頁」中，說明資料來源、實驗數據及符合化工質量平衡之擬變更製程的合理處理量，製程E之技術內容本未盡完整（製程E實際上欠缺原證16號第3-31頁之質量平衡表），製程E僅為被告為規避侵權而刻意撰擬之書面、形式製程，顯然欠缺實證。
⒊依據經濟部工業局派員於98年12月11日會同專家學者赴被告
工廠進行查核時查核輔導委員之現場紀錄表，被告實施之製程仍有「中和反應」，亦證被告自始並非實施製程E，而係實施製程A之事實。
⒋依臺灣檢驗科技股份有限公司就證據保全之樣品檢驗結果所
示，編號1之公告酸性蝕刻液含氯量（289g/L）大於其含銅量（149g/L），其銅氯比為1：1.94；編號2之廢鹼性蝕刻液含氯量（195g/L）大於其含銅量（52.2g/L），其銅氯比為1：3.74；編號3之硫酸銅微蝕廢液含氯量（116g/L）大於其含銅量（10.5g/L），其銅氯比為1：11.05；編號4-1之沈澱壓濾後濾液含氯量（17g/L）小於其含銅量（38.2g/L），其銅氯比為2.25：1。明顯地，編號1至3含銅廢液之銅氯比小於1，編號4-1之沈澱壓濾後濾液之銅氯比卻反轉大於1，惟有發生化學反應才會造成上述溶液之銅氯比值改變。詳言之，銅氯比反轉之原因係因進行中和反應形成溶解度低的含銅固體沈澱，而氯則因不會形成沈澱，所以大部分的氯隨沈降上澄液一起被移除，使得銅濃度增加，氯濃度反而降低，一消一長的結果使得銅濃度高出氯濃度所多。此外，編號4-1之沈澱壓濾後濾液之液體部分含銅量為2.04g/L，含氯量為17g/L，固體部分加液體部分含銅量為38.2g/L，因此可以推算出編號4-1之沈澱壓濾後濾液中固體部分含銅量為36.16g/L。由於編號4-1之沈澱壓濾後濾液中固體部分與液體部分皆含有銅，固體部分之含銅量（36.16g/L）大於液體部分之含銅量（2.04g/L），根據該濾液固體部份及液體部分含銅量之差異，益可證明該濾液固體部分係經中和反應所形成。
⒌編號4-1證物液體部分為清澈之溶液，固體部分為無污染之
藍綠色含銅固體觀之，殊難想像其為大量清洗工廠廢水後之產物，該陰井實為原料大量中和反應後由儲槽輸出洩漏之收集，而非將溢流原料收集後再回送至儲槽。另自證據保全影片所示，「濾液沉澱槽」顯示槽壁及槽底皆配有閥件，該閥件之功能即在裝設活動式接管及控制槽內液體之流出，顯見被告係以活動式接管進行輸送，尚難認儲槽已呈停用的狀態。抑且，桶槽接管處設於收集井上方，且附近區域留有極多含銅固體殘留，再從受污的嚴重程度，清楚的指向一個源頭，就是底部排出閥，顯見持續常態運作中。
㈢自被告98年8月至99年11月間實際實施回收處理相關業務之
利潤高達146,552,176元。被告於98年8月首次收受再利用廢棄物進場，實施系爭製程，截至99年11月止共計16個月。被告每月可得之利潤合計為9,159,511元，是以被告98年8月至99年11月間實際實施回收處理相關業務之利潤高達146,552,176元（即9,159,511X16=146,552,176）。
二、被告等則抗辯以：㈠被告公司實際施作產製之「印刷電路板含銅廢液之回收方法
」，係被告公司迭經多次實驗修正改良後自行研發之製程，與系爭專利之步驟、特徵均不相同，並未侵害系爭專利。原告所載被告公司向經濟部提出事業廢棄物個案再利用許可申請書所載之製程方法（即製程A）僅為被告公司於申請再利用許可時所提出之初步可行性製程方法之一，以供經濟部審核時參考之用，惟被告公司提出申請時仍不斷進行研究改良製程方法與步驟，並於實際運作產製時採用最終製程進行生產，而被告公司自行研發且實施之製程其特徵與步驟均與系爭專利不同，並未落入前揭專利之申請範圍。
㈡被告係經濟部98年6月26日經授工字第09820409500號函核准
再利用機構，回收廢鹼性蝕刻液、硫酸銅微蝕廢液、廢硫酸銅晶體產製鹼性蝕刻液、氫氧化銅、硫酸銅晶體產品，被告於98年4月間提出經濟部事業廢棄物個案再利用許可申請書所列再利用實績佐證資料，係從行政院環保署事業廢棄物申報系統網址：waste.epa.gov.tw/prog/IndexFrame.asp，網站之再利用機構許可項目查詢網頁，查詢相同再利用廢棄物與產製相同產品名稱之其他再利用機構核准公示資料登載內容，引述佐證實績於申請書內，惟被告於提出再利用許可申請時，則未檢附原告或相關再利用機構實績製程資料。被告雖於98年6月26日取得經濟部個案再利用許可，因涉及工廠其他環保許可核准，並未立即進行上述個案再利用許可運作，於申請個案再利用許可核准期間至個案再利用許可實際運作之間四個月，被告即已從事更簡易、更安全、更低成本、更有效率製程之變更研發工作，於98年8月首次收受再利用廢棄物進場，即運用此新製程，就收受物料進行試車操作，進行精微操作技術，控制參數調整及試驗，並依最佳結果配合現場管路及設施、作部分設施整修工程，於確認製程技術成熟可行，即於98年11月間另案提送經濟部事業廢棄物再利用許可申請，並按經濟部工業局召開之學者專家審查會會議議定事項，改以「事業廢棄物再利用許可變更申請」，經技術及程序審查後，於98年12月24日經授工字第0980419560號函核准變更在案（即製程E），被告從未依初次申請書所載不完善之初步製程（即製程A）產製任何產品。
㈢被告實際收受個案再利用許可廢棄物期間為98年8月、9月、
10月、11月、12月，其中98年12月因新申請案提出現勘審查會稽核製程發現再利用流程已改變，被經濟部工業局勒令停止收受再利用廢棄物，並限期改善及要求提報個案再利用許可變更申請，於98年12月24日業經經濟部工業局核准個案再利用許可之再利用流程變更案核准後，再收受廢棄物再利用，其再利用期間並未生產氫氧化銅產品（即中和沉澱中間產物），包括其期間原告向法院聲請證據保全至被告公司之工廠查存現況，皆未發現廠內運用原個案再利用許可流程之跡象，皆足以證明被告實際未實施原申請再利用產製製程（即製程A）再利用廢棄物。
㈣依系爭專利發明說明書（7）步驟二20：「經上述步驟一10
酸鹼中和沉澱後，再利用一壓濾機作分離，以形成0.21M3大量含銅的固體部產物，及1.79M3含少量銅的液體部產物，其中該大量的含銅固體部產物內主要成份為氯化銅及氫氧化銅之複合物含物中，Cu含量約有256.4kg，而該少量銅的液體部產物主成份（NH4Cl、CuCl2、Cu（NH3）4Cl2）含物中，Cu銅含量約有3.58kg。」，由此推估固體部部產物之銅含量應為1220.95g/L，惟證據保全之編號4-1證物「固體部份」銅含量只有38.2g/L，此外，依上開系爭專利說明書所示，該含少量銅的液體部產物其Cu銅含量的單位以g/L來表示，即為2g/L（3580g÷1790L=2g/L），該含少量銅的液體，氯濃度應介於289-195g/L之間，所以銅和氯的比例應介於
2比289到2比195，相當於（1比144.5到1比97.5之間），該液體經水洗稀釋後銅含量、氯含量下降的幅度會隨水洗量的多寡而改變，但銅含量、氯含量兩者的比例是不會改變的，而本次證物的分析結果，沉澱壓濾的濾液的銅、氯比例為2.04比17相當於（1比8.33）理論值與實際值明顯不符，足以證明編號4-1證物「固體部份」非由編號1證物「原料-公告酸性蝕刻液」與編號2證物「原料-廢鹼性蝕刻液」兩者，酸鹼中和反應後的產物。
㈤由證據保全之「濾液沉澱槽」採樣照片與採樣DVD影片可知
，編號4-1證物之儲槽底部均未配有管路，足以證明該儲槽已呈停用的狀態。原告係於尖底儲槽的下方取樣，所有沉澱物均會集中於尖底處，自然會取得濃度最高的大量的銅沉澱物，及部份的清洗廢水。由此次證物的分析結果來看，編號4-1證物「液體部份」的銅含量只2.04g/L，氯的濃度也不高，只有17g/L，足以說明該儲槽內係含大量自來水之清洗廢水，且廠內清洗廢水有酸性也有鹼性，當酸鹼含銅廢水兩者混在一起後，廢水中銅離子會產生銅的非水溶性沉澱物，且這種銅沉澱物為非水溶性固體，所以它的含銅量一定比清洗廢水之含銅量高。
㈥製程A與製程E最明顯的差異在於製程A有含銅廢液酸鹼中
和沉澱反應，含銅廢液萃取銅含量高，且萃取系統的反萃液種類為鹽酸（HCL），製程E則無含銅廢液酸鹼中和沉澱反應，含銅廢液萃取銅含量低，且萃取系統的反萃液種類為硫酸（H2SO4），98年11月20日原告公司申請法院至被告公司為證據保全當時拍攝的照片與影片資料，並未拍攝到被告公司當時有正在操作含銅廢液的酸鹼中和沉澱反應的作業。原告於證據保全編號2原料廢鹼性蝕刻液時，有拍攝到被告公司當時正在操作萃取系統萃取含銅廢液，其顏色比藍色的水杓還更深，呈現深藍色，由目測判斷可知它是高含銅量的含銅廢液，惟依系爭專利申請專利範圍步驟四，其在萃取製程的部份是採低含銅液萃取模式。此外，依系爭專利申請專利範圍步驟六，系爭專利係採用鹽酸進行反萃，而不得以硫酸為反萃液，被告公司萃取的製程是生產硫酸銅晶體，所以只能用硫酸當反萃液。
㈦並聲明：⒈原告之訴及假執行之聲請均駁回；⒉訴訟費用由
原告負擔；⒊若受不利判決，被告願供擔保，請准宣告免予假執行。
三、本件兩造不爭執之事實：㈠原告於84年11月1日向智慧財產局申請第00000000號「印刷
電路板含銅廢液之回收方法」專利，經智慧財產局於87年9月8日審定核准專利。系爭專利申請專利範圍共計8項，其中第1項為獨立項，其餘為附屬項。第1項之申請專利範圍內容如附件所示，其步驟如下（見本院卷㈠第31頁反面至第33頁反面）：
⒈步驟一、將印刷電路板含銅廢液作中和處理，並形成一弱酸
至弱鹼（pH值為3.5-8），並形成沉澱；⒉步驟二、於上述步驟一中和沉澱後，作分離以分成大量含銅
之固體部及含少量銅之液體部產物；⒊步驟三、將上述步驟二之大量含銅固體部產物回收並作水洗
，以形成有經濟效益之殺蟲藥物之主劑，供販賣及產生含少量銅液；⒋步驟四、將上述步驟二之含少量銅液體部產物回收併入步驟
三水洗後之含少量銅液，並利用R-H有機液體樹脂之萃取劑加以萃取而得含銅之油相產物及含極微量銅之水相產物；⒌步驟五、取上述步驟四的含極微量銅之水相產物，分析所含
NH4Cl量，依分析結累，取固定體積量，加入適當量的氮化銨、氨水等添加劑混合，配製成蝕銅液供印刷電路板廠再使用；然後將上述處理過程後所剩餘含極微量銅水相產物加溫蒸發濃縮成氯化銨結晶以離心機回收，又在加溫蒸發濃縮成氯化銨（NH4Cl）結晶回收過程中當結晶後之母液的Cu+2含量在2000ppm以上時，再將其導回上述步驟二之液體部產物及上述步驟三之含少量銅液中混和供步驟四萃取前液使用；⒍步驟六、將上述步驟四之含銅的油相產物，加入適當量的酸
作反萃而得一水相氯化銅液，及一含鹽少量銅油相產物；其中該水相氯化銅液，可供再回收至步驟一供作循環中和使用，而該含少量銅油相產物可再導回步驟四萃取用。
㈡被告確有授權第三人昶昕公司實施系爭專利，並於98年8月
18日向智慧財產局辦理授權登記，授權期間自98年8月1日起至104年10月31日止（見本院卷㈠第36頁）。㈢被告於98年4月7日向經濟部提出事業廢棄物個案再利用許可
申請書，並於上開申請書將昶昕公司所實施之製程列為再利用機構實績（見本院卷㈠第53頁），於98年5月提出再利用申請第1次修正版，嗣被告公司經經濟部於98年6月26日以經授工字第09820409500號函核准個案再利用許可（核准內容見原證6，本院卷㈠第38-67頁）。
㈣被告於98年12月14日向經濟部申請變更上開事業廢棄物再利
用許可申請書個案第1次修正版核定本第3-27頁至3-31所載之再利用流程，並經經濟部於98年12月24日同意變更申請再利用流程（見原證11，本院卷㈠第275-279頁）。
㈤被告公司曾於97年9月30日、同年11月20日向原告購買RH有
機液體樹脂作為萃取劑，並使用於其實際操作之印刷電路板含銅廢液回收方法（見本院卷㈠第159、160、253頁）。
㈥原告曾向臺灣桃園地方法院申請保全證據獲准，經該院於98
年11月20日偕同原告至被告公司進行證據保全，而取得編號
1公告酸性蝕刻液、編號2廢鹼性蝕刻液、編號3硫酸銅微蝕廢液及編號4-1樣品。
四、按方法專利權人，除本法另有規定者外，專有排除他人未經其同意而使用該方法及使用、為販賣之要約、販賣或為上述目的而進口該方法直接製成物品之權，專利法第56條第2項定有明文。復按當事人主張有利於己之事實者，就其事實有舉證之責任，民事訴訟法第277條前段亦定有明文。本件原告主張被告公司實際操作之印刷電路板含銅廢液回收方法係製程A，亦即經濟部於98年6月26日以經授工字第09820409
500號函核准之再利用流程（見原證6），而已侵害系爭專利申請專利範圍第1項等情，惟為被告所否認，並辯稱其始終均未實施製程A，而係實施製程E，亦即經濟部於98年12月24日核准變更之再利用回收製程等語，依民事訴訟法第27
7條規定，自應由原告就上開有利於己之事實負舉證之責。經查：
㈠製程A之技術內容依經濟部於98年6月26日核准之再利用許可
申請書，其係藉由調整槽將印刷電路板含銅廢鹼性蝕刻液及酸性蝕刻液作中和處理至pH5.5-6.5後，將含有氫氧化銅溶液送至壓濾機脫水，並施加壓力達到固液分離，產生氫氧化銅及濾液，將氫氧化銅與硫酸反應製成硫酸銅結晶體，再加工為硫酸銅成品，濾液則送至濾液沉澱槽，濾液經沉澱後送至萃取槽，以液體樹脂萃取銅離子，萃餘液依氯離子濃度及pH值分別加入適量氯氨及氨水製成鹼性蝕刻液產品（見原證
6，本院卷㈠第51-52頁），製程E之技術內容，依經濟部於98年12月24日核准變更之再利用回收製程，其係將印刷電路板含銅廢鹼性蝕刻液以液體樹脂進行銅離子萃取，而產生含銅之油相產物及含微量銅之水相產物（即萃餘液），將上述含銅之油相產物送入調整槽，並加入公告酸性蝕刻液再次進行銅離子萃取，直至液體樹脂呈現不同顏色，失去萃取能力，上開經二次萃取程序後含有高濃度之銅離子之液體樹脂，利用脫水機產生之硫酸做為離子交換體之再生劑進行反萃取，銅離子從離子交換體被硫酸之氫離子置換出，與硫酸根結合生成硫酸銅。上開萃餘液，若含氯濃度過低，則添加粉狀氯化銨，且加入氨水調整pH值成為鹼性蝕刻液產品（見原證11，本院卷㈠第278頁），是以兩者之主要差異在於製程
A係於步驟一開始即將含銅廢蝕刻液作酸鹼中和處理，製程
E則係先將廢鹼性蝕刻液以液體樹脂進行銅離子萃取，而產生含銅之油相產物及含微量銅之水相產物（即萃餘液）後，始將上述含銅油相產物送入調整槽，並加入公告酸性蝕刻液再次進行銅離子萃取，並未將含銅廢蝕刻液於萃取處理前直接酸鹼中和處理。
㈡原告主張依據被告向經濟部提出之事業廢棄物個案再利用許
可申請書，被告公司每月所收受之廢棄物種類及數量分別為：廢鹼性蝕刻液（每月2263.3噸，含銅量為10%）、硫酸銅微蝕廢液（每月995噸，含銅量0.3%）及廢硫酸銅晶體，其中另需使用公告酸性蝕刻液（每月1236噸，含銅量10%），則被告如使用製程E將含銅鹼性廢液直接加入R-H有機液體樹脂進行萃取，以其有機樹脂容量而言，若未經沉澱法去除大部份的銅，單以萃取方式並無法有效地處理如此大量液態含銅廢棄物，將使得萃取系統負荷過大，導致萃取過程無法有效進行。因此，就化工技術之角度而言，合理之處理方式應先將含銅廢液作中和處理形成沈澱後，作分離以分成大量含銅之固體及含少量銅之液體，再將該含少量銅之液體藉由萃取方式將該少量銅取出（即製程A），而非如被告所宣稱直接進行萃取而不進行中和之製程E，如此方能有效率地處理大量含銅廢液，並且使萃取有效進行，且合乎成本等語。惟查，就化工技術觀點，萃取方式是否可有效地處理大量液態含銅廢棄物，須視其製程規模（scale）、操作條件及製程設計而定，尚無法僅以單一元件之成本觀點而予否定，而且成本概念係以整體製程為考量，通常亦需先配合製程之目的，例如：考量回收再利用後欲做為銷售之成品為何等其他因素，自難僅上開憑臆測而認定被告係實施製程A。
㈢原告另主張依據經濟部工業局派員於98年12月11日會同專家
學者赴被告工廠進行查核時查核輔導委員之現場紀錄表，被告公司實施之製程仍有「中和反應」，亦證被告公司自始並非實施形式上製程E，而係實施製程A等語。經查，經濟部工業局曾於98年12月11日至被告公司進行再利用機構查核輔導，而輔導委員 劉敏信 及 張禎佑 分別於現場紀錄表之「中和反應-pH值調整槽」單元之查核結果勾選「符合」（見本院卷㈡第25、27頁），惟製程E本身即包含一「調整槽」單元，其功能係將未飽和之液體樹脂加入公告酸性蝕刻液作為萃取時pH調整液，再次進行銅離子萃取，直至液體樹脂呈現不同顏色，失去萃取能力（見本院卷㈡第278頁），該調整槽內反應係於經液體萃取劑萃取之未飽和之液體樹脂加入公告酸性蝕刻液做為pH值調整，本身即屬中和反應之一種，雖製程
E之中和反應與製程A一開始即利用廢鹼蝕刻液及廢酸蝕刻液中和產生固體，再將去除固體後的濾液利用液體濾液萃取有別，惟製程E既包含一調整槽作為pH值之調整，故上開查核結果仍不足證明被告確係實施製程A。此外，製程A係藉由調整槽使公告酸性蝕刻液及廢鹼性蝕刻液中和後，將含有氫氧化銅溶液送至壓濾機脫水及施加壓力達到固液分離，而產生氫氧化銅（見本院卷㈠第51頁），故氫氧化銅為製程A之主要固體產品，惟經濟部工業局輔導委員劉敏信及張禎佑於上開現場紀錄表之「沉澱壓濾」單元「固體：氫氧化銅（產品）」查核結果均勾選「不符合」，並分別記載不符合原因為「目前流程未產生氫氧化銅」、「擅自改變再利用製程」（見本院卷㈡第25、27頁），足見被告公司實際操作之製程並未產生氫氧化銅，而氫氧化銅既為製程A之主要固體產品，益徵被告公司並非實施製程A。反之，製程E並未產生氫氧化銅產品，而係直接生成硫酸銅產品（見本院卷㈠第277-279頁），參以被告確曾於98年12月14日向經濟部申請變更上開事業廢棄物再利用許可申請書個案第1次修正版核定本第3-27頁至3-31所載之再利用流程，並經經濟部於98年12月24日同意變更申請再利用流程為製程E，業如前述，自難僅憑上開現場紀錄表而證明被告係實施製程A，而非製程
E。㈣原告雖主張依臺灣檢驗科技股份有限公司就證據保全之編號
1公告酸性蝕刻液、編號2廢鹼性蝕刻液、編號3硫酸銅微蝕廢液及編號4-1樣品之檢測結果，編號1至3含銅廢液之銅氯比小於1，編號4-1之沈澱壓濾後濾液之銅氯比卻反轉大於1，銅氯比反轉之原因係因進行中和反應所致，且編號4-1之沈澱壓濾後濾液之液體部分含銅量為2.04g/L，固體部分含銅量為36.16g/L，根據該濾液固體部份及液體部分含銅量之差異，亦可證明該濾液固體部分係經中和反應所形成，且編號4-1係沈澱壓濾後之濾液，而非洗地水，加水沖洗不會使溶液之成分比例發生改變，足證被告公司係實施製程A，且編號4-1液體之儲槽槽壁及槽底皆配有閥件，該閥件之功能即在裝設活動式接管及控制槽內液體之流出，顯見被告係以活動式接管進行輸送等語，惟為被告所否認，並辯稱：編號4-1之儲槽係停用狀態，該液體是清洗桶槽殘餘的水等語。
經查：
⒈於化工反應器（ractor）或槽體（vessel）之設計，該反應
器或槽體必有進料或出料，故均會有進或出口管件，而只要有進或出口管件，閥件（valve）之裝設乃為基本且必備之設計，以供流體開關控制之用，自難僅因該儲槽有閥件之配備，即推定儲槽係呈使用狀態。況於化工製程上，管線設計乃是極重要之課題，於常設性且穩態運作之工廠，倘以活動式接管進行流體輸送之設計，非但浪費成本、耗費人力，更無法使製程正常運作。另依臺灣桃園地方法院於98年11月20日偕同原告至被告公司進行證據保全之筆錄記載：「廠區後方，聲請人（即原告）表示有看到編號4濾液，相對人稱是空槽，若有東西願給聲請人取樣，請警員拍照並請聲請人派人開啟槽閥，閥口有液體流出，聲請人取樣。」（見桃院保全卷第72頁），參以證據保全時所拍攝影片之內容所示，編號4-1液體所取樣之儲槽底確未配有固定管路管路連接前後製程設備（見本院卷㈡第222、223頁），自難認該儲槽係屬製程A或E正常運作製程之設備，是被告辯稱該儲槽係停用狀態，尚非無據。
⒉原告雖主張由證據保全影片顯示編號4-1取樣之濾液沉澱槽
儲槽架及地面受污染情形，足證該濾液沉澱槽係持續常態運作中等語。經查，依證據保全影片所示，編號4-1樣品取樣之儲槽底部排出閥前方地面確有一收集井，而收集井附近地面確有污染痕跡（見本院卷㈡第170頁反面），惟當儲槽洩漏、排放或清洗時其內容物本即可能污染附近地面，此即儲槽附近通常設有收集井或防溢堤之目的，而該洩漏、排放或清洗物若為酸、鹼液或腐蝕性質，即可能在地面留下長久痕跡，故儲槽或反應器附近地面有污染痕跡屬化工廠常見之現象，上開影片僅能說明該儲槽附近地面有污染痕跡，至於何時污染、污染物為何均無法由影片證明，自亦無法由該儲槽附近地面有污染痕跡即認定該儲槽於證據保全時仍為持續常態運作中。
⒊再者，原告雖主張編號4-1樣品係將經中和反應形成之固體
水洗後所產生之液體，亦即係被告公司實施製程A「將含銅廢液中和處理形成沈澱，作分離以分成大量含銅之固體及含少量銅之液體，將含銅固體產物回收並作水洗」所產生之液體（準備㈤狀第4頁，見本院卷㈡第132頁）。惟查，製程
A係將含銅廢蝕刻液酸鹼中和後，以壓濾機脫水及施加壓力達到固液分離，其分離生成之含銅固體為氫氧化銅，氫氧化銅再包裝後成為產品銷售或作為硫酸銅製程（見本院卷㈠第
51頁），然依製程A之再利用流程並未揭示將氫氧化銅回收並作水洗之步驟（見原證6）。此外，經濟部工業局於98年12月11日派員至被告公司查核時，現場製程並未產生氫氧化銅，已如前述，則被告公司實施之製程既未產生氫氧化銅，自亦無將氫氧化銅水洗處理產生液體之可能，是原告主張編號4-1係將經中和反應形成之固體水洗後所產生之液體，尚非有據。況所謂「沈澱壓濾後之濾液」依定義應指利用沉澱法及壓濾法（指利用壓力並以濾布做分離之固液分離方法）做固液分離後之濾液，縱如原告主張被告公司係實施製程A，則編號4-1「沈澱壓濾後之濾液」應係編號1公告酸性蝕刻液或編號3硫酸銅微蝕廢液與編號2廢鹼性蝕刻液中和後，以壓濾機脫水及施加壓力後所產生之濾液，即等同系爭專利申請專利範圍第1項步驟二所產生之含少量銅液體部產物，此時，因大部分之固體成分已從上開濾液中去除，故濾液中所殘餘之固體成分應屬少量，而依臺灣檢驗科技股份有限公司之檢驗結果，編號1公告酸性蝕刻液含氯量（289g/L）大於其含銅量（149g/L），其銅氯比為1：1.94；編號
2之廢鹼性蝕刻液含氯量（195g/L）大於其含銅量（52.2g/
L），其銅氯比為1：3.74；編號3之硫酸銅微蝕廢液含氯量（116g/L）大於其含銅量（10.5g/L），其銅氯比為1：11.05（見本院卷㈡第103-107頁），是編號1至3廢蝕刻液之銅氯比均小於1，倘編號4-1係編號1至3廢液中和後壓濾產生之濾液，其銅氯比亦應小於1，然依檢驗結果，編號4-1之沈澱壓濾後濾液含氯量（17g/L）小於其含銅量（38.2g/L），其銅氯比為2.25：1（見本院卷㈡第109-11
1頁），故自編號4-1樣品尚難認定被告公司係實施製程A。
⒋復查，法院於保全編號4-1樣品時係由聲請人派人開啟槽閥
取集閥口流出之液體，業如前述，惟斯時採樣之儲槽底部並未配置管路，不問被告是否係以活動式接管進行輸送，因採樣之儲槽係處於靜置狀態，而非穩定運作之狀態，故其儲槽內容物若有固體物必然多係沉澱於槽底，此由編號4-1樣品經目測其固態物於靜置時亦係沉澱試瓶底部可知（見原證25，本院卷㈡第173頁照片），則於儲槽底部閥件取樣，其所得樣品必然具有較多之固態沉澱物，而無法正確顯示儲槽正常運作時其內容物之均勻組成，即不得執編號4-1之檢驗結果與編號1至3廢蝕刻液進行比對，更遑論據此推斷被告公司係實施製程A。
⒌原告又主張被告公司倘未實施經濟部再利用許可所核准之製
程A，其應向桃園縣政府環保局辦理事業廢棄物清理計畫書變更申請，被告公司既未向桃園縣政府環保局提出上開申請，顯見其係實施製程A，而非製程E等語，經查，依被告公司向經濟部工業局先後申請個案再利用許可、變更及向桃園縣政府環保局提出之事業廢棄物清理計畫書、甲級廢棄物處理機構同意設置申請書所揭示之內容，確有不同版本之製程（見原證8至12），惟查，經濟部工業局於98年12月11日派員至被告公司查核時，被告公司確已改變再利用製程（見本院卷㈡第27頁），業如前述，而被告公司是否依據廢棄物清理法之規定向桃園縣政府環保局申請變更事業廢棄物清理計畫，核屬被告公司是否違反上開行政法規，而須受行政罰鍰或勒令停工之問題，尚無從憑此推定被告公司係實施製程A，原告仍應舉證證明被告公司確係實施系爭專利申請專利範圍第1項所示之方法步驟。
㈤末查，被告自承其均係實施製程E（見本院卷㈡第6頁），經比對製程E及系爭專利申請專利範圍第1項如下：
⒈系爭專利申請專利範圍第1項，其技術特徵可解析為7個要
件，分別為編號1要件「一種印刷電路板含銅廢液之回收方法，係包含有:」，編號2要件「步驟一、將印刷電路板含銅廢液作中和處理，並形成一弱酸至弱鹼(pH值為3.5-8)，並形成沉澱；」，編號3要件「步驟二、於上述步驟一中和沉澱後，作分離以分成大量含銅之固體部及含少量銅之液體部產物;」，編號4要件「步驟三、將上述步驟二之大量含銅固體部產物回收並作水洗，以形成有經濟效益之殺蟲藥物之主劑，供販賣及產生含少量銅液；」，編號5要件「步驟
四、將上述步驟二之含少量銅液體部產物回收併入步驟三水洗後之含少量銅液，並利用R-H有機液體樹脂含胺類(Amine
s)、系列(O-ximes)及其衍生物或是以雙酮類(Dik-etones)、環狀碳羥基酸類(C-yclicCarboxylicAcid)、磷酸酯類(PhosphoricAcidEsters)等化合物之萃取劑加以萃取而得含銅之油相產物及含極微量銅之水相產物，其中:R-H有機液體樹脂在各類使用的種類參照申請專利範圍第1項所載；」，編號6要件「步驟五、取上述步驟四的含極微量銅之水相產物，分析所含NH4Cl量，依分析結累，取固定體積量，加入適當量的氮化銨、氨水等添加劑混合，配製成蝕銅液供印刷電路板廠再使用；然後將上述處理過程後所剩餘含極微量銅水相產物加溫蒸發濃縮成氯化銨結晶以離心機回收，又在加溫蒸發濃縮成氯化銨(NH4Cl)結晶回收過程中當結晶後之母液的Cu+2含量在2000ppm以上時，再將其導回上述步驟二之液體部產物及上述步驟三之含少量銅液中混和供步驟四萃取前液使用；」、編號7要件「步驟六、將上述步驟四之含銅的油相產物，加入適當量的酸作反萃而得一水相氯化銅液，及一含鹽少量銅油相產物；其中該水相氯化銅液，可供再回收至步驟一供作循環中和使用，而該含少量銅油相產物可再導回步驟四萃取用。」。
⒉其次，製程E係一種印刷電路板含銅廢液之回收方法（見原
證11，本院卷㈠第275-279頁），包含有：步驟一、印刷電路板含銅廢鹼性蝕刻液以R-H有機液體樹脂進行萃取，而得含銅之油相產物及含微量銅之水相產物；步驟二、將上述步驟一所得之含銅油相產物進入調整槽，並加入公告酸性蝕刻液再次進行銅離子萃取，直至液體樹脂呈現不同顏色，失去萃取能力；步驟三、將上述步驟二產生之萃取餘液再返送至步驟一之乾淨之液體樹脂進行二次萃取，以防止萃餘液中含有微量銅離子，其中步驟一中R-H有機液體樹脂係採系爭專利製程中所使用相同成分的萃取劑；步驟四、取上述步驟一的含微銅之水相產物（萃餘液），當成廢水送至廢水處理系統處理；或分析所含NH4Cl量，依分析結果，加入適當量的NH3或氯化銨添加劑混合，配置成鹼性蝕刻液供印刷電路板廠再使用；步驟五、將步驟二中經二次萃取程序後含有高濃度之銅離子之液體樹脂，利用脫水機產生之濃硫酸做為離子交換體之再生劑進行反萃取，銅離子從離子樹脂中被硫酸之氫離子反萃置換出，與硫酸根結合生成硫酸銅，經油水相分離後，反萃後之液體樹脂則送回步驟一中使用；步驟六、將步驟五中之含硫酸銅水相進入結晶槽，再加入硫酸銅微蝕廢液（及/或硫酸）提高硫酸銅濃度，進行結晶；步驟七、將上述硫酸銅及廢硫酸銅晶體置入離心脫水機，脫出液迴流至飽合水槽貯存做為液體樹脂之再生劑，硫酸銅晶體則於脫水完成及化驗合格後逕予包裝成產品銷售。
⒊製程E與系爭專利申請專利範圍第1項雖均為一種印刷電路
板含銅廢液之回收方法，惟製程E欠缺系爭專利申請專利範圍第1項編號2至4之要件（即步驟一至步驟三），系爭專利申請專利第1項要件編號2至4要件（即步驟一至步驟三）之內容主要係將印刷電路板含銅廢液作中和處理，形成一弱酸至弱鹼（pH值為3.5-8），並形成沉澱，接著做分離，所得大量含銅固體部產物回收並作水洗，以形成有經濟效益之殺蟲藥物之主劑，故系爭專利申請專利範圍第1項之回收方法所產生之銅固體產物，主要係透過酸鹼中和反應，製程
E雖亦有硫酸銅固體產物，惟其並無將含銅廢蝕刻液於萃取處理前直接酸鹼中和之步驟，且該硫酸銅產物並非藉由將含銅廢蝕刻液於萃取處理前直接酸鹼中和產出，而係將廢鹼性蝕刻液以液體樹脂直接進行萃取，並於液體樹脂反萃取步驟中，以濃硫酸反萃取飽和含銅液體樹脂併同產出，且系爭專利申請專利範圍第1項步驟六已明確界定反萃取之藥劑為鹽酸，顯見製程E與系爭專利申請專利範圍第1項之固體產出步驟並不相同，其所使用之原料及化合反應方式亦不相同，即不符合全要件原則，製程E並未落入系爭專利申請專利範圍第1項之文義或均等範圍。
五、綜上，依原告所提出之證據尚不足以證明被告公司實際操作之印刷電路板含銅廢液回收方法落入系爭專利申請專利範圍第1項，從而，原告依據專利法第84條第1項前段、第85條第3項，民法第184條第1項前段、第2項及同法第185條，公司法第8條、第23條之規定，請求被告等連帶給付80,000,000元，及自起訴狀繕本送達翌日起至清償日止按年息百分之5計算之利息，為無理由，應予駁回。原告之訴既經駁回，其假執行之聲請亦失所附麗，應併予駁回。
六、本件事證已臻明確，兩造其餘主張陳述及所提之證據，經本院斟酌後，認與判決結果不生影響，均毋庸再予論述，附此敘明。
七、訴訟費用負擔之依據：民事訴訟法第78條。中華民國99年12月14日
智慧財產法院第一庭
法官林欣蓉以上正本係照原本作成。
如對本判決上訴，須於判決送達後20日內向本院提出上訴狀。
如委任律師提起上訴者，應一併繳納上訴審裁判費。
中華民國99年12月14日
書記官周其祥